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本发明公开了一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及与支架连接的磁性转动组件，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，磁性转动组件包括设置于气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于气相沉积室内侧的第二旋转磁体，第一旋转磁体...
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