一种真空镀膜设备制造技术

本发明专利技术公开了一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及与支架连接的磁性转动组件，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，磁性转动组件包括设置于气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于气相沉积室内侧的第二旋转磁体，第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，第一旋转磁体在同步电机带动下转动，并能够带动第二旋转磁体转动，进而带动支架转动。通过这样的设计，能够避免漏气现象，而且能够对待镀膜工件进行批量真空纳米镀膜，有效提高待镀膜工件真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，说明书已公开。

【技术保护点】
PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，...

【专利技术属性】
技术研发人员：文洁，何自坚，
申请(专利权)人：深圳市大富精工有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44