半导体镀膜设备用高温观察盖板制造技术

技术编号:10557035 阅读:159 留言:0更新日期:2014-10-22 12:50
一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,主要解决现有设备反应腔体的高温工艺过程是不可观察的状况。结构中的可视部分选用了透明的光学用石英玻璃,这样能直接观察机械手的传片、放片及取片的过程、硅片镀膜的工艺过程及陶瓷件偏移或碎裂的过程等。它包括把手、金属环、平头螺钉、金属压板、塑料板、石英玻璃板、垫片、螺钉及密封圈。上述金属环的密封槽内嵌入密封圈,在嵌入密封圈的金属环的端面上设有石英玻璃,石英玻璃上面设有垫圈,将金属压板压在垫圈上,再对角拧紧螺钉,然后用平头螺钉将塑料板固定在金属压板的上面。本实用新型专利技术结构合理,可广泛用于半导体薄膜沉积技术领域。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,主要解决现有设备反应腔体的高温工艺过程是不可观察的状况。结构中的可视部分选用了透明的光学用石英玻璃,这样能直接观察机械手的传片、放片及取片的过程、硅片镀膜的工艺过程及陶瓷件偏移或碎裂的过程等。它包括把手、金属环、平头螺钉、金属压板、塑料板、石英玻璃板、垫片、螺钉及密封圈。上述金属环的密封槽内嵌入密封圈,在嵌入密封圈的金属环的端面上设有石英玻璃,石英玻璃上面设有垫圈,将金属压板压在垫圈上,再对角拧紧螺钉,然后用平头螺钉将塑料板固定在金属压板的上面。本技术结构合理,可广泛用于半导体薄膜沉积
。【专利说明】
本专利技术涉及一种半导体镀膜设备用高温观察盖板结构,此结构主要应用于半导体 镀膜设备反应腔内高温工艺过程中,属于半导体薄膜沉积的应用
。 半导体镀膜设备用高温观察盖板
技术介绍
现有的半导体镀膜设备在进行常温或者高温传片工艺过程时,反应腔内是密闭不 可见的状态,尤其在进行高温400°C工艺过程时,反应腔内为密闭不可见的真空状态,有时 候开腔观察时会出现陶瓷环偏移、陶瓷衬套有裂纹、晶圆发生碎片及传片失败等等一些现 象,而这些现象发生时都是在不可见的状态下发生。为了更好的观察这些问题产生的过程, 方便查找问题的产生根本原因,所以设计了一种透明盖板结构来直接观察反应腔内整个工 艺过程中出现的一系列现象。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的,设计了一种新型的高温透明盖板结构,主要解决 现有设备反应腔体的高温工艺过程是不可观察的状况。结构中的可视部分选用了透明的光 学用石英玻璃,这样能直接观察机械手的传片、放片及取片的过程、硅片镀膜的工艺过程及 陶瓷件偏移或碎裂的过程等。 为实现上述目的,本技术采用下述技术方案:半导体镀膜设备用高温观察盖 板,包括把手(1)、金属环(2)、平头螺钉(3)、金属压板(4)、塑料板(5)、石英玻璃板(6)、垫 片(7 )、螺钉(8 )及密封圈(9 )。上述金属环(2 )的密封槽内嵌入密封圈(9 ),在嵌入密封圈 (9)的金属环(2)的端面上设有石英玻璃(6),石英玻璃(6)上面设有垫圈(7),将金属压板 压在垫圈(7)上,再对角拧紧螺钉(8)。然后用平头螺钉(3)将塑料板(5)固定在金属 压板(4)的上面。上述金属环(2)的上面设有把手(1),方便拿取操作。最后将安装好的盖 板结构放在反应腔上,进而可以观察常温传片或者高温传片工艺过程,或者对腔体进行抽 气检漏等。 本专利技术的有益效果及特点在于: 1、结构合理,利用光学石英玻璃实现了对半导体镀膜设备高温工艺过程的观察, 整个盖板结构不仅可以用于高温传片工艺,还可以用于常温传片工艺、腔体检漏及晶圆翘 曲测量等; 2、为防止高温工艺中石英玻璃上表面过热烫伤到操作人员,此结构中的塑料板利 用空气流通带走热量,起到保护层作用。 【专利附图】【附图说明】 附图1是本专利技术的主视图; 附图2是图1的A-A剖面视图。 【具体实施方式】 实施例 参照附图1和附图2,半导体镀膜设备用高温观察盖板,包括把手1、金属环2、平 头螺钉3、金属压板4、塑料板5、石英玻璃板6、垫圈7、螺钉8及密封圈9。其具体结构是: 上述金属环2的密封槽内嵌入密封圈9,在嵌入密封圈9的金属环2的端面上设有石英玻 璃6,石英玻璃6上面设有垫圈7,将金属压板4压在垫圈7上,再对角拧紧螺钉8。此处垫 圈7的作用是防止脆性材料石英玻璃6与金属压板4出现硬对硬接触,起到缓冲作用。然 后用平头螺钉3将塑料板5固定在金属压板4的上面。上述金属环2的上面设有两个把手 1,方便拿取操作。 上述垫圈7可采用聚四氟乙烯制作; 上述螺钉8可选用六角螺钉。 最后将安装好的盖板结构放在反应腔上,进而可以观察常温传片或者高温传片工 艺过程,或者对腔体进行抽气检漏等。【权利要求】1. 一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,包括把手(1),其特征在于:它还包括金属环 (2)、平头螺钉(3)、金属压板(4)、塑料板(5)、石英玻璃板(6)、垫片(7)、螺钉(8)及密封圈 (9),上述金属环(2)的密封槽内嵌入密封圈(9),在嵌入密封圈(9)的金属环(2)的端面上 设有石英玻璃(6),石英玻璃(6)上面设有垫圈(7),将金属压板(4)压在垫圈(7)上,再对 角拧紧螺钉(8),然后用平头螺钉(3)将塑料板(5)固定在金属压板(4)的上面。2. 如权利要求1所述的半导体镀膜设备用高温观察盖板,其特征在于:上述金属环(2) 的上面设有两个把手(1)。3. 如权利要求1所述的半导体镀膜设备用高温观察盖板,其特征在于:上述垫圈(7)可 采用聚四氟乙烯制作。4. 如权利要求1所述的半导体镀膜设备用高温观察盖板,其特征在于:上述螺钉(8)可 选用六角螺钉。【文档编号】H01L21/67GK203895416SQ201420198568【公开日】2014年10月22日 申请日期:2014年4月22日 优先权日:2014年4月22日 【专利技术者】吴凤丽, 姜崴, 方仕彩 申请人:沈阳拓荆科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,包括把手(1),其特征在于:它还包括金属环(2)、平头螺钉(3)、金属压板(4)、塑料板(5)、石英玻璃板(6)、垫片(7)、螺钉(8)及密封圈(9),上述金属环(2)的密封槽内嵌入密封圈(9),在嵌入密封圈(9)的金属环(2)的端面上设有石英玻璃(6),石英玻璃(6)上面设有垫圈(7),将金属压板(4)压在垫圈(7)上,再对角拧紧螺钉(8),然后用平头螺钉(3)将塑料板(5)固定在金属压板(4)的上面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴凤丽姜崴方仕彩
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司
类型:新型
国别省市:辽宁;21

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