本文中披露了一种用于在温度调节系统中使用的无源式流致振动减小系统，即无源式FIV减小系统，所述温度调节系统控制光刻设备内的至少一个部件的温度。这种FIV减小系统包括：导管，所述导管提供用于穿过所述系统的液体的流动路径；与所述导管成流体连...

本发明披露一种对极紫外线(EUV)辐射透射的膜，所述膜可用作光刻设备中的表膜或光谱滤光片。该膜包括：一个或更多个高掺杂区，其中所述膜是以大于10

一种用于光放大腔的测量系统，包括：输入光学元件；成像系统；以及检测器。所述输入光学元件用于接收输入辐射束并且所述输入光学元件：沿第一光路引导所述输入辐射束的第一部分；以及沿第二光路引导所述输入辐射束的第二部分(例如进入光放大腔中)。成像...

公开了一种用于提供光源的系统和方法。在一种布置中，所述光源包括：中空且具有轴向方向的光纤；填充所述光纤的中空部的气体；和设置在沿所述光纤的所述轴向方向的相应位置处的多个温度设定装置，其中所述温度设定装置被配置成控制所述气体的温度，以局部...

本发明提供一种衬底形状测量装置(SSM)，包括：衬底支撑件(WS)，所述衬底支撑件用以支撑具有主表面(MS)的衬底(W)，所述衬底的主表面当由所述衬底支撑件支撑时大致在第一平面中延伸；一个或更多个传感器组件(SAS)，所述一个或更多个传...

描述了一种在半导体制造过程中应用沉积模型的方法。该方法包括：使用沉积模型预测衬底的沉积轮廓；并且使用预测沉积轮廓来增强量测目标设计。使用来自物理晶片的层的经验横截面轮廓信息来校准沉积模型。在一些实施例中，沉积模型是机器学习模型，并且校准...

本发明提供了一种用于校准干涉仪系统的反射镜的方法，反射镜被配置为使用干涉仪系统的被布置在物体的相对侧的两个干涉仪来测量物体的位置，并且被配置为测量物体在相同的X方向上的位置，其中两个测量值集合是针对绕垂直于X方向的轴线的不同旋转取向获得...

本发明提供一种在纵向方向(LD)上延伸的多层超导制品(600)，所述制品包括：

用于确定光刻设备的聚焦误差和/或第一量测数据与第二量测数据之间的差异的设备和方法。所述第一量测数据和/或所述第二量测数据包括与衬底相关的参数的多个值，所述衬底包括多个场，所述多个场包括器件拓扑。设备可以包括处理器，处理器被配置为执行计算...

一种确定过程特征对图案化衬底的过程的性能的贡献的方法。所述方法可包括获得关于第一过程数据和第一性能数据训练的第一模型。当将所述第一模型应用于与一个或更多个衬底相关联的过程数据时，可基于所述第一模型的预测的品质来识别一个或更多个衬底。可关...

一种谐振振幅光栅标记具有周期性结构，所述周期性结构被配置为散射入射(600)到对准标记上的波长为λ的辐射(602)。散射主要是由于将入射辐射耦合到周期性结构中的波导模式而造成的。周期性结构的各部分的有效折射率(n

一种安装式中空芯部光纤布置包括：中空芯部光纤，具有微结构；以及包括多个安装触点的安装布置，安装触点被配置为向中空芯部光纤的外层施加力。中空芯部光纤的一部分位于安装布置的容置区域中。多个安装触点被定位在容置区域周围。安装触点被分布在容置区...

披露了一种量测方法，所述方法包括使用测量照射来测量目标，所述测量照射包括多个照射条件。所述方法包括使用例如各自包括正加权值的所述多个照射条件的第一子集来执行第一测量捕捉，以获得第一参数值，以及使用例如各自包括负加权值的所述多个照射条件的...

描述一种图案化过程建模方法。所述方法包括：利用过程模型的前端确定与图案化过程流程内的操作的过程物理学和/或过程化学相关联的函数；和利用所述过程模型的后端确定所述预测的晶片几何形状。所述后端包括所述晶片上的目标区域的体积表示。通过应用来自...

公开了一种确定与使用成像系统测量的样品相关的复值场的方法。该方法包括获得与在该成像系统的图像平面处成像的该样品的一系列图像相关的图像数据，并且针对该图像数据，在该成像系统的傅立叶平面中施加至少两个不同的调制函数；以及基于所施加的调制函数...

本发明提供了光源和控制光源的方法，以及在测量应用中使用的装置和方法，特别是例如在光刻设备中的量测应用中。该方法和装置提供了用于检测和/或校正光源的变化，特别是随机变化的机制。反馈或前馈方法可用于校正光源和/或量测输出。一种控制发射光谱随...

一种用于确定由传感器辐照在表面上的辐射斑的中心的方法，所述传感器包括辐射源和检测器。所述方法包括以下步骤：利用辐射源将第一发射辐射束发射到所述表面上以在所述表面上形成所述辐射斑，其中布置在所述表面处的目标的至少一部分由所述辐射斑辐照；利...

一种基板搬运系统，包括：基板保持器，所述基板保持器包括具有主体表面的主体和从所述主体表面突出以支撑与所述主体表面间隔开的基板的多个突节；夹持装置，所述夹持装置被配置成将所述基板夹持至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器松开所述基板；和...

本发明提供一种干涉仪系统，所述干涉仪系统用于确定可移动物体的位置，所述干涉仪系统包括：激光源，所述激光源用于提供辐射束；光学系统，所述光学系统被布置成将所述辐射束拆分成沿第一光学路径的第一束和沿第二光学路径的第二束，其中所述光学系统被布...

本发明公开一种宽带光源装置，被配置为用于产生宽带或白光输出。宽带光源装置包括气室和至少部分地包括在气室内的中空芯部光子晶体光纤。气体混合物被包括在气室和中空芯部光子晶体光纤内。气体混合物包括至少一种拉曼活性分子气体，其构成气体混合物的2...