本发明涉及多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以...

一种配置标记的方法，所述标记包括蚀刻到衬底中的沟槽，所述方法包括：a)获得遍及被沉积在具备试用深度的试用沟槽上的试用层的一表面的高度变化的范围与所述试用层的厚度之间的关系；b)确定遍及被沉积在所述标记上的层的所述表面所述的高度变化的范围...

公开了用于图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法，可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录((502),(506))，每个记录与射束相关联。该方法还可以包括基于使用记录的一部分(502)所确定的基准值(504)...

本文中描述了生成用于图案化过程的特性图案以及训练机器学习模型的方法。一种训练机器学习模型的方法，所述机器学习模型被配置成生成掩模图案的特性图案，所述方法包括：获得(i)满足与所述掩模图案的制造相关的合格阈值的参考特性图案(EFM)，和(...

提供了一种用于在电子束系统中的不同平面中操纵高级电荷控制器模块(560)的光束的系统和方法。该系统的一些实施例包括透镜系统，该透镜系统被配置为在切平面和矢状平面中操纵光束，使得束斑以高光能投射到晶片上。该系统的一些实施例包括透镜系统，该...

流体处置系统，用于润湿衬底的表面的由辐射束照射的区域。所述流体处置系统包括第一装置(112)，其被配置成将第一液体限制在该第一装置的至少一部分与衬底的表面之间的第一空间(111)中。该第一装置包括形成在其中的孔(10)以供使所述辐射束(...

描述了用于预测与图案化过程相关联的衬底几何形状的系统和方法。接收包括图案的几何形状信息和/或过程信息的输入信息；以及使用机器学习预测模型来预测多维输出衬底的几何形状。所述多维输出信息包括图案概率图像。基于所述图案概率图像，可以预测随机边...

一种微反射镜阵列包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对多个反射镜中的每个反射镜(20)，用于使反射镜进行位移的至少一个压电致动器(21)，其中至少一个压电致动器连接到衬底。该微反射镜阵列还包括一个或多个支柱(24)，一个或多个...

一种用于确定光刻匹配性能的方法，包括从针对用于可用的EUV扫描仪EUV1、EUV3和EUV4的稳定性控制的周期性监控获得第一监控数据E1M、E3M、E4M。对于DUV扫描仪，以类似的方式从用于稳定性控制的周期性监控(DMW、MT、OV、...

使用利用无掩模图案写入器的无掩模光刻曝光系统制造电子器件的方法。该方法包括生成小束控制数据，用于控制无掩模图案写入器来曝光晶片以用于电子器件的创建，其中基于特征数据集生成小束控制数据，该特征数据集定义能够被选择用于对电子器件进行个性化的...

一种放射性同位素生产设备(RI)包括被布置成提供电子束(E)电子源。该电子源包括电子注入器(10)和电子加速器(20)。该放射性同位素生产设备(RI)进一步包括：目标支撑结构，其被配置成保持目标(30)；和分束器(40)，其被布置成沿第...

一种带电粒子束系统可以包括初级源(100)、次级源(200)和控制器。初级源可以被配置为将带电粒子束(241)沿光轴发射到样本(201)的区域上。次级源可以被配置为辐照(242)样本的区域。控制器可以被配置为控制带电粒子束系统改变次级源...

描述了一种用于增加参数化模型预测的确定性的方法。方法包括：将与参数化模型相关联的潜在空间中的维度数据聚类为集群。不同集群对应于给定输入的不同部分。方法包括：利用参数化模型，基于潜在空间中的维度数据来预测输出。方法包括：利用参数化模型，将...

一种用于生成高次谐波辐射的高次谐波生成组件和方法。所述组件包括空腔，被配置为接收输入辐射，并且增加所述空腔内的所述输入辐射的所述强度，以形成适合用于高次谐波生成的驱动辐射。所述组件还包括：所述空腔内的相互作用区域，在使用中，所述相互作用...

本文描述一种用于基于与图案形成设备相关联的像差灵敏度来确定过程窗口限制图案(PWLP)的方法(300)。所述方法包括：P(301)获得(i)与所述图案形成设备的像差波前相关联的第一核集合(301)和第二核集合(302)，和(ii)待经由...

用于确定光刻图案化过程的性能的方法以及设备，该设备或方法被配置为或包括：接收衬底的一部分的图像，该衬底的该部分包括第一区以及第二区，第一区包括与在第一时间对衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征，并且第二区包括与在第二时间对衬底进行的第...

一种装置包括：管；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一...

本文描述了确定与衬底相关联的套刻测量的方法和获得与图案化工艺相关联的套刻测量的系统。一种用于确定套刻测量的方法可用于光刻图案化工艺中。该方法包括通过使用相干束照射第一套刻图案和第二套刻图案来产生衍射信号。该方法还包括基于衍射信号获得干涉...

公开了测量结构的方法，以及相关联的量测装置和计算机程序。所述方法包括：获得与对第一衬底上的第一结构进行的测量相关的散射辐射的振幅分布；和获得与对参考衬底上的至少一个参考结构进行的参考测量相关的参考相位分布。所述至少一个参考结构是与所述第...

微反射镜阵列包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对多个反射镜中的每个反射镜，将衬底连接到反射镜的相应的柱。针对多个反射镜中的每个反射镜，微反射镜阵列还包括被连接到衬底的一个或多个静电致动器，该一个或多个静电致动器用于向柱施加力...