【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成将要形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层 上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来福射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸没到具有相对高的折射率的液体中(例如水)，...
【技术保护点】
一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台包括：支撑部分，配置成在其上表面上支撑衬底的下表面；和调节系统，配置成将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分移除热能；其中，当通过支撑部分支撑衬底时，衬底热耦合至支撑部分，使得当调节系统将热能供给至支撑部分或从支撑部分移除热能时，能量又分别从支撑部分传递至衬底或从衬底传递至支撑部分；和支撑部分、调节系统或两者配置成使得对于调节系统的操作所导致的衬底的每单位面积上的至衬底或来自衬底的热传递，在邻近衬底边缘的衬底的第一区域中的比在衬底中心处的衬底的第二区域中的大。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J·G·C·昆尼，M·霍本，T·S·M·劳伦特，H·J·M·凡阿毕伦，A·R·J·达森，S·C·R·德尔克斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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