用于宽带辐射生成的基于空芯光子晶体光纤的光学部件制造技术

公开了光学部件及其制造方法。第一光学部件包括空芯光子晶体光纤，该空芯光子晶体光纤包括用于引导辐射的内部毛细管和包覆该内部毛细管的外部毛细管；以及至少一个输出端区段，该至少一个输出端区段在所述输出端区段的至少一部分上的内径大于沿着空芯光子晶体光纤的在输出端区段之前的中心部分的外部毛细管的内径。第二光学部件包括空芯光子晶体光纤和套管装置。和套管装置。和套管装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于宽带辐射生成的基于空芯光子晶体光纤的光学部件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年8月24日提交的EP申请19204985.6和于2019年12月18日提交的EP申请19217381.3的优先权，这些EP申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本专利技术涉及一种基于空芯光子晶体光纤的宽带辐射生成器，尤其涉及与集成电路制造中的量测应用相关的这种宽带辐射生成器。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以在图案形成装置(例如，掩模)处将图案(通常也称为”设计布局”或”设计”)投射到被设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。目前使用的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4至20nm范本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学部件，包括：空芯光子晶体光纤，包括用于引导辐射的内部毛细管和包覆所述内部毛细管的外部毛细管；以及至少一个输出端区段，在所述输出端区段的至少一部分上的内径大于沿所述空芯光子晶体光纤在所述输出端区段之前的中心部分的所述外部毛细管的内径。2.根据权利要求1所述的光学部件，其中所述输出端区段被配置为使得从所述空芯光子晶体光纤发射的发散宽带辐射在轴向传播方向上不被所述输出端区段阻挡。3.根据权利要求1或2所述的光学部件，其中所述空芯光子晶体光纤的所述内部毛细管被塌缩以在所述空芯光子晶体光纤的每个端部处限定锥形芯区域，所述锥形芯区域包括所述空芯光子晶体光纤的空芯的直径朝向所述空芯光子晶体光纤的每个端部增大的区域。4.根据权利要求1、2或3所述的光学部件，还包括：输入端区段；第一透明端帽和第二透明端帽，密封所述空芯光子晶体光纤的相应端部；以及气体介质，被密封在由所述空芯光子晶体光纤、端区段和端帽共同限定的空间内；其中所述输入端区段被包括在所述空芯光子晶体光纤的输入端部和所述第一端帽之间，并且所述输出端区段被包括在所述空芯光子晶体光纤的输出端部和所述第二端帽之间。5.根据权利要求4所述的光学部件，其中所述第一透明端帽被配置为接收用于激励所述气体介质的泵浦辐射束以用于超连续谱生成，并且所述第二透明端帽被配置为发射从所述超连续谱生成得到的输出束。6.根据前述权利要求中任一项所述的光学部件，其中所述空芯光子晶体光纤包括光纤涂层。7.根据权利要求1、2或3所述的光学部件，其中所述输出端区段向外加宽以限定从所述空芯光子晶体光纤朝向所述输出端区段的输出端部的扩张内径；以及其中：所述输出端区段至少包括所述外部毛细管的加宽的输出端部分；或所述输出端区段包括与所述空芯光子晶体光纤的端部...

【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：