公开了一种针对光刻系统中的衬底平台的参考位置确定校准后的参考曝光栅格和校准后的参考测量栅格的方法。所述方法包括：获得与一个或更多个校准衬底有关的校准数据；以及根据所述校准数据确定所述光刻系统的曝光侧的曝光栅格、和根据所述校准数据确定所述...

带电粒子束系统可以包括检测器。用于检测器的封装可以具有包括两个销集的封装体，销集中的每个销集包括两个销。销集中的每个销可以被配置为连接到感测元件的两个端子中的一个端子。不同集合中的销可以被配置为连接到二极管的两个端子中的不同端子。销集可...

披露了一种产生高次谐波辐射的高次谐波辐射源和相关联的方法。所述高次谐波辐射源被配置成通过利用辐射的预脉冲照射所述气体介质来调节所述气体介质，由此产生包括预脉冲等离子体分布的等离子体；以及利用辐射的主脉冲来照射所述气体介质以产生所述高次谐...

确定由带电粒子束工具获取的图像中的像差的方法包括以下步骤：a)获取样品的两个或更多个图像，其中每个图像以在带电粒子束工具的测量条件中的已知相对差获取；b)针对表示由带电粒子束工具使用的带电粒子束的探测轮廓的像差，选择所估计的像差参数；c...

校准系统包括板、固定对准标记和可变衍射光栅。该板与被设置在晶片上的晶片对准标记相邻。固定对准标记被设置在板上，并被配置为用作校准系统的初始校准的参考标记。该可变衍射光栅被设置在板上，并且包括被配置为形成多个可变对准标记的多个单元体。可变...

公开了一种推断光刻工艺的第一处理参数的值的方法，第一处理参数受制于第二处理参数的耦合相关性。方法包括根据测量数据确定第一度量和第二度量，第一度量和第二度量中的每一者取决于第一处理参数和第二处理参数两者。第一度量表示与第二处理参数相比对第...

一种用于检查衬底的装置和检查衬底的方法，其中带电粒子束被布置为撞击衬底的一部分，并且具有第一波长的第一光束和具有第二波长的第二光束也被布置为撞击衬底的一部分，该第二波长与第一波长不同。第二波长与第一波长不同。第二波长与第一波长不同。

本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得(i)包括至少一个特征的目标图案，该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及(ii)多个偏差规则，该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度...

一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；受控环境腔室和清洁物质输送机构。输送至所述隔膜的清洁物质的颗粒在受控环境中升华而不留下残留物。受控环境中的掩模、孔和气体阻力的组合允许向所述隔膜提供具有在约1至100m/s(优选地...

一种用于诸如减少校准时间、改进模型的精确度以及改进整个制造过程的各种目的的方法，其中通过两个不同的过程模型模拟图像的特性的偏差或通过过程模型模拟且通过量测工具测量所述特性的偏差。量所述特性的偏差。

公开了光学部件及其制造方法。第一光学部件包括空芯光子晶体光纤，该空芯光子晶体光纤包括用于引导辐射的内部毛细管和包覆该内部毛细管的外部毛细管；以及至少一个输出端区段，该至少一个输出端区段在所述输出端区段的至少一部分上的内径大于沿着空芯光子...

本文的实施例描述了用于使用增强式静电夹具减小夹具

披露了一种将测量数据拟合至模型的方法。该方法包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将测量数据拟合至模型。以将测量...

提供了一种用于带电粒子束成像的装载锁定系统，其具有粒子屏蔽板(204)、底部密封板(202)和多个传感器单元(301

描述了一种用于测量当前靶在其沿着轨迹朝向靶空间行进时的移动性质的方法。该方法包括：在当前靶进入靶空间之前检测由于当前靶与多个诊断探针中的每一个诊断探针之间的相互作用而产生的光的多个二维表示；基于对检测到的光的多个二维表示的分析来确定当前...

公开了用于图像增强的系统和方法。用于增强图像的方法可以包括获取扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还可以包括模拟与SEM图像的位置相关联的扩散电荷。该方法还可以包括基于SEM图像和扩散电荷来提供增强的SEM图像。SEM图像和扩散电荷来提...

本文中描述了一种训练模型的方法，该模型被配置为预测与成像衬底相关联的特征在成像衬底的蚀刻之后是否将有缺陷，并且基于已训练模型确定蚀刻条件。该方法包括经由量测工具获取(i)在给定位置处的成像衬底的显影后图像，显影后图像包括多个特征，以及(...

提供了一种容纳装置，该容纳装置被设置为容纳产生激光的等离子体辐射源的废产物。该容纳装置包括：第一部分，限定腔室；以及第二部分，至少部分地对腔室的入口进行限定。在使用中，废产物通过入口进入腔室。第二部分由包括陶瓷材料的材料形成。该容纳装置...

一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和压力脉冲产生机构，所述压力脉冲产生机构包括被配置成在气体中产生压力脉冲的一个或更多个激光能量源。所述一个或更多个能量激光源可以被聚...

公开了一种制造用于激光产生的等离子体辐射源的液滴生成器喷嘴的方法。所述方法包括将玻璃毛细管设置在金属装配件的通孔中，加热所述金属装配件；以及向所述玻璃毛细管施加压力，使得所述玻璃毛细管与所述通孔的形状保形并与所述通孔形成直接的玻璃－金属...