使用锁定放大器技术的重叠测量系统技术方案

检测系统(200)包括照射系统(210)、第一光学系统(232)、相位调制器(220)、锁定检测器(255)和函数发生器(230)。照射系统被配置为沿着照射路径传输照射束(218)。第一光学系统被配置为朝向衬底(202)上的衍射目标(204)传输照射束。第一光学系统还被配置为传输包括由衍射目标衍射的衍射级子束(222,224,226)的信号束。相位调制器被配置为基于参考信号来调制照射束或信号束。锁定检测器被配置为收集信号束并且基于信号束和参考信号来测量衍射目标的特性。函数发生器被配置为生成用于相位调制器和锁定检测器的参考信号。和锁定检测器的参考信号。和锁定检测器的参考信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用锁定放大器技术的重叠测量系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月5日提交的美国临时专利申请号62/943,876的优先权，该美国临时专利申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本公开涉及例如用于光刻设备和系统的检测设备和系统。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模、掩模板)的图案投影到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4至20nm范围内(例如，6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成较小特征。
[0006]为了控制光刻工艺以将器件特征精确地放置在衬底上，通常在例如衬底上提供一个或多个衍射目标(例如，对准标记)，并且光刻设备包括一个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种检测系统，包括：照射系统，被配置为沿着照射路径传输照射束；第一光学系统，被配置为朝向衬底上的衍射目标传输所述照射束，所述第一光学系统还被配置为传输信号束，所述信号束包括由所述衍射目标衍射的衍射级子束；相位调制器，被配置为：基于参考信号，调制所述照射束或所述信号束；锁定检测器，被配置为：收集所述信号束，并且基于所述信号束和所述参考信号来测量所述衍射目标的特性；以及函数发生器，被配置为：生成用于所述相位调制器和所述锁定检测器的所述参考信号。2.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述照射束包括基于所述相位调制器和来自所述函数发生器的所述参考信号的经相位调制的照射束。3.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述照射束包括：基于来自所述函数发生器的所述参考信号中的第一参考信号的第一经相位调制的照射束；以及基于来自所述函数发生器的所述参考信号中的第二参考信号的第二经相位调制的照射束。4.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述相位调制器被配置为：对朝向所述锁定检测器的所述信号束的第一衍射级子束进行调制。5.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述信号束包括基于所述相位调制器和来自所述函数发生器的所述参考信号的经相位调制的信号束。6.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述参考信号包括来自所述照射系统的参考照射束。7.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述第一光学系统包括第一分束器，所述第一分束器被配置为将所述信号束的第一衍射级子束朝向所述锁定检测器传输。8.根据权利要求7所述的检测系统，其中所述参考信号包括所述信号束的所述第一衍射级子束。9.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述照射系统、所述锁定检测器、所述相位调制器和所述函数发生器被集成在光学器件芯片中。10.根据权利要求1所述的检测系统，其中所述锁定检测器包括用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：