本发明涉及原子层沉积设备。一种原子层沉积设备包括：传送室(110)；分别与传送室连通的预清洗室(134)、热处理室(138)、加载闭锁室(140)、以及多个反应室(121、122、123)；与加载闭锁室连通的前端模块(150)；传送室中...

本发明公开了一种射频从喷淋板导入的喷淋板装置，包括：设置于真空腔室内的喷淋板本体和密闭设置于喷淋板本体上方的加热腔室，其中，所述加热腔室内的顶部和侧壁均设置有反射器，加热腔室的底部为透光板，加热腔室内由上至下依次设置有热辐射器和接地屏蔽...

本发明公开了一种PE‑CVD反应器喷淋板的加热系统，包括：沿反应器上盖板的周向均布的喷淋板模块，所述喷淋板模块包括喷淋板本体、喷淋板上方绝缘板、喷淋板侧面绝缘筒和喷淋板电加热组件，所述喷淋板本体中的喷淋板基板的上表面沿其周向均布有多个深...

本发明属于半导体设备制造技术领域，具体提供了一种提高硅片温度均匀性的加热系统,该系统采用加热盘对于硅片进行加热，所用加热盘具有盘柄，其中盘柄贯穿腔体内外，该系统包含一真空腔体，硅片与加热盘均位于该腔体内，加热盘对硅片进行非接触热辐射式加...

本发明揭露一种半导体多站处理腔体，其中每一站包含：由多个壁所定义的一下沉空间，其提供有用于支撑基板或晶圆的一支撑座，该支撑座与定义该下沉空间的多个内壁之间形成一第一间隙；一覆盖组件，固定于一盖体且位于该支撑座的上方以定义一处理区，该覆盖...

本发明公开了一种晶圆表面的清洗方法。包括步骤：提供晶圆，所述晶圆表面具有low‑k薄膜沉积；对所述晶圆表面进行清洗工艺；晶圆清洗后的晶圆表面反复循环使用。采用该方法，可以有效且低成本的实现晶圆的循环使用，简单易行，且循环使用的成功率较高...

用于半导体射频处理装置的温度测量方法，包含：由电极产生一射频讯号序列，该射频讯号序列包含复数个不连续射频讯号，其中，任一射频讯号与其下一个射频讯号相隔一时间区间；及由温度传感器，于该时间区间期间，产生一温度感测讯号。

本发明提供了一种晶圆传输装置，包含负载腔模块、设备前端模块和转换腔模块，具体的，负载腔模块具有第一侧与第二侧，在第一侧与第二侧之间连通形成至少一负载腔室，该负载腔室内设有至少一对晶圆支架，每一晶圆支架包含一主体，该主体平行延伸一对支撑臂...

一种用于支撑晶圆的盘体，具有用于承载该晶圆的一顶部及用于接合一支撑座的一底部。该盘体包含，复数个加热单元埋于该盘体，及至少一沟槽集合形成于该盘体的顶部和底部之间且介于两个相邻加热单元之间的一径向位置，藉此加强该等加热区域的热隔离。

本发明提供一种沉积装置，包含：一反应总成，配置成执行形成一第一数量的层于一基板上、形成一第二数量的层于该基板上及执行一清洁程序；及一传输模块，与该反应总成连接且配置成选择性与该反应总成流体连通，并将形成有该第一数量的层的基板移除至该反应...

本发明公开了一种加热装置，用于一电浆处理半导体制造装置。该加热装置包含：至少一加热导线，延伸于一射频讯号的涵盖范围中；一电源供应器，提供一电力讯号至该至少一加热导线；及一温度控制器，至少基于一默认温度控制该电源供应器。该至少一加热导线由...

本发明提供一种用于半导体制造的化学品加热装置，包括：一外壳；一导流器，容置于该外壳中并形成有复数个流道及一或多个容置槽，其中该等流道与该一或多个容置槽结构上相互独立；及一或多个加热单元，容置于该一或多个容置槽以对该导流器加热。

本发明提供了一种用于多种化学源之气体分配装置，其包含：一喷淋组件，具有至少二层迭之板体，且该至少二层迭之板体中央具有一混气室，而该混气室之壁面设有复数个气孔；以及一管路组件，系套设于该喷淋组件上，且具有一阶梯式之本体及至少二气体管路，该...

本发明提供一种晶圆支撑座，包含：多个电极及多个共振电路电性耦接至各自的电极，每一共振电路配置成至少根据连接电极的一讯号调整一阻抗，藉此于一处理期间改变该电极对应的等离子体分布。

本发明属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域，涉及一种应用于调整两个件同心的工装，包括同心定位销1，机械手同心定位手柄2，加热盘同心定位盘3；本发明调整同心的工装采用了等式的传递性原理来对晶圆传送机械手和加热盘进行同心调整，来实现准确、快...

本发明属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域，涉及一套防止加热盘边缘热量损失的保温罩。该保温罩设置在腔室内衬和加热盘边缘上，即包括腔室内壁保温罩和加热盘边缘罩，所述腔室内壁保温罩为在腔室的底部、顶部、围墙即在做薄膜沉积时的加热盘(8)的周...

本发明提供一种晶圆加热座，包含一支撑柱连接于一盘体的底面，且该支撑柱握持有对应接触盘体的多个接触垫的一接点阵列，该接点阵列包括复数个接触柱。

本发明公开一喷淋组件，包含：一公板，具有一上表面和一下表面，其中该公板的下表面形成有一射出端，该射出端自该公板的下表面延伸以射出一第一气体；及一母板，具有一上表面和一下表面，其中该母板的上表面形成有一凹穴，该凹穴连通耦接一气体出口以引导...

本发明的一种半导体薄膜沉积设备，包括射频电源、同轴电缆、匹配器、屏蔽罩及屏蔽罩散热结构、腔体、上电极板和下电极板位于腔体中，上电极板上设有陶瓷层，陶瓷层上设有上盖板；该设备左右两个腔室相互隔离，所述匹配器位于屏蔽罩上，射频功率由射频电源...

一种喷淋结构，其包含：多孔性基体筛板，其系用以使来自化学源的气流均匀分布；及固定架，其系用来支撑前述多孔性基体筛板。