\u4e00\u79cd\u8d85\u5bfc\u5f3a\u573a\u78c1\u63a7\u6e85\u5c04\u9634\u6781\u7684\u7edd\u7f18\u7edd\u70ed\u548c\u5bc6\u5c01\u7ed3\u6784\uff0c\u5305\u62ec\u8d85\u5bfc\u7ebf\u5708(1)\u3001\u78c1\u8f6d\u3001\u73bb\u7483\u94a2\u57ab\u7247(5\u30016)\u3001\u675c\u74e6\u3001\u73bb\u7483\u94a2\u5957\u7ba1(10)\u3001\u5927\u56db\u6c1f\u57ab\u5708(11)\u3001\u4e0d\u9508\u94a2\u57ab\u5708(12)\u3001\u5c0f\u56db\u6c1f\u57ab\u5708(13)\u53ca\u9634\u6781\u6258\u67b6(14)\uff1b\u8d85\u5bfc\u7ebf\u5708(1)\u4e0e\u675c\u74e6\u7aef\u76d6(7)\u548c\u5e95\u78c1\u8f6d(4)\u4e4b\u95f4\u7528\u73bb\u7483\u94a2\u57ab\u7247(5\u30016)\u652f\u6491\u548c\u7edd\u7f18\uff0c\u675c\u74e6\u5e95\u5ea7(8)\u91c7\u7528\u771f\u7a7a\u5939\u5c42\u7ed3\u6784\u6216\u586b\u5145\u53d1\u6ce1\u6750\u6599\u4ee5\u964d\u4f4e\u70ed\u635f\u8017\uff1b\u675c\u74e6\u5e95\u5ea7(8)\u548c\u4e0d\u9508\u94a2\u57ab\u5708(12)\u4e4b\u95f4\u91c7\u7528\u5927\u56db\u6c1f\u57ab\u5708(11)\u914d\u5408\u5bc6\u5c01\u5708\u5bc6\u5c01\u548c\u7edd\u7f18\uff0c\u5927\u56db\u6c1f\u57ab\u5708(11)\u3001\u4e0d\u9508\u94a2\u57ab\u5708(12)\u3001\u5c0f\u56db\u6c1f\u57ab\u5708(13)\u548c\u675c\u74e6\u5e95\u5ea7(8)\u4e4b\u95f4\u91c7\u7528\u73bb\u7483\u94a2\u87ba\u6813\u6216\u5e26\u73bb\u7483\u94a2\u7edd\u7f18\u5957\u7ba1\u7684\u91d1\u5c5e\u87ba\u6813\u7d27\u56fa\uff1b\u4e0d\u9508\u94a2\u57ab\u5708(12)\u548c\u9634\u6781\u6258\u67b6(14)\u4e4b\u95f4\u91c7\u7528\u5bc6\u5c01\u5708\u5bc6\u5c01\u5e76 Fasten with an ordinary metal bolt.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种磁控溅射阴极,特别涉及一种超导强场磁控溅射阴极的绝缘绝热和密封结构。
技术介绍
磁控溅射广泛应用于材料镀膜领域,为了探索最优镀膜工艺,在过去30年里,开发了各种各样的磁控溅射装置。强磁场磁控溅射装置在高质量透明导电薄膜和亚微米级集成电路的制造工艺中相比常规磁控溅射装置具有明显的优势。Ishibashi于1990年首先研究了永磁强磁场磁控溅射装置,该装置可以在较低的阴极电压下放电,从而得到低电阻率氧化铟锡(ITO)薄膜。强磁场下薄膜电阻率降低的原因被认为是强磁场可以抑制负离子对沉积薄膜的高能轰击。2003年,日本名古屋大学的Mizutani首先提出了利用超导块材激磁的强磁场磁控溅射装置,在低气压、高电压和长靶基板间距的情况下,实现了磁控放电。2004年,Hazama用超导块激磁的磁控溅射设备研究了200nm级别的Cu薄膜制备工艺,发现在低的气压、长的靶基间距等离子体热辐射对基片的影响很小,有利于制备高质量的薄膜。2007年,Yamaguchi用超导块激的磁控溅射装置制备了反射率达70%的光学镜片。2008年,Ikuta采用超导磁控溅射装置在无基板加热的情况下制备了Ga掺杂ZnO透明电极薄膜,薄膜电阻率为4.7×10-4Ωcm,接近了可实际应用的电阻率水平。2009年,中国专利200910093159.1公开了一种基于圆形及跑道形超导线圈激磁的强磁场平面磁控溅射装置,2014年,中国专利201410766299.1公开了超导强磁场磁控溅射阴极的低温冷却系统。上述专利提出了超导强场磁控溅射阴极的总体设计和低温冷却系统,尽管如此,由于超导磁控溅 ...
【技术保护点】
一种超导强场磁控溅射阴极的绝缘绝热和密封结构,其特征在于:所述的超导强场磁控溅射阴极的绝缘绝热和密封结构由超导线圈(1)、内磁轭(2)、外磁轭(3)、底磁轭(4)、第一玻璃钢垫片(5)、第二玻璃钢垫片(6)、杜瓦端盖(7)、杜瓦底座(8)、通电导体(9)、玻璃钢套管(10)、大四氟垫圈(11)、不锈钢垫圈(12)、小四氟垫圈(13),以及阴极托架(14)构成;外磁轭(3)位于内磁轭(2)的外部,底磁轭(4)位于内磁轭(2)和外磁轭(3)的底部,超导线圈(1)安装在内磁轭(2)、外磁轭(3)和底磁轭(4)之间;所述的超导线圈(1)、内磁轭(2)、外磁轭(3)和底磁轭(4)安装在杜瓦端盖(7)和杜瓦底座(8)包围的空间中;大四氟垫圈(11)位于杜瓦底座(8)的下方,不锈钢垫圈(12)位于大四氟垫圈(11)的下方,小四氟垫圈(13)安装在杜瓦底座(8)的下方;阴极托架(14)安装在不锈钢垫圈(12)的下方、小四氟垫圈(13)的外部,用于支撑磁控溅射阴极;超导线圈(1)与杜瓦端盖(7)和底磁轭(4)之间采用玻璃钢垫片(5、6)支撑和绝缘,通电导体(9)与杜瓦底座(8)之间采用玻璃钢套管(10) ...
【技术特征摘要】
1.一种超导强场磁控溅射阴极的绝缘绝热和密封结构,其特征在于:所述的超导强场磁控溅射阴极的绝缘绝热和密封结构由超导线圈(1)、内磁轭(2)、外磁轭(3)、底磁轭(4)、第一玻璃钢垫片(5)、第二玻璃钢垫片(6)、杜瓦端盖(7)、杜瓦底座(8)、通电导体(9)、玻璃钢套管(10)、大四氟垫圈(11)、不锈钢垫圈(12)、小四氟垫圈(13),以及阴极托架(14)构成;外磁轭(3)位于内磁轭(2)的外部,底磁轭(4)位于内磁轭(2)和外磁轭(3)的底部,超导线圈(1)安装在内磁轭(2)、外磁轭(3)和底磁轭(4)之间;所述的超导线圈(1)、内磁轭(2)、外磁轭(3)和底磁轭(4)安装在杜瓦端盖(7)和杜瓦底座(8)包围的空间中;大四氟垫圈(11)位于杜瓦底座(8)的下方,不锈钢垫圈(12)位于大四氟垫圈(11)的下方,小四氟垫圈(13)安装...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱清泉,汪天龙,屈飞,靖立伟,张国民,肖立业,
申请(专利权)人:中国科学院电工研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
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