微反射镜阵列制造技术

一种微反射镜阵列包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对多个反射镜中的每个反射镜(20)，用于使反射镜进行位移的至少一个压电致动器(21)，其中至少一个压电致动器连接到衬底。该微反射镜阵列还包括一个或多个支柱(24)，一个或多个支柱(24)将反射镜连接到至少一个压电致动器。还公开了一种形成这种微反射镜阵列的方法。微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查设备中。或检查设备中。或检查设备中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微反射镜阵列
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年8月19日提交的EP申请19192311.9和于2019年9月26日提交的EP申请19199718.8的优先权，这些申请通过应用被整体并入本文中。


[0003]本专利技术涉及微反射镜阵列、包括这种微反射镜阵列的可编程照射器、包括这种可编程照射器的光刻设备、包括这种可编程照射器的检查设备以及用于形成这种微反射镜阵列的方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用在例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备例如可以将图案形成装置处的图案投影到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。本文中使用的术语“图案形成装置”应被广义地解释为是指可以用于向入射辐射束赋予图案化横截面的装置，该图案化横截面对应于将在衬底的目标部分中创建的图案；在本文中也可以使用术语“光阀”。通常，图案将对应于在目标部分中创建的器件(诸如集成电路或其它器件)中的特定功能层。这种图案形成装置的示例包括：
[0005]‑
掩模(本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种微反射镜阵列，包括：衬底；多个反射镜，用于反射入射光；至少一个压电致动器，针对所述多个反射镜中的每个反射镜，所述至少一个压电致动器用于使所述反射镜进行位移并且被连接到所述衬底；以及一个或多个支柱，将所述反射镜连接到所述至少一个压电致动器。2.根据权利要求1所述的微反射镜阵列，针对所述多个反射镜中的每个反射镜，所述微反射镜阵列包括用于对来自所述反射镜的热进行扩散的热扩散器，所述热扩散器包括散热器和将所述散热器连接到所述反射镜的导热柱。3.根据权利要求2所述的微反射镜阵列，其中所述散热器包括柔性膜，当所述反射镜进行位移时，所述柔性膜允许所述导热柱枢转。4.根据权利要求3所述的微反射镜阵列，其中所述柔性膜包括图案化的硅层。5.根据权利要求3或4所述的微反射镜阵列，其中所述柔性膜包括通过所述硅层并且从所述热扩散器的外边缘朝向所述导热柱延伸的凹槽。6.根据权利要求5所述的微反射镜阵列，其中所述凹槽是弯曲的凹槽。7.根据权利要求2至6中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述导热柱是导电的并且接地。8.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述至少一个压电致动器包括：柔性材料带，所述柔性材料带在一端部处被连接到所述衬底，所述一个或多个支柱中的一个支柱位于所述柔性材料带的相对端部处；以及压电材料层，被设置在所述柔性材料带上。9.根据权利要求8所述的微反射镜阵列，其中所述至少一个压电致动器还包括被连接到所述柔性材料带的端部和所述支柱的铰链，并且其中所述铰链在所述带的伸长方向上具有比所述柔性材料带更小的横截面。10.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述一个或多个支柱包括隔热层，以减少或防止从所述反射镜到所述至少一个压电致动器的热传递。11.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述一个或多个支柱被配置为：将所述反射镜与所述至少一个压电致动器电隔离。12.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，针对所述多个反射镜中的每个反射镜，所述微反射镜阵列包括被连接到所述至少一个压电致动器的至少一个感测元件，所述至少一个感测元件用于感测所述反射镜的位移。13.根据权利要求12所述的微反射镜阵列，其中所述感测元件包括压电电阻器，所述压电电阻器被布置为使得所述反射镜的位移使所述压电电阻器偏转。14.根据权利要求13所述的微反射镜阵列，其中所述感测元件还包括温度传感器，用以测量所述压电电阻器的温度。15.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述多个反射镜中的每个反射镜用于反射波长基本上为13.5nm的光。16.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述至少一个压电致动器
包括四个压电致动器，所述四个压电致动器被布置为实现对所述反射镜的倾倒和倾斜位移控制。17.一种可编程照射器，包括根据权利要求1至16中任一项所述的微反射镜阵列，所述微反射镜阵列用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：L，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：