A frame structure, mainly to solve the existing problems such as unstable reaction cavity is arranged on the support, the invention provides a frame structure, the frame structure below installed in the reaction chamber, the frame structure comprises a frame body, trough, reinforcement, loading platform, supporting seat and pulley. The whole frame of the invention has the advantages of beautiful appearance, convenient inspection and maintenance, and stability of the reaction chamber.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种机架结构,属于半导体制造
技术介绍
半导体设备在使用中产生振动,腔体在支撑件上产生不稳定状态,容易造成腔体中反应气体分布不均,从而造成等离子分布的不均匀。另外,倾斜的腔体也会对机械手传送晶圆造成干扰,导致机械故障等问题发生,会降低半导体处理制程的良率。基于以上分析,半导体设备在使用时,腔体需要保持水平和固定。这样设备在运行时才能不改变腔体的状态,保证设备持续运行稳定,实现半导体产品的稳定生产。因此,需要设计一种新型的机架结构,保持腔体的稳定。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的,提供一种机架结构,通过具有加固条和支撑座的长方体全钢框架实现半导体等离子体反应腔体的水平度和稳定度,并且整个机架内部整齐美观,方便检查和维修。为实现上述目的,本专利技术采用下述技术方案:一种机架结构,所述机架结构安装于反应腔室的正下方,该机架结构包括机架本体,走线槽,加固条,载物平台,支撑座与滑轮;所述机架本体上设有走线槽,机架本体的两个侧面分别安装一根加固条,增加机架本体的称重能力和稳定性;所述载物平台固定在所述机架本体的下表面,机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。进一步地,所述机架本体为长方体钢质框架。进一步地,所述机架本体与反应腔室通过螺丝相连接。进一步地,所述载物平台为两个。进一步地,所述支撑座的高度可调节。本专利技术的有益效果是:本专利技术的机架结构为长方体全钢框架,有较好的承重性。机架上表面与反应腔体通过螺丝相连,可更换不同反应腔体。机架侧面分别设有一根加固条,增加机架的承重能力和稳定性。机架下表面有四个滑轮和四个支撑座以及两个载物平台 ...
【技术保护点】
一种机架结构,所述机架结构安装于反应腔室的正下方,其特征在于,该机架结构包括机架本体,走线槽,加固条,载物平台,支撑座与滑轮;所述机架本体上设有走线槽,机架本体的两个侧面分别安装一根加固条,增加机架本体的称重能力和稳定性;所述载物平台固定在所述机架本体的下表面,机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。
【技术特征摘要】
1.一种机架结构,所述机架结构安装于反应腔室的正下方,其特征在于,该机架结构包括机架本体,走线槽,加固条,载物平台,支撑座与滑轮;所述机架本体上设有走线槽,机架本体的两个侧面分别安装一根加固条,增加机架本体的称重能力和稳定性;所述载物平台固定在所述机架本体的下表面,机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。2...
【专利技术属性】
技术研发人员:续震,王晓晨,
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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