The present disclosure relates to a solid-state imaging device capable of achieving higher image quality by reducing quality degradation, a method of manufacturing a solid-state imaging device, and an electronic device. The solid-state imaging device includes a semiconductor substrate having a photodiode, for each pixel formed, photoelectric diode photoelectric conversion; the color filter, and each pixel corresponding to the light passing through the filter, superimposed on the light incident surface of the semiconductor substrate side; and a light shielding film, which is arranged between each pixel of the color shading the film is formed by stacking a first shading film and second shading film, a first shielding film and second shading film is formed by using two kinds of different materials. The first shade film is formed from a metal having a shading effect, and the second shade film is formed with a photosensitive resin. The technique can be applied to, for example, a back illuminated CMOS image sensor.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固态成像元件、制造方法和电子设备
本公开涉及固态成像装置、固态成像装置的制造方法和电子设备,并且更具体地,涉及能减少像质劣化并取得较高的像质的固态成像装置、固态成像装置的制造方法和电子设备。
技术介绍
在诸如数字静态摄像机或数字视频摄像机的具有成像功能的常规电子设备中,使用固态成像装置,比如电荷耦合装置(CCD)或互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。固态成像装置具有像素,每个像素包括进行光电转换的光电二极管和晶体管的组合,并且根据从以二维方式布置的像素输出的像素信号形成图像。近年来,经常使用背照式固态成像装置。在背照式固态成像装置中,光从作为前面侧的相反侧的背面侧射到光电二极管上,在半导体基板上,晶体管和布线层叠置在前面侧上。背照式固态成像装置用在紧凑型数字静态摄像机、移动终端用摄像机等中,并且能提高细微像素的灵敏度以及改善遮光特性。例如,背照式固态成像装置可具有比前照式固态成像装置中的光电二极管面积更大的光电二极管面积,并且特征性地在光入射侧上没有布线层。由于这些特征,背照式固态成像装置可有效地将入射光带入光电二极管,并实现优异的灵敏度特性。然而,背照式固态成像装置将来自密封玻璃表面、红外截止滤光片、摄像机组的光学系统等的较多反射光带入光电二极管。其结果是,容易出现闪光、重影和混色,并且像质劣化。特别地,在大尺寸固态成像装置中,像素尺寸大,且光接收区域宽。因此,光电二极管吸收大量不必要的光,使像质劣化更显眼。为了解决这种问题,已经开发了通过在像素之间设置遮光部来防止不必要的光进入光电二极管的技术,例如,如专利文献1和2中所公开的技术。引文列表专利 ...
【技术保护点】
一种固态成像装置,包括:半导体基板,其具有针对各像素形成的光电二极管,所述光电二极管进行光电转换;滤色片,其配置成使颜色与所述各像素对应的光通过,所述滤色片叠置在所述半导体基板的光入射面侧上;和遮光膜,其设置在所述各像素的所述滤色片之间,所述遮光膜是通过叠置第一遮光膜和第二遮光膜形成的,所述第一遮光膜和所述第二遮光膜是用两种彼此不同的材料形成的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.03 JP 2014-2045321.一种固态成像装置,包括:半导体基板,其具有针对各像素形成的光电二极管,所述光电二极管进行光电转换;滤色片,其配置成使颜色与所述各像素对应的光通过,所述滤色片叠置在所述半导体基板的光入射面侧上;和遮光膜,其设置在所述各像素的所述滤色片之间,所述遮光膜是通过叠置第一遮光膜和第二遮光膜形成的,所述第一遮光膜和所述第二遮光膜是用两种彼此不同的材料形成的。2.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中所述第一遮光膜叠置在比所述第二遮光膜更靠近所述半导体基板的那侧上,所述第一遮光膜是用具有遮光效果的金属形成的,且所述第二遮光膜是用具有光敏性的树脂形成的。3.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中所述像素中的一些是要用于根据所述固态成像装置的成像表面中的相位差来控制自动聚焦的自动聚焦像素,且所述第一遮光膜和所述第二遮光膜形成在所述自动聚焦像素上,以使所述自动聚焦像素遮光以进行光瞳分割。4.根据权利要求3所述的固态成像装置,其中,在所述自动聚焦像素中,用透明材料填充与其它像素中的所述滤色片相当的部分。5.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中所述第二遮光膜在所述像素当中的红色像素上具有不超过预定...
【专利技术属性】
技术研发人员:大塚洋一,
申请(专利权)人:索尼半导体解决方案公司,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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