水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置制造方法及图纸

技术编号:11924021 阅读:135 留言:0更新日期:2015-08-21 14:39
本实用新型专利技术公开了一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,传输基板上水平设置有铜传导板,铜传导板装有内嵌式热电偶测温棒和PTC恒温低压加热元件,且分别与传输基板上的铜盘电极对应连接;真空腔室底部设置有旋转式导电轮电极,旋转式导电轮电极包括两组:其中一组为电源电极,另一组为测温电极;传输基板的铜盘电极与旋转式导电轮电极对应接触进行电连接时,进行实时温度检测和加热的控制。本实用新型专利技术克服了连续磁控溅射镀膜在真空腔室内对待镀面板加热难的问题,提高了被镀显示面板的透明导电膜,抗反射膜,高反射膜的镀膜品质。适合用于提高显示面板透明导电膜,抗反射膜,高反射膜的镀膜品质。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,具体涉及一种在水平式真空溅镀镀膜时,待镀面板在进入真空腔的每一个腔室时,都能给待镀面板加热,保证面板恒温,并实时检测温度并控制加热的装置,属于机械

技术介绍
抗反射导电膜是一种具有良好透明导电性能的金属化合物,具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等特性,广泛地应用于平板显示器件、太阳能电池、特殊功能窗口涂层及其他光电器件领域,是目前IXD、PDP, OLED、触摸屏等各类平板显示器件唯一的透明导电电极材料。作为平板显示器件的关键基础材料,其随着平板显示器件的不断更新和升级而具有更加广阔的市场空间。近年来,行业内普遍证实:随着基底温度的升高,表面电阻迅速降低,可见光透过率和红外反射率都有明显提高,高的基底温度改善了膜的结晶,减少了晶界,使膜的迀移率和Sn4 +载流子密度有所提高,从而降低了表面电阻,同时载流子密度的提高减少了黑色InO的生成,提高了可见光透过率。因此,抗反射导电膜行业内对面板镀膜有了更高的品质要求。除在原有影响品质因素之外,真空腔室内对面板镀前加热是解决问题的关键。为了更好的满足此工艺,立式磁控镀膜机采用玻璃加热采用红外线加热,设计简单,满足工艺的需要,但自身存在一些问题,导致其镀抗反射导电膜品质低,产能少。许多公司采用水平式连续式磁控镀膜机可以更好克服上述问题,但在抗反射导电膜前在面板上均匀加热就出现了瓶颈。
技术实现思路
目的:为了克服现有技术中存在的不足,本技术提供一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,在真空环境下给被镀材料基底进行均匀加热,能够降低导电膜的方阻和提高可见光透过率。技术方案:为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案为:一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:包括真空腔室、工作平台、传输导轨、传输基板、铜传导板和铜盘电极;工作平台设置在真空腔室内部,工作平台上平行设置有一对传输导轨,传输导轨滑动连接水平设置有用于传输待镀面板的传输基板;传输基板上水平设置有铜传导板,铜传导板装有内嵌式热电偶测温棒和PTC恒温低压加热元件,且PTC恒温低压加热元件的电源引线和热电偶测温棒引线分别与传输基板上的铜盘电极对应连接;真空腔室底部设置有旋转式导电轮电极,旋转式导电轮电极包括两组:其中一组为电源电极,另一组为测温电极;当传输基板到达一真空腔室工作时,传输基板的铜盘电极与旋转式导电轮电极对应接触进行电连接,从而进行待镀面板实时温度检测和加热的控制。所述的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:真空腔室侧壁预留的KF40 口处设置有KF40法兰系列真空电极,KF40法兰系列真空电极通过导线与旋转式导电轮电极相连。所述的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:所述铜传导板与待镀面板的接合面上开设有排气槽和排气孔。作为优选方案,所述的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:所述铜传导板与传输基板连接处采用多个不锈钢方块支撑,使铜传导板与传输基板之间留有间隙,保证传输基板从大气状态进入到真空状态不会溢气影响镀膜真空。作为优选方案,所述的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:所述在线面板恒温加热装置还包括绝缘底座,旋转式导电轮电极通过绝缘底座固定安装在真空腔室底部。作为优选方案,所述的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:所述在线面板恒温加热装置还包括铁弗龙绝缘法兰垫片,铜盘电极通过铁弗龙绝缘法兰垫片进行绝缘固定安装在传输基板上。有益效果:本技术提供的水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,在水平连续镀膜机的每个工作腔室内装上一组电源电极和一组测温电极,当传输基板每到达一个工作腔室,与电源电极接触开始加热被镀基材,同时检测温度的电极也接触到对应的测温电极,传输温度信号给外部的温控系统,温控系统根据温度情况实时对加热装置进行PID加热控制,通过热传导的方式,腔体内加热传输板把热量传递给待镀面板。本技术克服了连续磁控溅射镀膜在真空腔室内对待镀面板加热难的问题,提高了被镀显示面板的透明导电膜,抗反射膜,高反射膜的镀膜品质。适合用于提高显示面板透明导电膜,抗反射膜,高反射膜的镀膜品质。在水平式连续真空磁控镀膜业内,采用此加热装置,改造的成本最低,机械结构简单,方便安装。具有以下优点:(1)在水平式连续真空磁控镀膜业内,采用此加热装置,改造的成本最低,机械结构简单,方便安装。(2)铜的导热性能好,加热器传导热到被镀玻璃基材上响应速度快,在铜传导板5与面板接合面上开有排气孔,铜传导板5与传输基板4连接处用六个不锈钢方块支撑,留有间隙;这样可以保证传输基板在大气状态到真空状态不存在溢气现象,不会影响镀膜真空。(3)传输基板4在镀膜传输中,传输基板4的四个电极与腔体底座旋转导电轮电极可靠接触,使被镀基材加热和实时温度检测的成为现实,并在腔体不会产生磨擦粉尘。(4 )本加热装置采用高电流低电压的方式来进行加热,加热温度区间在30-230度,可根据被镀基材需要进行温度设定。采用高电流低电压的方式,电压在安全电压以下,运行过程中安全可靠。【附图说明】图1和图2是本技术的结构示意图;图3是图1中B-B向剖面图;图中:真空腔室1、工作平台2、传输导轨3、传输基板4、铜传导板5、铜盘电极6、旋转式导电轮电极7、绝缘底座8、KF40法兰系列真空电极9、导线10、铁弗龙绝缘法兰垫片Ilo【具体实施方式】下面结合附图对本技术作更进一步的说明。如图1所示,为一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,包括真空腔室1、工作平台2、传输导轨3、传输基板4、铜传导板5和铜盘电极6,工作平台2设置在真空腔室I内部,所述工作平台上平行设置有一对传输导轨3,所述传输导轨3滑动连接水平设置有用于传输待镀面板的传输基板4 ;传输基板4上水平设置有铜传导板5,铜传导板5装有内嵌式热电偶测温棒和PTC恒温低压加热元件,且PTC恒温低当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水平连续式磁控溅射镀膜机在线面板恒温加热装置,其特征在于:包括真空腔室、工作平台、传输导轨、传输基板、铜传导板和铜盘电极;工作平台设置在真空腔室内部,工作平台上平行设置有一对传输导轨,传输导轨滑动连接水平设置有用于传输待镀面板的传输基板;传输基板上水平设置有铜传导板,铜传导板装有内嵌式热电偶测温棒和PTC恒温低压加热元件,且PTC恒温低压加热元件的电源引线和热电偶测温棒引线分别与传输基板上的铜盘电极对应连接;真空腔室底部设置有旋转式导电轮电极,旋转式导电轮电极包括两组:其中一组为电源电极,另一组为测温电极;当传输基板到达一真空腔室工作时,传输基板的铜盘电极与旋转式导电轮电极对应接触进行电连接,从而进行待镀面板实时温度检测和加热的控制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:万志黄国兴
申请(专利权)人:赫得纳米科技昆山有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1