公开了一种夹具组件，该夹具组件包括夹具(50)，该夹具(50)可配置为通过静电粘附将支撑构件(110)夹紧到夹具的下基面(49)；和布置，该布置可配置为将气体引导到夹具的下基面(49)。该布置可配置为通过将气体暴露于液体来加湿气体。还公...

本文中公开了一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，该装置包括多个源(401)，该多个源各自被布置为发射带电粒子射束；聚光透镜(403)，该聚光透镜被布置为从多个源接收射束；以及操纵器阵列布置(404、405)，该操纵器阵列布置被配...

本发明涉及用于改善光刻衬底保持件的抗腐蚀性的方法。本发明还涉及包括具有提高的耐腐蚀性的光刻衬底保持件的系统，以及涉及使用这种系统来制造例如集成电路的器件的方法。本发明还涉及具有被配置呈当在光刻中使用时被优先腐蚀的背面的衬底。本发明特别用...

本公开的实施例涉及光学放大器气体介质的催化转化。一种极紫外光系统包括光学放大器系统和光学转化系统。光学放大器系统的每个光学放大器包括形式为产生放大光束的气体混合物的形式的增益介质。光学放大系统包括气体混合物可以流过其中的流体输入和流体输...

一种极紫外(EUV)光源，包括：容器，被配置为接收靶材料，该靶材料在处于等离子体态时发射EUV光；输送系统，被配置为将自由基输送到容器的内部；物体，在容器的内部中；以及抑制剂物质。在操作使用中，物体积聚包括靶材料的碎屑，自由基与碎屑中的...

一种用于确定输入的方法，该输入被输入至透镜模型，以在对衬底的多个场中的至少一个场进行寻址时，确定针对光刻设备的透镜的操纵的设定值，所述方法包括：接收针对至少一个场的参数数据，该参数数据与衬底的在至少一个场内的一个或多个参数有关，该一个或...

描述了一种用于将图案成像到衬底上的源掩模优化或仅掩模优化方法。该方法包括：针对来自照射源的照射，确定非均匀照射强度分布；以及基于非均匀照射强度分布，确定对图案的一个或多个调节，直到确定图案化到衬底上的特征与目标设计基本匹配。可以基于照射...

本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，所述制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，所述方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中所述图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计...

检测系统(200)包括照射系统(210)、第一光学系统(232)、相位调制器(220)、锁定检测器(255)和函数发生器(230)。照射系统被配置为沿着照射路径传输照射束(218)。第一光学系统被配置为朝向衬底(202)上的衍射目标(2...

本发明涉及流体处理系统。流体处理系统包括液体限制结构，液体限制结构被配置为将浸没液体限制在液体限制结构的至少一部分和衬底表面之间的空间中。流体处理系统还包括被配置为使得与浸没液体接触的振动部件振动的机构。为使得与浸没液体接触的振动部件振...

衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间...

本发明提供一种可调谐激光设备，包括：激光源，提供具有源光频率的激光束；调谐设备，调谐具有源光频率的激光束以提供具有调谐光频率的激光束；输入设备，用于向调谐设备提供输入信号；以及前馈设备，提供前馈信号，该前馈信号被设置为补偿由调谐设备引起...

公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔...

一种确定形貌的方法，该方法包括：获得第一聚焦值，所述第一聚焦值从对未经图案化的衬底的图案化建模的计算光刻模型导出或从未经图案化的衬底上的图案化层的测量导出；获得第二聚焦值，所述第二聚焦值从具有形貌的衬底的测量导出；和根据第一聚焦值和第二...

公开了一种量测方法，诸如对准量测。所述方法包括在光瞳平面处获得与由结构测量产生的散射辐射相关的光瞳平面测量数据集。所述方法包括使用所述光瞳平面测量数据集以及与用于执行所述测量的传感器光学器件相关的传感器项来确定测量值或其校正。器项来确定...

披露了一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法。所述方法包括：接收表示由所述区域所散射的辐射的一部分的辐射信息；以及在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的...

披露了一种用于确定针对使用光刻设备在曝光场上曝光图案的光刻过程的控制的校正的方法。所述方法包括：获得描述跨越所述曝光场的至少一部分上的性能参数的空间变化的空间分布；和共同确定针对所述空间分布的控制配置文件以在最小化所述性能参数中的误差的...

用于使用从辐射源(100)发射并且被引导到衬底(300)上的源辐射来测量所述衬底(300)的一个或更多个参数的设备和方法。所述设备包括至少一个反射元件(710a)和至少一个检测器(720，721)。所述至少一个反射元件被配置成接收由所述...

提供了一种处理衬底的方法，所述衬底具有形成在其上的金属氧化物抗蚀剂层，所述方法包括以下步骤：将所述衬底曝光于图案化辐射以形成包括位于所述金属氧化物抗蚀剂层中的多个特征的图案；将所述衬底的包括至少一个所述特征的一部分曝光于调节辐射，由此引...

披露了一种用于制造能够用作空芯光子晶体光纤的一部分的毛细管的方法。所述方法包括获得具有包括第一壁厚的毛细管壁的毛细管；和化学蚀刻所述毛细管壁以减小所述毛细管壁的壁厚。在执行所述蚀刻步骤期间，沿毛细管的长度局部地改变与所述蚀刻步骤中所使用...