一种半导体镀膜设备真空腔用管路截断方法，主要解决现有技术中不参与饱和反应的真空环境不能关闭也要占用抽气时间和腐蚀管路的问题。该方法中所涉及的整套真空环境由刻蚀系统通过法兰与管路连接，管路的两侧在靠近喷淋板和反应腔的一端安装通止阀，反应腔...

本发明属于半导体制备所应用的隔热保温材料技术领域，具体涉及一种碳基Si-C-O气凝胶隔热复合材料及其制备方法，制备该材料首先将硅源和碳源混合，经反应后制备出具有纳米多孔的三维网络骨架结构的溶胶，然后以短切碳纤维为原料，通过纤维浆料抽滤、...

一种半导体镀膜设备用双通道控温装置，包括加热盘上盘体和加热盘下盘体，所述加热盘上盘体的下表面开有内媒介通道孔和外媒介通道，内媒介通道孔和外媒介通道有相同的入口和出口，分别为上盘面媒介入口和上盘面媒介出口。在加热盘下盘体上与上盘面媒介入口...

一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的运输装置，主要解决现有的控制系统无专用运输装置，而对系统容易造成损伤的问题。它的主体包括设有推手的机架。进一步地，机架的上板设有胶垫，胶垫上制有一孔与气控箱相通；进一步地，机架的前底部设有脚轮；进一...

本发明属于半导体制造工艺管路焊接处内壁处理方法技术领域，具体涉及一种对薄膜沉积设备工艺管路焊接点电抛光的方法，以待处理工艺管路为阳极，以同样大小的铅板为阴极，工艺步骤包括电抛光液的制备和电抛光装置组合，通过在被抛光的不锈钢表面形成一层极...

一种机架结构，主要解决现有反应腔体在支撑件上安装不稳定等问题，本发明提供一种机架结构，所述机架结构安装于反应腔室的正下方，该机架结构包括机架本体，走线槽，加固条，载物平台，支撑座与滑轮。本发明整个机架内部整齐美观，方便检查和维修，并且保...

本发明涉及一种真空腔体盖板的开合机构，该机构包括撑杆、铰链座、杠杆约束杆a、杠杆约束杆b、杠杆销轴、杠杆、盖板连接件、气体弹簧、盖板和把手。所述杠杆一端通过杠杆销轴连接在铰链座的长条孔位置，杠杆销轴可沿长条孔中心线方向移动；杠杆约束处通...

本发明涉及在半导体领域所应用的管路保护措施，具体是一种抽气管路内壁保护层及其制备方法。所述内壁保护层的形成是通过在抽气管路内壁上先涂覆基础层再涂覆催化层，再用离子束辐照表面使所述基础层和催化层发生反应，形成过渡层和保护层而成；所述基础层...

两腔室集定位与对中心功能于一体的双层支架结构，主要解决晶圆的设备产能低、晶圆与支架结构的摩擦系数大等问题，本发明提供一种两腔室集定位与对中心功能于一体的双层支架结构，该支架结构包括高位双层晶圆支架与低位双层晶圆支架；所述高位双层晶圆支架...

一种高产能抽气装置，主要解决现有半导体薄膜制备设备中传片模块所配备的真空泵利用率较低及设备产能低等问题，本发明提供一种高产能抽气装置，该抽气装置包括传片模块，上负载模块，下负载模块，角阀A，真空泵A，角阀B，角阀C，真空泵B，角阀D。本...

上盖板胶圈检漏工装，包括管接头，喷头上板，陶瓷环，压板和底板。管接头固定在喷头上板上端的中心处并连接检漏仪。陶瓷环设置在喷头上板和压板之间。底板设置在压板的下面。待检胶圈放置在底板的凹槽内。本发明适用于任何任意直径小于底板的凹槽的上盖板...

一种气弹簧安装支座，包括固定座和安装座，两者通过气弹簧连接。所述的固定座上设有一个滑道和三个固定孔，三个固定孔呈等腰直角形分布在挡板上面的三个角上，滑道设置在另一个角上。安装座上横向排列的两个固定孔，气弹簧安装螺纹设置在固定孔之间。气弹...

一种水平调整装置，包括三角水冷块和三角支撑座，两者大小和形状相同，并通过锁紧螺母和调整螺栓连接。所述的锁紧螺母和调整螺栓与三角水冷块和三角支撑座接触的面为球面。本发明利用调整螺栓带动上方水冷块，进而使加热盘的水平度发生改变，避免了调平误...

一种应用于半导体等离子体处理装置的加热盘，主要解决现有加热盘由于射频电源导致的局部燃烧现象等问题，本发明提供一种应用于半导体等离子体处理装置的加热盘，该加热盘包括加热盘本体，水冷块，金属垫圈,密封圈,金属垫圈安装槽及密封圈安装槽。本发明...

加热盘线缆保护装置，主要解决加热盘线缆在运输、加工过程中，易于受到损坏而导致不能正常使用的问题。它包括线缆保护套筒。所述线缆保护套筒与连接片间设有连接片与保护套筒间的密封圈和连接片与加热盘固定端间的密封圈并通过螺钉或螺栓连接。将加热盘的...

一种气体管路的加热方法，首先采用铝铸模模具对气体管路进行包裹，然后在模具内穿入电加热材料进行加热，同时在模具体外层裹隔热保温材料，进行保温保护，在最外面加一个钣金罩。本发明优点在于可以对一条管路整体控温，确保整个管路的温度是一致的，基本...

一种晶圆基板支架结构，主要解决现有晶圆基板与支架结构定位不准确，摩擦大等问题，本发明提供一种晶圆基板支架结构该支架结构包括定位蓝宝石球、支撑蓝宝石球、支架主体、内六角螺栓、弹簧垫片、双向沉头孔。本发明的支架结构可以充分保证晶圆基板在传递...

本发明属于二氧化硅薄膜半导体制备设备领域，具体地来讲为一种消除SiO2膜厚下降的方法。包括：采用等离子处理设备，该设备包括喷淋头与上盖板，所述喷淋板与上盖板之间通过多个螺栓固定；将喷淋头与上盖板组装后，采用螺栓通过对称固定的方式将螺栓松...

一种用于半导体镀膜设备水冷块定位的方法，主要解决现有技术需要反复测量、反复调整及定位困难的技术问题。该方法中所用定位工装包括基准块，基准块具有上定位面及下定位面。所述基准块的一个侧面设有把手。安装水冷块时，先将螺栓穿过移动座的螺栓孔，再...

顶针支板调整工装结构及调平方法，主要解决顶针支板上表面水平调整问题。其工装结构包括：定位销、支杆、调整螺母、调整螺栓及支座。所述定位销主要用来确定顶针支板的安装方向，便于顶针支板的安装。所述支座固定在滑块上，带动顶针支板调整工装在基座上...