描述了一种用于量测设备的波长选择模块。该波长选择模块包括：一个或多个滤波器元件，可操作为接收包括多个波长的输入辐射束，以提供对相应输出辐射束的波长特性的选择控制。所述一个或多个滤波器元件中的至少一个包括至少两个线性可变滤波器。少两个线性...

一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致...

一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单...

公开一种用于提供光源的系统和方法。在一个布置中，所述光源包括：气室，所述气室具有窗口；光纤，所述光纤是中空的且具有轴向方向，所述光纤的端部被封闭于所述气室内且经由光学路径光学地耦合至所述窗口；以及表面，所述表面围绕所述光纤的所述端部设置...

一种传感器装置包括传感器芯片、照射系统、第一光学系统、第二光学系统和检测器系统。照射系统耦合到传感器芯片并且沿着照射路径透射照射光束。第一光学系统耦合到传感器芯片并且包括第一集成光学配置以配置照射光束并且将其朝向衬底上的衍射目标透射，与...

公开了用于晶片接地和晶片接地位置调节的系统和方法。第一方法可以包括：接收与通过电信号接地的晶片相关联的电特性的第一值；使用至少第一值确定第一控制参数；以及使用第一控制参数和第一值控制电信号的特性。用于调节晶片的接地位置的第二方法可以包括...

提供了一种用于光刻设备的防护膜隔膜，所述隔膜包括未被覆盖的碳纳米管。还提供一种再生防护膜隔膜的方法，所述方法包括分解前体化合物，并且将至少一些分解产物沉积到防护膜隔膜上。还提供一种降低防护膜隔膜的蚀刻速率的方法，所述方法包括在防护膜隔膜...

本发明提供一种确定光刻设备的第一物体与光刻设备的第二物体之间的期望相对位置的方法，该方法包括：a.在初始相对位置处生成表示第一物体相对于第二物体的位置的测量信号；b.基于测量信号确定与初始相对位置相关联的梯度；c.基于梯度确定位置设定点...

本文描述了产生经修改的模拟轮廓和/或基于经修改的轮廓产生量测量规的方法。一种产生用于测量衬底上的结构的物理特性的量测量规的方法包括：获得(i)与印制于所述衬底上的所述结构的所述物理特性相关联的测量数据，和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少...

一种确定光刻装置的控制设置的方法。该方法包括：基于与一个或多个先前衬底相关联的第一计量数据，获得针对当前衬底上的当前层的第一校正；以及获得针对当前衬底上的当前层的第二校正。第二校正是基于根据与当前衬底上的先前层相关联的第二计量数据确定的...

本发明提供一种用于支撑衬底的衬底保持器、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、和一种支撑所述衬底的方法。所述衬底保持器包括主体、多个支撑销、和板。所述板被定位在所述主体的表面与由所述多个支撑销所形成的支撑表面之间。所述板能够在沿所述主体的所...

公开了一种装置和方法，其中预脉冲能量的液滴外测量代替液滴上测量被用于脉冲能量控制。预脉冲能量在液滴外非曝光时段期间测量并且被控制到预脉冲能量设定点。然后预脉冲能量可以在液滴上时段期间被开环控制到预脉冲能量设定点。这有效地将EUV剂量控制...

公开了一种用于量测工具的照射和检测设备以及相关方法。该设备包括照射装置，该照射装置能够被操作以产生测量照射，该测量照射包括多个离散波长带并且在每个波长带内包括具有至多单个峰的光谱。该检测装置包括检测分束器以将散射辐射分成多个通道，每个通...

一种被配置成确定容器中所收集的燃料的量的设备，所述燃料用于在EUV辐射源中产生EUV辐射束。所述设备包括测力装置，所述测力装置被配置成测量与所述容器相关联、用于确定所述容器中所收集的所述燃料的质量的力。容器中所收集的所述燃料的质量的力。...

公开了一种用于量测装置的检测设备，所述量测装置能够操作以根据已从样本散射的被散射的辐射测量感兴趣的参数。所述检测装置包括检测器，所述检测器包括像素阵列。所述像素阵列包括：成像像素，所述成像像素用于检测图像，所述感兴趣的参数是根据所述图像...

本发明提供了一种针对包括多个标记的物体确定标记测量序列的方法，该方法包括：

一种器件制造方法，包括：使用第一光刻设备对衬底执行第一曝光以形成包括第一特征的第一图案化层；处理所述衬底以将所述第一特征转印至衬底中；并且使用第二光刻设备对所述衬底执行第二曝光以形成包括第二特征的第二图案化层，其中：所述第一光刻设备具有...

本公开的实施例涉及馈通设备和信号导体路径装置。一种馈通设备(50；150)，用于在具有组宽度的信号导体组(60；160)中的信号导体周围形成气密密封。该设备包括开槽构件(52；152)和基部(62；162)。基部限定通孔(65)，该通孔...

本文描述一种用于确定用来预测与被图案化的当前衬底相关联的套刻精度数据的模型的方法。该方法涉及：获得(i)与当前衬底的一个或多个先前层和/或当前层相关联的第一数据的集合、(ii)包括与一个或多个先前衬底相关联的套刻精度量测数据的第二数据的...

本公开涉及确定与使用光刻过程形成在衬底上的目标结构有关的信息。在一种布置中，提供具有悬臂和探针元件的悬臂式探针。所述探针元件从所述悬臂朝向所述目标结构延伸。在所述悬臂式探针中产生超声波。所述超声波通过所述探针元件传播到所述目标结构中并且...