沈阳拓荆科技有限公司专利技术

沈阳拓荆科技有限公司共有350项专利

  • 一种储存和运输化学源的钢瓶
    本发明属于储存设备领域,特别提供了一种储存和运输化学源的钢瓶。包括瓶体、气体入口管及气体出口管,所述的气体入口管的一部分插入到瓶体内,气体入口管底端置于液体中,所述的气体出口管的底部插入瓶体内顶部;同时在瓶体外部的气体入口管上设有入口手...
  • 一种双腔式等离子体沉积镀膜方法
    本发明公开了一种双腔式等离子体沉积镀膜方法,包括如下步骤:(1)抽真空;(2)放置衬底并调整到所需的工艺位置;(3)向第一反应腔室和第二反应腔室内通入工艺气体,同时,向清洗气体进气通道内通入氮气;(4)调整两个反应腔室内的压力;(5)预...
  • 一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统
    一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统,包括母头连接件、波纹管、气路集合管、氦气检漏接口及公头丝堵。多个波纹管通过气路集合管并联,气路集合管的末端连接氦气检漏接口。波纹管的上端连接母头连接件,公头丝堵与母头连接件通过螺纹连接。本...
  • 一种半导体基片成膜工艺后降低颗粒的工艺方法及装置
    一种半导体基片成膜工艺后降低颗粒的工艺方法及装置,主要解决现有半导体基片在成膜后的工艺过程中基片表面存在颗粒增多等问题,本发明提供一种半导体基片成膜工艺后降低颗粒的工艺方法及装置,该工艺方法是在半导体基片成膜工艺后增加气体吹扫来降低颗粒...
  • 高产能半导体薄膜沉积装置
    高产能半导体薄膜沉积装置,包括前置设备(1)、储存腔(2)、传片腔(3)及反应腔(4)。前置设备(1)通过门阀与储存腔(2)连接,晶圆升降机构处于储存腔(2)内。储存腔(2)与传片腔(3)连接。传片腔(3)与三个反应腔(4)连接。储存腔...
  • 电加热反应源储存及供应设备
    电加热反应源储存及供应设备,包括外壳,加热管,反应源存储器,高温阀和接口。加热管处于外壳的内壁上。反应源存储器放入到外壳内。高温阀设置在反应源存储器的上端。接口设置在高温阀上并与反应腔室连接。通过采用此电加热反应源储存及供应装置,在整个...
  • 一种设备装调移动装置
    一种设备装调移动装置,包括连接杆,连接板,支撑件,螺母和脚轮。连接杆一端通过连接板与想要移动的设备连接,另一端通过螺母与支撑件连接。脚轮固定在支撑件的下端。本发明结构紧凑合理,使用本发明可以防止设备倾倒,同时可以调整设备移动时的水平,在...
  • 一种半导体设备中盘面直径尺寸可调的加热基底
    一种半导体设备中盘面直径尺寸可调的加热基底,主要解决现有需要对特定的薄膜衬底尺寸更换与所述薄膜衬底尺寸相匹配的加热载体部件的问题,本发明提供一种半导体设备中盘面直径尺寸可调的加热基底,该加热基底包括基座,凸台A,环形平台,环形平台内孔,...
  • 加热盘阻抗测量工装及测量方法
    加热盘阻抗测量工装及测量方法,主要解决现有测量方法测量数据误差大,信号过弱的技术问题。其工装结构包括:绝缘组件、电极组件两个部分。绝缘组件包括绝缘块A、绝缘块B及弹簧;电极组件包括N连接器插座定位基座、固定螺钉、连接板、绝缘板、电极板A...
  • 波纹管测漏工装
    波纹管测漏工装,包括带孔上法兰盖板(1)、双头螺柱(2)、波纹管(3)、六角螺母(4)、带孔底部盲板(5)和密封圈(6)。密封圈(6)安装在波纹管(3)两端的法兰密封槽中,带孔底部盲板(5)与波纹管的法兰孔位对应,通过双头螺柱(2)和六...
  • 一种应用于晶圆顶针长度检验的工装
    一种应用于晶圆顶针长度检验的工装,主要解决现有晶圆顶针长度大量检验时效率于准确率低的问题,本发明提供一种应用于晶圆顶针长度检验的工装,该工装包括工装本体,工装本体上设有第一检测边缘,第二检测边缘,第三检测边缘、第四检测边缘及立柱。本发明...
  • 一种应用于半导体设备的角度限位铰链
    本发明提供一种能够在半导体等离子体处理装置中,实现开关腔操作更加轻便、灵活,并且能够固定角度的限位铰链。所述的限位铰链连接在半导体等离子体设备反应腔模块中的上盖板和反应腔体外表面之间。该角度限位铰链主要由上铰链、下铰链、固定销、转轴和限...
  • 一种侧抽气孔式空腔控温盘
    本发明涉及一种侧抽气孔式空腔控温盘,属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。包括上盘体、下盘体以及位于上盘体与下盘体之间的设置稳流板将孔温盘分为上下两个腔室,其中上腔室为热媒循环空腔,下腔室为稳流室,上盘体上设置多个热传导气体孔,每个气热...
  • 一种稳流室控温盘
    一种稳流室控温盘,包括加热盘上盘面、陶瓷柱、加热盘稳流板和加热盘基座。陶瓷柱的上端固定在加热盘上盘面的下端,陶瓷柱的下端穿过加热盘稳流板和加热盘基座并与加热盘基座的下端固定。每个部件上有不同的结构,形成加热盘的媒介通道和热传导气体通道,...
  • 一种稳流室空腔可控温基体托架结构
    一种稳流室空腔可控温基体托架结构,主要解决现有的基体托架结构温升过快降温慢的问题,本发明提供一种稳流室空腔可控温基体托架结构,该基体托架结构包括加热支撑架上盘体,陶瓷柱,稳流板,加热支撑架下盘体,固定螺母。本发明的可控温基体托架结构采用...
  • 一种内置多条抽气通道的晶圆薄膜沉积反应台
    本发明属于半导体薄膜沉积应用及制备技术领域,具体涉及一种内置多条抽气通道的晶圆薄膜沉积反应台,其作为反应腔室的底面,直接与反应腔室螺钉连接,所述晶圆薄膜沉积反应台中心设置有抽气口,在反应台底面从抽气口向外辐射多条抽气通道,通过中心走气,...
  • 循环媒介自动控温、热传导气体传导温度的晶圆反应台
    本发明属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域,具体涉及一种循环媒介自动控温、热传导气体传导温度的晶圆反应台,所述晶圆反应台通过上台面、稳流板和下台面按顺序焊接,所述上台面和稳流板之间形成媒介循环空腔,所述稳流板和下台面之间形成热传导气体稳...
  • 一种新的气相沉积控制元件的模块化安装方法
    一种新的气相沉积控制元件的模块化安装方法,采用了通长的豁口,里面下入方形的螺纹块,在上面的元件安装好后,再把之字板把合固定住。每条工艺模块安装适合后,在把两条模块固定在基板上,最后把基板固定在基座上,即完成了整个模块的安装。本发明的有益...
  • 一种冷热腔可控温加热支撑架
    一种冷热腔可控温加热支撑架,主要解决现有半导体镀膜设备热交换效率及产能较低,晶圆温度不够均匀致使薄膜失败的问题,本发明提供一种冷热腔可控温加热支撑架,该加热支撑架包括加热支撑架上盘体,陶瓷柱,分隔板,加热支撑架下盘体,固定螺母。本发明的...
  • 一种带有陶瓷衬套的可控温盘面结构
    一种带有陶瓷衬套的可控温盘面结构,主要解决现有的控温盘面打火几率大导致支撑件加工数量、难度、费用增加的问题,本发明提供一种带有陶瓷衬套的可控温盘面结构,该结构包括铝盘与陶瓷衬套,所述铝盘上设有三个通孔A和九个通孔B,铝盘的内部还设有传热...