【技术实现步骤摘要】
本技术涉及的是一种用于硅片光刻胶的双面曝光机。
技术介绍
在现有技术中，公知的技术是在生产二极管的过程中，需要对硅片表面的光刻胶进行光照，通过光照让负性光刻胶产生胶链变硬，产生一层保护层，现在使用的曝光机大多都是单面曝光，这样在曝光另一面时候，极易使硅片受到污染，增加了二极管的生产成本，这是现有技术所存在的不足之处。
技术实现思路
本技术的目的，就是针对现有技术所存在的不足，而提供一种用于硅片光刻 胶的双面曝光机的技术方案，该方案的双面曝光机，可以提高生产效率，设计简单，操作方便，便于清洁，减少灰尘物的产生，减少设备造成的卫生死角对无尘室的影响，减少空间占有面积。本方案是通过如下技术措施来实现的一种用于硅片光刻胶的双面曝光机，包括带有控制面板的壳体，所述的壳体固定在工作台上，本方案的特点是所述的壳体内设置有两个曝光灯，所述的两个曝光灯分别设置在壳体的上部和下部，在两个曝光灯之间设置有活动挡板，所述的活动挡板到两个曝光灯的距离相同。工作台中部设置用于固定所述壳体的固定口。本方案的有益效果可根据对上述方案的叙述得知，由于在该方案中有控制面板可以控制曝光灯的开和关，曝光灯为两个，可以一次进行双面曝光；活动挡板利于曝光的进行，还可以对下面的曝光灯进行遮挡，对一些需要单面曝光的硅片光刻胶进行曝光，要双面曝光时，可以将活动挡板收起。由此可见，本技术与现有技术相比，具有实质性特点和进步，其实施的有益效果也是显而易见的。附图说明图I为本技术具体实施方式的结构示意图。图2为工作台的俯视图。图中，I为壳体，2为控制面板，3为工作台，4为曝光灯，5为活动挡板，6为固定口。具体实施...
【技术保护点】
一种用于硅片光刻胶的双面曝光机，包括带有控制面板的壳体，所述的壳体固定在工作台上，其特征是：所述的壳体内设置有两个曝光灯，所述的两个曝光灯分别设置在壳体的上部和下部，在两个曝光灯之间设置有活动挡板，所述的活动挡板到两个曝光灯的距离相同。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈思太，盛春芳，李修强，
申请(专利权)人：淄博晨启电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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