【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
1.下式的化合物或其盐、酯、水合物、溶剂化物、互变异构体、前药或光学异构体:其中:Z为-O-、-S-、-NH-、-OC(O)O-、-NHC(O)O-、-OC(O)NH-或-NHC(O)NH-;R1为羟基、一磷酸、二磷酸、三磷酸或多磷酸基;R2为氢或羟基;R3和R4各自独立为:氢、羟基、卤素或氨基;或烷基(C≤12)、烯基(C≤12)、炔基(C≤12)、芳基(C≤12)、芳烷基(C≤12)、杂芳基(C≤12)、杂芳烷基(C≤12)、烷氧基(C≤12)、芳氧基(C≤12)、芳烷氧基(C≤12)、杂芳氧基(C≤12)、杂芳烷氧基(C≤12)、烷基氨基(C≤12)、二烷基氨基(C≤12)、芳基氨基(C≤12)、芳烷基氨基(C≤12),或任何这些基团的取代形式;或R5、R6、R7、R8和R9各自独立为:氢、羟基、卤素、氨基、硝基、氰基或巯基;烷基(C≤12)、烯基(C≤12)、炔基(C≤12)、芳基(C≤12)、芳烷基(C≤12)、杂芳基(C≤12)、杂芳烷基(C≤12)、酰基(C≤12)、烷氧基(C≤12)、烯氧基(C≤12)、炔氧基(C≤12)、芳氧基(C≤12)、芳烷氧基(C≤12)、杂芳 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:弗拉迪斯拉夫·A·利托什,
申请(专利权)人:激光基因公司,
类型:发明
国别省市:US
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