The invention provides a suspension of anode and magnetron sputtering device with suspended anode, the anode includes an anode body, suspended inside the anode main body is a hollow structure, and the anode is composed of anode and the two anode end of the main support component; the anode part comprises a horizontal part and respectively communicated with each other the level of the two vertical part; the two main support end of one end of the anode respectively and one vertical part is connected, the other end is respectively connected with the cooling water pipe, through which a water pipe flows into the anode body, from another pipe out of the anode body; sealing insulator sleeve in the end of the main support on the anode, and the vacuum chamber and the magnetron sputtering device of the opening of the sealing connection; wire end is connected with the anode end of the main support, the other end is connected Magnetron sputtering power supply. By using the invention, a large amount of overflow electrons can be absorbed by an anode to prevent the electronic bombardment of the substrate from causing the substrate temperature to be too high.
【技术实现步骤摘要】
一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置
本专利技术涉及磁控溅射
,特别涉及一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置。
技术介绍
磁控溅射技术是上个世纪70年代发展起来的,是物理气象沉积的一种。在高真空条件下,一般通入惰性气体,其中氩气比较常见,在电场的作用下,游离电子或场致发射电子受电场力向阴极运动,运动过程中与氩原子碰撞产生氩离子和二次电子,在磁场的作用下,电子延螺旋线轨迹运动,增大了电子的运动轨迹同时也增加了与氩原子的碰撞次数,氩离子在电场的作用下向阴极运动,轰击靶材表面,溅射出靶材粒子,多数粒子最终到达基片表面,沉积成薄膜。现有技术中,磁控溅射装置一般以真空腔体为阳极,靶材为阴极,常规磁控溅射装置中,电子会不断产生也会不断溢出磁场区域,溢出的电子向阳极运动,最终被阳极吸收。但是同时,会有大量的电子轰击到基片上,造成基片温度升高,对于某些不耐高温的基材会造成不良影响,基于此,所镀膜层也会因为基片受热形变或熔化而达不到理想的膜层。因此,如何防止这些溢出的电子轰击到基片上,是目前急需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置,以防止电子轰击基片造成基片温度过高的问题。为了实现上述目的,本专利技术提供了一种悬浮阳极,设置于磁控溅射装置中,该悬浮阳极包括:阳极主体,所述阳极主体内部为空心结构,且所述阳极主体由阳极部分及两个阳极主体支撑端组成;所述阳极部分包括水平部及分别与所述水平部相互连通的两个竖直部;所述两个阳极主体支撑端的其中一端分别与其中一个竖直部连接,另一端分别连接水管,冷却水通过其中一个水管流入所 ...
【技术保护点】
一种悬浮阳极,设置于磁控溅射装置中,其特征在于,包括:阳极主体,所述阳极主体内部为空心结构,且所述阳极主体由阳极部分及两个阳极主体支撑端组成;所述阳极部分包括水平部及分别与所述水平部相互连通的两个竖直部;所述两个阳极主体支撑端的其中一端分别与其中一个竖直部连接,另一端分别连接水管,冷却水通过其中一个水管流入所述阳极主体,从另一个水管流出所述阳极主体;密封绝缘件,套设在所述阳极主体支撑端上,并与所述磁控溅射装置的真空腔体的开口密封连接;电线,一端连接所述阳极主体支撑端,另一端连接磁控溅射电源。
【技术特征摘要】
1.一种悬浮阳极,设置于磁控溅射装置中,其特征在于,包括:阳极主体,所述阳极主体内部为空心结构,且所述阳极主体由阳极部分及两个阳极主体支撑端组成;所述阳极部分包括水平部及分别与所述水平部相互连通的两个竖直部;所述两个阳极主体支撑端的其中一端分别与其中一个竖直部连接,另一端分别连接水管,冷却水通过其中一个水管流入所述阳极主体,从另一个水管流出所述阳极主体;密封绝缘件,套设在所述阳极主体支撑端上,并与所述磁控溅射装置的真空腔体的开口密封连接;电线,一端连接所述阳极主体支撑端,另一端连接磁控溅射电源。2.根据权利要求1所述的悬浮阳极,其特征在于,还包括:金属板,套在所述阳极主体支撑端上,用于固定所述电线。3.根据权利要求1所述的悬浮阳极,其特征在于,所述阳极主体支撑端的上部设有限位凸起部,用于当所述密封绝缘件套设在所述阳极主体支撑端上时,顶住所述密封绝缘件的顶部。4.根据权利要求3所述的悬浮阳极,其特征在于,所述限位凸起部的底部设有用于容纳密封圈的密封圈凹槽。5.根据权利要求1或3所述的悬浮阳极,其特征在于,所述密封绝缘件选用的材料为聚四氟乙烯;所述密封绝缘件包括:绝缘件本体及中间凸起部,所述中间凸起部插入所述开口中,所述绝缘件本体顶住所述真空腔体的底部,且所述中间凸起...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘泽,
申请(专利权)人:大连爱瑞德纳米科技有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁,21
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