The invention discloses a wafer cleaning device and method for cashmere wool, the cleaning device comprises a tank body, to damage the first overflow cleaning tank, texturing tank, washing tank, the first second overflow tank, third overflow acid cleaning tank, mechanical arm, baskets and claw arm above the level set in mobile each slot, the claw is arranged on the mechanical arm, the robotic arm is integrally connected with a spraying device controlled by the controller, the basket at both ends is extended with a clamping claw card extension end of the silicon wafer in a basket of flowers, mechanical arm, spray device and claw under uplift drive the basket of up and down movement of the wafer is placed in the basket in each tank cleaning. The invention can be in the normal production line, in order not to increase the silicon solar cell production step, maximize the wafer surface quality after cleaning after wool making, without increasing the processing time, does not affect the production of enterprises, and ultimately improve the battery performance.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗制绒装置及其方法
本专利技术涉及太阳能电池板制造
,更具体地说,涉及一种硅片清洗制绒装置及其方法。
技术介绍
光伏发电是利用半导体界面的光生伏特效应而将光能直接转变为电能的一种技术,是当前利用太阳能的主要方式之一,光伏发电因其无枯竭危险;安全可靠,无噪声,无污染排放外,绝对干净(无公害);不受资源分布地域的限制,可利用建筑屋面的优势;例如,无电地区,以及地形复杂地区;无需消耗燃料和架设输电线路即可就地发电供电;能源质量高等优点,已成为世界各国普遍关注和重点发展的新兴产业。因此,深入研究和利用太阳能资源,对缓解全球资源危机、改善生态环境具有十分重要的意义。目前,单、多晶硅太阳电池的主要制造工艺已经标准化,其主要步骤如下:a.化学清洗及表面织构化处理:通过化学反应使原本光亮的硅片表面形成凸凹不平的结构以增加光的吸收。b.扩散:P型硅片在磷扩散后表面变成N型,形成PN结,使得硅片具有光伏效应。扩散的浓度、深度以及均匀性直接影响太阳电池的电性能,扩散进杂质的总量用方块电阻来衡量,杂质总量越小,方块电阻越大。c.周边刻蚀:该步骤的目的在于去掉扩散时在硅片边缘形成的将PN结两端短路的导电层。d.沉积减反射膜:目前主要有两类减反射膜,氮化硅膜和氧化钛膜,主要起减反射和钝化的作用。e.印刷电极。f.烧结:使印刷的电极与硅片之间形成合金的过程。在太阳能电池的主要制造工艺中,清洗制绒工艺是第一步工艺,其作用是去除硅片制造过程中留存在硅片表面的杂质,然后在硅片的表面形成均匀的小且密的绒面,增加对光的吸收,同时保证后续的磷扩散工艺、PECVD工艺,进而保证丝网烧 ...
【技术保护点】
一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:包括去损伤槽体(1)、第一溢流清洗槽(2)、制绒槽体(3)、第二溢流清洗槽(4)、第一酸槽体(5)、第三溢流清洗槽(6)、机械臂(7)、花篮和卡爪(8),六个槽体并排排列,所述机械臂(7)水平移动地设置于各个槽体的上方,所述卡爪(8)设置于所述机械臂(7)上,所述机械臂(7)上还一体连接有一由控制器控制的喷淋装置(9),所述花篮的两端均延伸设置有与所述卡爪(8)卡接的延伸端(81),所述硅片放置于所述花篮中,所述机械臂(7)、所述喷淋装置(9)和所述卡爪(8)上下抬升运动时带动所述花篮上下运动,实现放置在花篮中的硅片在各个槽体内的清洗。
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:包括去损伤槽体(1)、第一溢流清洗槽(2)、制绒槽体(3)、第二溢流清洗槽(4)、第一酸槽体(5)、第三溢流清洗槽(6)、机械臂(7)、花篮和卡爪(8),六个槽体并排排列,所述机械臂(7)水平移动地设置于各个槽体的上方,所述卡爪(8)设置于所述机械臂(7)上,所述机械臂(7)上还一体连接有一由控制器控制的喷淋装置(9),所述花篮的两端均延伸设置有与所述卡爪(8)卡接的延伸端(81),所述硅片放置于所述花篮中,所述机械臂(7)、所述喷淋装置(9)和所述卡爪(8)上下抬升运动时带动所述花篮上下运动,实现放置在花篮中的硅片在各个槽体内的清洗。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:所述6个槽体相互之间均设置有用于隔离的隔板。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:所述6个槽体上方均自动开合连接有一槽盖。4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:所述机械臂的两端对称固定设置有两对卡爪,所述卡爪(8)为倒7字型,每对所述卡爪的下端分别开设有一用于挂设所述花篮的延伸端(81)。5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:所述喷淋装置(9)上设置有喷嘴,所述喷嘴连接至清洗剂供给管路。6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:所述喷淋装置(9)包括至少一根管路,每个所述管路上均开设有多个用于喷射的喷孔,每个所述管路为耐腐蚀的管路。7.根据权利要求1所述的一种硅片清洗制绒装置,其特征在于:还包括并排排列的第四溢流清洗槽、第二酸槽体和第三酸槽体。8.如权利要求1-7中任一所述的一种硅片清洗制绒方法,其特征在于:包括如下步骤:S1、槽盖打开,所述机械臂向下运动将放置有硅片的花篮放置于所述去损伤槽体中进行清洗,该清洗时间为3min,所述去损伤槽内的溶液为氢氧化钾、双氧水和纯水的混合溶液,所述机械臂向上运动将放置有硅片的花篮从所述去损伤槽...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩林之,
申请(专利权)人:中建材浚鑫科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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