【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及摄像装置和电子设备。
技术介绍
1、近年来,摄像装置已采用使用一对相位差检测像素来检测相位差作为自动聚焦功能的方法。作为这样的示例,可以提到下面专利文献1公开的摄像元件。在专利文献1公开的技术中,在光接收面上分别设置对被摄体的图像进行摄像的有效像素和检测上述相位差的相位差检测像素。
2、引用文献列表
3、专利文献
4、专利文献1:jp 2000-292685 a
技术实现思路
1、技术问题
2、然而,在专利文献1公开的技术中,当获取被摄体的被摄图像时,难以将由相位差检测像素获得的信息作为与来自摄像像素的信息相同的信息来利用。因此,在上述技术中,使用来自相位差检测像素周围的有效像素的信息对与相位差检测像素相对应的像素的图像执行插值,并且生成被摄图像。即,在专利文献1公开的技术中,由于设置了相位差检测像素来执行相位差检测,因此难以避免由于与对应于相位差检测像素的被摄图像有关的信息的丢失而导致的被摄图像的劣化。
3、因此,
...【技术保护点】
1.一种摄像装置,包括:
2.根据权利要求1所述的摄像装置,其中,所述摄像元件还包括第二扩散区域,所述第二扩散区域在所述预定单位区域的在所述第一方向上延伸的两个第二侧表面附近设置于所述半导体基板内,并且包含所述第二导电型的杂质。
3.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述第二扩散区域的至少一部分包含比所述第一扩散区域的浓度更高的所述第二导电型的杂质。
4.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述摄像元件还包括沿着所述第二侧表面设置在所述第一元件分隔壁与所述分隔部之间的第二元件分隔壁。
5.根据权利要求1所述的摄像装置,
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种摄像装置,包括:
2.根据权利要求1所述的摄像装置,其中,所述摄像元件还包括第二扩散区域,所述第二扩散区域在所述预定单位区域的在所述第一方向上延伸的两个第二侧表面附近设置于所述半导体基板内,并且包含所述第二导电型的杂质。
3.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述第二扩散区域的至少一部分包含比所述第一扩散区域的浓度更高的所述第二导电型的杂质。
4.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述摄像元件还包括沿着所述第二侧表面设置在所述第一元件分隔壁与所述分隔部之间的第二元件分隔壁。
5.根据权利要求1所述的摄像装置,其中,
6.根据权利要求5所述的摄像装置,其中,当从所述光接收面的上方观看时,所述第三元件分隔壁的宽度比所述第一元件分隔壁的宽度小。
7.根据权利要求5所述的摄像装置,其中,所述第三元件分隔壁设置为在所述半导体基板的厚度方向上从与所述光接收面相对的表面贯穿所述半导体基板。
8.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述第一元件分隔壁设置为在所述半导体基板的厚度方向上从与所述光接收面相对的表面贯穿所述半导体基板。
9.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,
10.根据权利要求2所述的摄像装置,其中,所述分隔部包括第一像素分隔壁,所述第一像素分隔壁在所述第二方向上延伸以分隔所述多个像素,并且所述第一像...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐竹遥介,新井智幸,高桥直広,财津光一郎,松本晃,西田庆次,西田水辉,
申请(专利权)人:索尼半导体解决方案公司,
类型:发明
国别省市:
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