一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，包括高温区、低温区、收放卷系统和真空系统，所述高温区和低温区之间通过隔板隔开，所述高温区内和低温区内均设有红外加热器，所述高温区内还设有油温鼓，所述油温鼓周围设有若干隔离槽，所述隔离槽内设有若干磁控溅射靶，所述低温区内还设有纠偏探测器和纠偏仪，所述纠偏探测器固定在所述隔板上，所述纠偏仪内有基材穿过。本实用新型专利技术提供了一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，可实现卷对卷镀膜的连续化生产，生产成本低，生产时间短，生产效率高，产品质量好，成品率高，能够在基材上一次完成多层膜系的镀膜，同时该设备采用圆形设计，占地面积小，操作简单，易于维护。

Coil to roll magnetron sputtering coating equipment for infrared heating of base

The utility model discloses a substrate infrared heating roll magnetron sputtering equipment, including high temperature, low temperature region, and the coil system and vacuum system, between the low and high temperature regions separated by the partition board, the high temperature area and low temperature area are equipped with infrared heater, the high temperature the region also has oil drums, a plurality of isolating slot is arranged around the oil drum, the isolation groove is provided with a plurality of magnetron sputtering target, the low temperature area is also provided with a deviation detector and correction instrument, the deviation detector is fixed on the partition, the rectification within the substrate through the instrument. The utility model provides a substrate infrared heating roll magnetron sputtering equipment, can realize the continuous production of roll roll coating, low production cost, short production time, high production efficiency, good product quality, high yield, can finish a multilayer coating on the substrate, at the same time the device uses a circular design, covers an area of small, simple operation, easy maintenance.

【技术实现步骤摘要】
一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备
本技术属于真空镀膜
，具体涉及一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备。
技术介绍
磁控溅射是在真空中利用高能粒子轰击靶表面，使被轰击溅射出的靶离子沉积在基片上，溅射时，气体被电离之后，气体离子在电场的作用下飞向电极靶材，并以高能量轰击靶表面，使靶材料发生溅射，溅射出的靶粒子沉积在衬底上。磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍应用于光学、微电子、耐磨、耐腐蚀、装饰等产业领域，用以提供可靠而稳定的薄膜镀层，可为被镀膜产品提供某方面的特性，但是目前的磁控溅射设备只能对单一的个体镀膜，如玻璃、钻头、手机壳等，无法对连续的线材进行镀膜，这是由于磁控溅射不具备绕射功能，单个靶只能对单一平面镀膜，缺乏多面镀膜能力，而且，使用现有磁控溅射设备生产出的产品的基底和薄膜结合不牢固，结晶度差，基底板导电性弱，成品率较低，因此，为了可以将磁控溅射镀膜技术应用到柔性线材上，解决目前柔性线材镀膜的缺陷，需要对磁控溅射设备进行改进，才能对柔性线材进行连续的稳定的镀膜。
技术实现思路
针对现有技术不足，本技术提供了一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，该设备可实现卷对卷镀膜的连续化生产，生产成本低，生产时间短，生产效率高，能够在基材上一次完成多层膜系的镀膜，基底和薄膜结合牢固，结晶度好，基底板导电性强，成品率高，同时该设备采用圆形设计，占地面积小，操作简单，易于维护。为实现技术目的，本技术采用以下技术方案：一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，包括高温区、低温区、收放卷系统和真空系统，所述高温区和低温区之间通过隔板隔开，所述高温区内和低温区内均设有红外加热器，所述高温区内还设有油温鼓，所述油温鼓周围设有若干隔离槽，所述隔离槽确保镀膜过程中不会产生相互污染，所述隔离槽内设有若干磁控溅射靶，若干磁控溅射靶围绕油温鼓排列，保证镀膜均匀一致，所述低温区内还设有纠偏探测器和纠偏仪，所述纠偏探测器固定在所述隔板上，用于检测基材是否走偏，所述纠偏仪内有基材穿过，所述纠偏仪用于纠正走偏的基材。优选为，所述红外加热器共有4个，其中2个处于高温区，另外2个处于低温区，所述红外加热器沿着基材移动方向排列，保证对基材的持续加热，用于除去基材表面的湿气和水蒸气，增强薄膜和基底的结合，提高结晶度，增加基底板导电性，提高产品质量。优选为，所述收放卷系统包括放卷轴、导向辊、张力辊、压辊、冷却辊和收卷轴，所述放卷轴上的基材通过导向辊、张力辊、导向辊后穿过隔板进入高温区，所述高温区中的基材通过导向辊、压辊、油温鼓、冷却辊后穿过隔板进入低温区，所述低温区中的基材通过张力辊、导向辊收于收卷轴，所述导向辊用于引导基材并防止基材抖动，所述张力辊确保基材展开，所述压辊保证基材贴合在油温鼓表面。优选为，所述高温区内设有超低温冷却管，所述低温区内设有低温区冷却管，所述油温鼓上连有油温鼓冷却管，所述超低温冷却管、低温区冷却管和油温鼓冷却管具有降温的作用，同时还有吸附水蒸气的作用。优选为，所述隔离槽为4个，确保镀膜过程中不会产生相互污染。优选为，所述隔离槽内设有2个或3个磁控溅射靶，既能保证最高的镀膜效率，又能保证镀膜过程中不会相互污染。优选为，所述真空系统为分子泵，使设备运行时内部处于真空状态并且没有返油现象。本技术的有益效果是：本技术提供的一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，该设备可实现卷对卷镀膜的连续化生产，生产成本低，生产时间短，生产效率高，能够在基材上一次完成多层膜系的镀膜，基底和薄膜结合牢固，结晶度好，基底板导电性强，成品率高，同时该设备采用圆形设计，占地面积小，操作简单，易于维护。附图说明图1是本技术的结构示意图；图中：1、高温区；2、低温区；3、隔板；4、油温鼓；5、隔离槽；6、磁控溅射靶；7、纠偏探测器；8、放卷轴；9、导向辊；10、张力辊；11、压辊；12、收卷轴；13、基材；14、低温区冷却管；15、油温鼓冷却管；16、红外加热器；17、纠偏仪；18、冷却辊；19、超低温冷却管。具体实施方式下面结合附图通过具体实施方式对本技术作进一步的说明。如图1所示，一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，包括高温区1、低温区2、收放卷系统和真空系统，所述高温区1和低温区2之间通过隔板3隔开，所述高温区1内和低温区2内均设有红外加热器16，所述高温区1内还设有油温鼓4，所述油温鼓4周围设有若干隔离槽5，所述隔离槽5确保镀膜过程中不会产生相互污染，所述隔离槽5内设有若干磁控溅射靶6，若干磁控溅射靶6围绕油温鼓4排列，保证镀膜均匀一致，所述低温区2内还设有纠偏探测器7和纠偏仪17，所述纠偏探测器7固定在所述隔板3上，用于检测基材13是否走偏，所述纠偏仪17内有基材13穿过，所述纠偏仪17用于纠正走偏的基材13，所述红外加热器16共有4个，其中2个处于高温区1，另外2个处于低温区2，所述红外加热器16沿着基材13移动方向排列，保证对基材13的持续加热，用于除去基材13表面的湿气和水蒸气，增强薄膜和基底的结合，提高结晶度，增加基底板导电性，提高产品质量，所述收放卷系统包括放卷轴8、导向辊9、张力辊10、压辊11、冷却辊18和收卷轴12，所述放卷轴8上的基材13通过导向辊9、张力辊10、导向辊9后穿过隔板3进入高温区1，所述高温区1中的基材13通过导向辊9、压辊11、油温鼓4、冷却辊18后穿过隔板3进入低温区2，所述低温区2中的基材13通过张力辊10、导向辊9收于收卷轴12，所述导向辊9用于引导基材13并防止基材13抖动，所述张力辊10确保基材13展开，所述压辊11保证基材13贴合在油温鼓4表面，所述高温区1内设有超低温冷却管19，所述低温区2内设有低温区冷却管14，所述油温鼓4上连有油温鼓冷却管15，所述超低温冷却管19、低温区冷却管14和油温鼓冷却管15具有降温的作用，同时还有吸附水蒸气的作用，所述隔离槽5为4个，确保镀膜过程中不会产生相互污染，所述隔离槽5内设有2个或3个磁控溅射靶6，既能保证最高的镀膜效率，又能保证镀膜过程中不会相互污染，所述真空系统为分子泵，使设备运行时内部处于真空状态并且没有返油现象。以上所述仅为本技术的具体实施例，但本技术的结构特征并不局限于此，本技术可以用于类似的产品上，任何本领域的技术人员在本技术的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本技术的专利范围之中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，包括高温区、低温区、收放卷系统和真空系统，所述高温区和低温区之间通过隔板隔开，其特征在于：所述高温区内和低温区内均设有红外加热器，所述高温区内还设有油温鼓，所述油温鼓周围设有若干隔离槽，所述隔离槽内设有若干磁控溅射靶，所述低温区内还设有纠偏探测器和纠偏仪，所述纠偏探测器固定在所述隔板上，所述纠偏仪内有基材穿过。

【技术特征摘要】
1.一种基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，包括高温区、低温区、收放卷系统和真空系统，所述高温区和低温区之间通过隔板隔开，其特征在于：所述高温区内和低温区内均设有红外加热器，所述高温区内还设有油温鼓，所述油温鼓周围设有若干隔离槽，所述隔离槽内设有若干磁控溅射靶，所述低温区内还设有纠偏探测器和纠偏仪，所述纠偏探测器固定在所述隔板上，所述纠偏仪内有基材穿过。2.如权利要求1所述的基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述红外加热器共有4个，其中2个处于高温区，另外2个处于低温区，所述红外加热器沿着基材移动方向排列。3.如权利要求1所述的基底红外加热的卷对卷磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述收放卷系统包括放卷轴、导向辊、张力辊、压辊、冷却...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵明，任宇航，罗明新，
申请(专利权)人：浙江尚越新能源开发有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33