本公开涉及极紫外光源中的目标扩展速率控制。一种方法，包括：提供目标材料，目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的成分；朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标；朝向经修改的...

一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由...

一种流体处理结构，被配置为将浸没流体限制在光刻设备中的流体处理结构和支撑台之间的区域。流体处理结构包括：在流体处理结构的侧壁处的浸没流体供应到区域的第一液体开口；在相对侧壁处从区域去除浸没流体的第二液体开口；提取器，包括多个离散的开口；...

披露了一种确定与结构有关的复值场的方法，包括：获得与所述结构的一系列图像相关的图像数据，对于所述结构，至少一个测量参数是所述系列中是变化的；以及获得可操作以将一系列图像映射到对应的复值场的经训练网络。所述方法包括：将所述图像数据输入到所...

一种图像形成设备包括：照射系统，可操作以将辐射束引导到第一平面上；第一支撑结构，可操作以支撑第一平面中的第一标识，以及第二支撑结构，可操作以支撑第二平面中的第二标识；投影系统，被布置在第一平面与第二平面之间，以在第三平面中形成第一标识和...

一种方法包括确定在执行器件制造过程时与误差或残差关联的第一参数的第一分布；确定在执行所述器件制造过程时与误差或残差关联的第二参数的第二分布；和使用对所述第一分布和第二分布进行运算的函数确定与所述器件制造过程关联的感兴趣的参数的分布。所述...

一种用于光刻设备的光学系统的保护装置，该光学系统采用具有预定波长的电磁辐射，该保护装置包括膜，该膜对于所述预定波长的辐射是透明的，并且所述膜在所述光刻设备的使用期间被定位成邻近所述光学系统的部件。被定位成邻近所述光学系统的部件。被定位成...

本文中描述了一种用于确定对掩模的特征的校正的方法。该方法包括：获取(i)用于设计布局的图案组，以及(ii)用于设计布局的、使用在图案化工艺中使用的掩模成像的衬底的缺陷检查数据；基于缺陷检查数据，确定与图案组相关联的缺陷图，其中缺陷图包括...

公开了一种降低带电粒子束设备中库仑相互作用效应的系统和方法。带电粒子束设备可以包括带电粒子源和源转换单元，该源转换单元包括：孔径透镜形成电极板，被配置为处于第一电压；孔径透镜板，被配置为处于与第一电压不同的第二电压以用于生成第一电场，使...

公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透...

公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器(140)上的电光系统。该电光系统包括第一预限制孔径板(155P)和...

一种用于训练图案化过程模型的方法，所述图案化过程模型被配置成预测将形成在图案化过程上的图案。所述方法涉及：获得与期望的图案相关联的图像数据，衬底的测量图案，包括第一参数集合的第一模型，和包括第二参数集合的机器学习模型；和迭代地确定所述第...

公开了一种带电粒子束系统，其包括：带电粒子束发生器，其用于产生带电粒子的射束；带电粒子光学列，其布置在真空腔中，带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上，带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件；提供清洁剂的源；...

公开了用于监测光刻过程的方法和相关联的光刻设备。所述方法包括：获得与由衬底支撑件支撑的衬底相关的高度变化数据，和通过所述高度变化数据拟合回归，所述回归近似于所述衬底的形状；确定所述高度变化数据和所述回归之间的残差数据；和监测所述残差数据...

一种用于支撑衬底的衬底台，包括表面以及粗突节。粗突节中的每个粗突节包括突节顶部表面以及细突节。粗突节被设置在衬底台的表面上，细突节被设置在突节顶部表面上。当衬底台支撑衬底时，细突节与衬底接触。细突节与衬底接触。细突节与衬底接触。

一种流体控制设备(100)，包括：结构(120)，限定阀腔、第一流体端口(135)、第二流体端口(140)和第三流体端口(145)，第三流体端口(145)被配置为流体地联接到主体的气密内部(105)；以及柱塞阀(130)，位于阀腔内并且...

描述了一种可操作以向衬底的多个目标区域提供名义剂量辐射的光刻设备和关联方法。名义剂量辐射经过多次曝光被提供给衬底的多个目标区域中的每个目标区域。将名义剂量辐射提供给每个目标区域涉及使目标区域的第一区域曝光于辐射，而目标区域的第二部分未被...

公开了一种平台装置，包括：短冲程平台；长冲程平台；第一传感器，所述第一传感器被配置成用于测量所述短冲程平台相对于基准的位置，所述基准被布置成不在所述短冲程平台上并且不在所述长冲程平台上；一个或多个滚柱轴承，其被配置成支撑所述长冲程平台；...

本文中描述了一种用于确定与待印制于衬底上的图案相关联的随机边缘放置误差的方法。所述方法包括：经由量测工具采集所述图案的在所述衬底上的限定部位处的多个图像，而不在所述多个图像之间执行衬底对准；生成至少两个数据：(i)使用所述多个图像的第一...

本发明提供了一种用于引导线性运动或旋转运动的引导装置，包括：第一主体(10)；第二主体(20)，所述第二主体相对于第一主体能够移动地布置；以及至少一个弹簧装置，所述至少一个弹簧装置被布置在所述第一主体与所述第二主体之间。所述至少一个弹簧...