用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法技术

本发明专利技术公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成将要形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层 上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来福射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸没到具有相对高的折射率的液体中(例如水)，以便填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在一实施例中，液体是蒸馏水，但是也可以使用其他液体。将参照液体描述本专利技术的实施例。然而，其他流体也是适用的，尤其是浸润流体、不可压缩的流体和/或具有较空气高的折射率的流体，期望具有比水高的折射率。不包括气体的流体是尤其想要的。其重点在于允许对较小特征进行成像，因为曝光辐射在液体中将具有较短的波长。(液体的效果也可以认为是提高系统的有效数值孔径同时增加了焦深。)也提出了其他的浸没液体，包括含有悬浮的固体(例如，石英)颗粒的水，或具有纳米颗粒悬浮物(例如具有最大尺寸为IOnm的颗粒)的液体。悬浮颗粒可以具有或不具有与其悬浮所在的液体类似或相同的折射率。其他可能合适的液体包括烃，例如芳香烃、氟化烃和/或水溶液。将衬底或衬底和衬底台浸入液体浴器(参见，例如美国专利No. US4, 509，852)意味着在扫描曝光过程中需要加速很大体积的液体。这需要额外的或更大功率的电动机，而液体中的湍流可能会导致不希望的或不能预期的效果。在浸没设备中，浸没流体由流体处理系统、装置结构或设备来处理。在一实施例中，流体处理系统可以供给浸没流体，因而是流体供给系统。在一实施例中，流体处理系统可以至少部分地限制浸没流体，因而是流体限制系统。在一实施例中，流体处理系统可以提供阻挡浸没流体的阻挡件，因而是阻挡构件(例如流体限制结构)。在一实施例中，流体处理系统可以产生或使用气流，例如以便帮助控制浸没流体的流动和/或位置。气流可以形成密封以限制浸没流体，因而流体处理结构可以称为密封构件；这种密封构件可以是流体限制结构。在一实施例中，浸没液体被用作浸没流体。在这种情况下，流体处理系统可以是液体处理系统。参照前面提到的内容，在本段落中提到的有关流体的限定特征可以被理解成包括有关液体的限定特征。
技术实现思路
在光刻设备中使用浸没流体可以引入特定的困难。例如，使用浸没流体会在光刻设备内导致附加的热负载，这会影响在衬底上形成图像的精确度。在某些情况下，热负载可能在整个衬底上是不均匀的，这导致图像的不均匀的变化。作为示例，由于流体处理系统的操作和/或浸没流体的蒸发可以引起热负载。这些影响可以被局部化至衬底的一部分。因此，在衬底中可能存在局部温度改变，由此导致衬底的局部热膨胀或热收缩。这又可能导致重叠误差和/或临界尺寸(CD)的局部变化。期望地，例如提供一种系统，其中局部热负载的影响被减小。 根据本专利技术的一方面，提供一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台包括支撑部分，配置成在其上表面上支撑衬底的下表面；和调节系统，配置成供给热能至支撑部分和/或从支撑部分移除热能；其中，当通过支撑部分支撑衬底时，衬底热耦合至支撑部分，使得当调节系统供给热能至支撑部分或从支撑部分移除热能时，能量又分别从支撑部分传递至衬底或从衬底传递至支撑部分；和支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的来自衬底或至衬底的、衬底的每单位面积的热传递在衬底的靠近衬底边缘的第一区域比在衬底的衬底中心处的第二区域处大。根据本专利技术的一方面，提供一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台包括支撑部分，配置成在其上表面上支撑衬底的下表面；支撑部分的上表面包括基部表面，所述基部表面配置成当衬底支撑在支撑部分上时基本上平行于衬底的下表面，并且支撑部分的上表面包括多个突节，所述多个突节从基部表面突出且布置成使得在通过支撑部分支撑衬底时衬底仅接触突节的上表面，其中突节配置成使得接触衬底的与衬底边缘邻近的第一区域的突节的沿平行于支撑部分的上表面的方向的刚性比接触衬底的处于衬底中心处的第二区域的突节的大，并且突节的沿垂直于支撑部分的上表面的方向的刚性对于接触衬底的第一和第二区域的突节来说是基本上相同的。根据本专利技术的一方面，提供一种光刻设备，包括支撑台，配置成支撑衬底；调节系统，配置成将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能；位置测量系统，配置成测量光刻设备内的支撑台的位置；和控制器，配置成基于包括所测量的支撑台的位置的信息来控制调节系统，以将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能。根据本专利技术的一方面，提供一种光刻设备，包括支撑台，配置成支撑衬底；调节系统，配置成将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能；以及控制器，配置成控制调节系统以将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能，所述控制器配置成使得，当支撑台位于衬底将被装载至支撑台的位置时，控制器在衬底被装载至支撑台之前控制调节系统开始将预期所需的热能供给至支撑台和/或从支撑台移除预期所需的热能。根据本专利技术的一方面，提供一种器件制造方法，包括使用光刻设备将图案从图案形成装置转移至衬底，其中光刻设备包括配置成支撑衬底的支撑台、配置成将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能的调节系统以及配置成测量光刻设备内的支撑台的位置的位置测量系统，所述方法包括步骤基于包括所测量的支撑台的位置的信息来控制调节系统，以将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能。根据本专利技术的一方面，提供一种器件制造方法，包括使用光刻设备将图案从图案形成装置转移至衬底，其中光刻设备包括配置成支撑衬底的支撑台、配置成将热能供给至支撑台和/或从支撑台移除热能的调节系统，所述方法包括步骤在衬底被装载至支撑台之前控制调节系统，以将预期所需的热能供给至支撑台和/或从支撑台移除预期所需的热倉泛。附图说明在此仅借助示例，参照所附示意图对本专利技术的实施例进行描述，在所附示意图中，相对应的附图标记表示相对应的部件，且其中图I示出根据本专利技术实施例的光刻设备；图2和图3示出用于光刻投影设备中的液体供给系统；·图4示出用于光刻投影设备中的另一液体供给系统；图5示出用于光刻投影设备中的另一液体供给系统；图6示出用于光刻投影设备中的另一液体供给系统的横截面视图；图7示出可以用于本专利技术一个实施例的支撑台的横截面视图；图8示出可以用于本专利技术一个实施例的支撑台的布置的平面图；图9示出根据本专利技术一个实施例的支撑台的平面图；图10和11示出根据本专利技术一个实施例的支撑台的一部分的局部平面图；图12至21每一个示出可以根据本专利技术的实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台包括：支撑部分，配置成在其上表面上支撑衬底的下表面；和调节系统，配置成将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分移除热能；其中，当通过支撑部分支撑衬底时，衬底热耦合至支撑部分，使得当调节系统将热能供给至支撑部分或从支撑部分移除热能时，能量又分别从支撑部分传递至衬底或从衬底传递至支撑部分；和支撑部分、调节系统或两者配置成使得对于调节系统的操作所导致的衬底的每单位面积上的至衬底或来自衬底的热传递，在邻近衬底边缘的衬底的第一区域中的比在衬底中心处的衬底的第二区域中的大。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J·G·C·昆尼，M·霍本，T·S·M·劳伦特，H·J·M·凡阿毕伦，A·R·J·达森，S·C·R·德尔克斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：