一种镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术属于镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜设备。本实用新型专利技术提供的镀膜设备包括镀膜腔体和溅射装置，所述溅射装置可对放置在所述镀膜腔体外的待镀膜载体喷射溅射清洗粒子。本实用新型专利技术提供的镀膜设备解决了由于在镀膜腔体内部进行溅射清洗而导致镀膜腔体内环境受到污染的技术问题，该镀膜设备可应用于镀膜工艺中。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于镀膜
，具体涉及一种镀膜设备。
技术介绍
TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)面板的生产制程包括阵列制程(Array Process)。阵列制程是利用镀膜设备在洁净的玻璃基板上镀上薄膜，再通过曝光、显影等步骤在玻璃基板上制作电晶体图案，最后进行蚀刻形成所需要的电路图案；重复前面所述过程5-7次就完成了阵列制程。在上述阵列制程中，玻璃基板在镀上薄膜之前，需要对玻璃基板进行清洗，以避免杂质影响薄膜与玻璃基板之间的结合力。清洗一般是将玻璃基板依次经过去离子水、丙酮、去离子水、乙醇、去离子水的反复清洗。尽管对玻璃基板作了如此细致的清洗，但进入镀膜腔体内的玻璃基板表面仍然会存在部分的水分子以及未洗净的油污分子，若不对这部分水分子及油污分子做进一步去除，则会直接影响薄膜的附着力，也会影响成膜纯度。现有的解决办法是利用溅射技术对玻璃基板表面进行溅射清洗。溅射清洗能很好地清洗掉玻璃基板上剩余的水分子及油污分子。但现有技术中，溅射清洗玻璃基板的过程是在镀膜设备中的镀膜腔体内进行的，从玻璃基板表面清洗掉的水分子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜设备，其特征在于，包括镀膜腔体和溅射装置，所述溅射装置可对放置在所述镀膜腔体外的待镀膜载体喷射溅射清洗粒子。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张启平，孙文波，刘同敏，夏继泰，
申请(专利权)人：合肥京东方显示光源有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34