曝光设备、曝光方法以及器件制造方法技术

曝光设备、曝光方法以及器件制造方法。在晶片工作台上设置构成编码器系统的多个头，并且，基于与刻度板（21）（衍射光栅（RG））相对的头的输出来测量晶片工作台在XY平面内的位置信息。并且，此处通过设置在各个头内的测量系统（640）来测量各个头（例如头（60C））与晶片工作台的相对位置（包括相对姿态和旋转）。因此，通过基于所测量的相对位置的信息来校正位置信息，即使在该头的位置（姿态、旋转）随晶片工作台的移动而变化的情况下，仍然也可以对晶片工作台的位置信息进行高精度测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及可移动体系统、可移动体驱动方法、图案形成设备、图案形成方法、曝光设备、曝光方法和器件制造方法，并且，具体地说，涉及包括基本上沿预定平面移动的可移动体的可移动体系统、驱动该可移动体的可移动体驱动方法、配备有该可移动体系统的图案形成设备、使用该可移动体驱动方法的图案形成方法、配备有该可移动体系统的曝光设备、使用该可移动体驱动方法的曝光方法以及使用该曝光设备或使用该曝光方法的器件制造方法。
技术介绍
通常，在用于制造诸如半导体器件(诸如集成电路)和液晶显示器的电子器件(微型器件)的光刻工艺中，主要使用的曝光设备诸如是通过步进重复(step-and-repeat)方法的投影曝光设备(所谓“步进器”)，或通过步进扫描方法的投影曝光设备(所谓“扫描步进器”(也称为扫描仪))。未来，半导体器件的集成度将更高，并且，随之可以确定的是，在晶片上形成的电路图案将更精细，并且，在用于半导体器件的大规模生产设备的曝光设备中需要进一步提闻对晶片的位置检测精度等。例如，在美国专利申请公开No. 2006/0227309中，公开了一种曝光设备，其采用安装在衬底台上的编码器型传感器(编码器头)。然而，在将编码器头安装在衬底台上的情况下，衬底台的移动(针对衬底台所附加的加速)将会改变编码器头相对于衬底台的设置位置和/或设置姿态，并且，存在着对使用这种编码器头的衬底台的位置测量精度劣化的风险。
技术实现思路
本专利技术考虑了上述情形，并且根据本专利技术的第一方面，提供了一种可移动体系统，该可移动体系统包括可移动体，其基本上沿预定平面移动；测量装置，其具有设置在所述可移动体的表面上的多个编码器头，并且，基于面对位于该可移动体之外、与所述预定平面平行设置的光栅部的至少一个编码器头的输出，来测量该可移动体的位置信息；以及驱动装置，其基于所述测量装置所测量的位置信息并基于在该位置信息的测量中所使用的编码器头同所述可移动体之间的相对位置的信息，来驱动该可移动体。根据该系统，基于所述测量装置所测量的所述可移动体在所述预定平面内的位置信息并基于在该位置信息测量中所使用的、面对与所述预定平面平行设置的光栅部的至少一个编码器头同所述可移动体之间的相对位置的信息，来驱动所述可移动体。因此，根据可移动体的驱动，即使编码器头相对于可移动体移动，但是对于可移动体，仍然可以对可移动体的位置信息进行高精度测量，或者进而对可移动体进行高精度驱动控制。根据本专利技术的第二方面，提供了一种在物体上形成图案的图案形成设备，该设备包括根据本专利技术的可移动体设备，其中，所述物体安装在所述可移动体上；以及构图装置，其在安装于所述可移动体上的物体上生成图案。根据该设备，可以高精度地在物体上形成图案。根据本专利技术的第三方面，提供了一种通过照射能量束来在物体上形成图案的曝光设备，该曝光设备包括构图装置，其向所述物体上照射能量束；根据本专利技术的可移动体系统，其中，所述物体安装在所述可移动体上；以及安装有所述物体的可移动体被驱动，以实现所述能量束与该物体的相对移动。·根据该设备，通过扫描曝光可以高精度地在所述物体上形成图案。根据本专利技术的第四方面，提供了一种器件制造方法，该方法包括以下步骤使用本专利技术的曝光设备来对物体进行曝光；以及对曝光后的物体进行显影。根据本专利技术的第五方面，提供了一种可移动体驱动方法，该方法包括测量过程，其中，在基本上沿预定平面移动的可移动体的表面上设置的多个编码器头中，基于面对位于该可移动体之外、与该预定平面平行设置的光栅部的至少一个编码器头的输出，来测量该可移动体的位置信息；以及驱动过程，其中，基于所测量的位置信息并基于在该位置信息测量中所使用的编码器头同所述可移动体之间的相对位置的信息，来驱动该可移动体。根据该方法，在所述驱动过程中，基于所述测量过程中所测量的所述可移动体在所述预定平面内的位置信息并基于在该位置信息测量中所使用的、面对与所述预定平面平行设置的光栅部的至少一个编码器头同所述可移动体之间的相对位置的信息，来驱动所述可移动体。因此，根据可移动体的驱动，即使编码器头相对于可移动体移动，但是对于可移动体，仍然可以对可移动体的位置信息进行高精度测量，或者进而对可移动体进行高精度驱动控制。根据本专利技术的第六方面，提供了一种在物体上形成图案的图案形成方法，该方法包括驱动过程，其中，使用本专利技术的可移动体驱动方法，沿预定平面来驱动保持住所述物体的可移动体，以形成所述图案。根据该设备，可以高精度地在物体上形成图案。根据本专利技术的第七方面，提供了一种通过照射能量束来在物体上形成图案的曝光方法，该方法包括驱动过程，其中，使用本专利技术的可移动体驱动方法来驱动保持住所述物体的可移动体，以形成图案。根据该方法，通过使用照射能量束来对物体进行曝光，可以高精度地在物体上形成图案。根据本专利技术的第八方面，提供了一种器件制造方法，该方法包括曝光过程，其中，使用本专利技术的曝光方法来对物体进行曝光；以及显影过程，其中，对曝光后的物体进行显影。附图说明图I是示意性示出一个实施方式的曝光设备的配置的图。图2是解释编码器头和干涉仪的设置的图。图3是图I中的晶片台的一部分断裂的放大图。图4是图3中的圆圈C的部分被放大的图。图5是用于解释头内配置的图。图6是示出图I中的曝光设备中与台控制相关的控制系统的主要配置的框图。具体实施例方式下面参照图I至图6描述本专利技术的实施方式。图I示出本实施方式中的曝光设备100的示意性配置。曝光设备100是使用步进扫描方法的投影曝光设备，即，所谓的扫描仪。如稍后描述，在该实施方式中设置投影光学系统PL,并且在下面的描述中,将平行于投影光学系统PL的光轴AX的方向称为Z轴方向，将位于与Z轴方向正交的平面内的、对掩模板和晶片进行相对扫描的方向称为Y轴方向,将 与Z轴和Y轴正交的方向称为X轴方向，并且，分别将绕X轴、Y轴和Z轴的旋转(倾斜)方向称为θχ、0y和θζ方向。曝光设备100配备有照射系统10、支撑掩模板R的掩模板台RST、投影单元PU、包括晶片台WST (其上安装晶片W)的晶片台装置50、用于这些部件的控制系统等。例如，如美国专利申请公开No. 2003/0025890等中所公开，照射系统10包括光源、包括光学积分器等的照度均匀光学系统以及具有掩模板遮帘等的照射光学系统等(均未示出)。照射系统10通过使用基本上均匀照度的照射光(曝光用光)IL，来照射使用掩模板遮帘(掩膜系统)而设置在掩模板R上的狭缝形照射区域IAR。在这种情况下，例如，ArF准直器激光束(波长193nm)用作照射光IL。在掩模板台RST上，例如通过真空吸附来固定掩模板R，在该掩模板的图案表面(图I的下表面)上形成有电路图案等。例如，通过包括线性电动机等的掩模板台驱动部11(在图I中未示出，参照图6)，在XY平面内精细地驱动掩模板台RST，并且还可以按照预定扫描速度在扫描方向(在这种情况下，为Y轴方向，图I中纸面的水平方向)驱动掩模板台RST。例如，如图I所示，以约O. 25nm的分辨率，通过掩模板激光干涉仪(此后，称为“掩模板干涉仪”)16来连续检测XY平面(运动平面)中掩模板台RST的位置信息(包括Θ z方向上的位置信息(此后，也称为Θ z旋转量))，该掩模板激光干涉仪在可移动镜15 (该镜子实际上设置为具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过投影系统用曝光束对基板进行曝光的曝光设备，所述设备包括：支撑所述投影系统的框架；具有工作台和主体部的台系统，所述基板安装在所述工作台上，所述主体部以非接触方式支撑所述工作台；具有多个头的测量装置，每个头的至少一部分设置在所述工作台处，所述测量装置通过所述多个头中面对设置在所述框架处的光栅部的至少一个头来测量所述工作台的位置信息；以及控制器，所述控制器基于在所述位置信息的测量中使用的头的位移信息或对由于该头的位移导致的所述位置信息的测量误差进行补偿的校正信息、并且基于测量的位置信息，控制所述台系统。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金谷有步，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：