【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及涂装技术,特别涉及一种多功能镀膜设备及镀膜方法。
技术介绍
目前,真空镀膜机是用于表面处理PVD膜层的专用设备,包括真空磁控溅射镀膜机、真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机等,真空磁控溅射镀膜机可在低温状态下进行非金属材料进行镀膜,真空蒸发镀膜机和真空多弧离子镀膜机属于高温镀膜,适用于金属材料镀膜。每种镀膜机都有各自特点和使用范围限制,如需镀制多种不同膜层以及进行金属和非金属材料的镀膜,需要购置上述多种真空镀膜机,存在设备投资大的缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的,就是为了解决上述问题,提供一种多功能镀膜设备及镀膜方法。为了达到上述目的,本专利技术采用了以下技术方案:一种多功能镀膜设备,其包括:真空腔室;用于盛放靶材的坩埚,设置在真空腔室内;电磁感应线圈,缠绕在坩埚外,其正负极连接设置在真空腔室外的中高频电源;用于装载镀膜工件的工件台盘,安装在真空腔室内壁并设置在坩埚上方,该工件台盘可水平旋转并带有加热装置;高压气体管路,穿越真空腔室并与坩埚下部相连;用于装载镀膜工件的自控台架,设置真空腔室外并连接在高压气体管路的右端;用于向真空腔室内输送丝状靶材的靶材输送器,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;用于对真空腔室抽真空的真空泵,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;高压供气系统,连接在高压气体管路的左端。所述高压气体管路的大部分为恒径管,右侧有一段渐扩管,中间设置了用于嵌装坩埚的凹槽,高压气体管路左右两端分别设有耐高压的单向阀门。所述坩埚底部设有多个漏液微孔;所述高压气体管路的凹槽上对应设有多个进液微孔。所述靶材为颗粒状、棒状或丝状靶材。所述真空 ...
【技术保护点】
一种多功能镀膜设备,其特征在于包括:真空腔室;用于盛放靶材的坩埚,设置在真空腔室内;电磁感应线圈,缠绕在坩埚外,其正负极连接设置在真空腔室外的中高频电源;用于装载镀膜工件的工件台盘,安装在真空腔室内壁并设置在坩埚上方,该工件台盘可水平旋转并带有加热装置;高压气体管路,穿越真空腔室并与坩埚下部相连;用于装载镀膜工件的自控台架,设置真空腔室外并连接在高压气体管路的右端;用于向真空腔室内输送丝状靶材的靶材输送器,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;用于对真空腔室抽真空的真空泵,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;高压供气系统,连接在高压气体管路的左端。
【技术特征摘要】
1.一种多功能镀膜设备,其特征在于包括:真空腔室;用于盛放靶材的坩埚,设置在真空腔室内;电磁感应线圈,缠绕在坩埚外,其正负极连接设置在真空腔室外的中高频电源;用于装载镀膜工件的工件台盘,安装在真空腔室内壁并设置在坩埚上方,该工件台盘可水平旋转并带有加热装置;高压气体管路,穿越真空腔室并与坩埚下部相连;用于装载镀膜工件的自控台架,设置真空腔室外并连接在高压气体管路的右端;用于向真空腔室内输送丝状靶材的靶材输送器,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;用于对真空腔室抽真空的真空泵,连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通;高压供气系统,连接在高压气体管路的左端。2.如权利要求1所述的多功能镀膜设备,其特征在于:所述高压气体管路的大部分为恒径管,右侧有一段渐扩管,中间设置了用于嵌装坩埚的凹槽,高压气体管路左右两端分别设有耐高压的单向阀门。3.如权利要求1所述的多功能镀膜设备,其特征在于:所述坩埚底部设有多个漏液微孔;所述高压气体管路的凹槽上对应设有多个进液微孔。4.如权利要求1所述的多功能镀膜设备,其特征在于:所述靶材为颗粒状、棒状或丝状靶材。5.如权利要求1所述的多功能镀膜设备,其特征在于:所述真空腔室的壁上还设置有多个预留孔,用于通冷却水、输...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋逸,
申请(专利权)人:上海建冶科技工程股份有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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