用于硅片清洗的氢氟酸补液装置制造方法及图纸

技术编号:7279969 阅读:274 留言:0更新日期:2012-04-19 16:26
本实用新型专利技术公开了一种用于硅片清洗的氢氟酸补液装置,包括补液桶、与补液桶相连接的补液干路、与补液干路相连接且设有自动补液阀的自动补液支路及与补液干路相连接且设有手动补液阀的手动补液支路,补液干路上设有阀门装置。如此设置,本实用新型专利技术公开的用于硅片清洗的氢氟酸补液装置,可规避因更换或清洗自动补液阀或手动补液阀,导致氢氟酸泄露的问题。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池加工
,特别涉及一种用于硅片清洗的氢氟酸补液装置
技术介绍
由于人类对能源的不断需求及地球上能源地不断减少,促使人们致力于开发新型能源。太阳在四十分钟内照射到地球表面的能量可供全球目前能源消费的速度使用一年, 合理地利用好太阳能将是人类解决能源问题的长期发展战略,是新能源中最受瞩目的研究项目之一。太阳能电池是一种能有效地吸收太阳辐射能,并使之转变为电能的半导体器件, 由于其利用各种势垒的光生伏特效应,所以也称为光伏电池,其核心是可释放电子的半导体。最常用的半导体材料是硅,地壳硅储量丰富,可以说是取之不尽用之不竭。太阳能电池的生产工艺中,硅片的清洗是不可缺少的一道工序,目前,硅片的清洗一般采用氢氟酸溶液对硅片进行清洗。请参考图1,图1为现有技术中用于硅片清洗的氢氟酸补液装置示意图。硅片的清洗系在补液桶01内进行的,随着硅片清洗工序的进行,需向补液桶01内不断补入氢氟酸溶液,以能够较彻底对硅片进行清洗。氢氟酸补液管路上设有自动补液阀 02和手动补液阀03,当二者或二者之一为打开状态时,氢氟酸补液管路可向补液桶01内不断地补入氢氟酸溶液。由于自动补液阀02和手本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭贵东陈光吴磊
申请(专利权)人:浚鑫科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术