光刻设备的基板搬运系统及其方法技术方案

一种基板搬运系统，包括：基板保持器，所述基板保持器包括具有主体表面的主体和从所述主体表面突出以支撑与所述主体表面间隔开的基板的多个突节；夹持装置，所述夹持装置被配置成将所述基板夹持至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器松开所述基板；和传送装置，所述传送装置被配置成将所述基板装载至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器卸载所述基板，其中所述传送装置被进一步配置成在基板被夹持到所述基板保持器期间和/或基板从所述基板保持器松开期间物理接触所述基板。还描述了用于夹持和松开基板的方法、计算机程序、计算机可读介质和光刻设备。算机可读介质和光刻设备。算机可读介质和光刻设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备的基板搬运系统及其方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年6月28日递交的欧洲申请19183180.9的优先权，所述欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本专利技术涉及光刻设备的基板搬运系统和用于在基板的卸载和装载期间减小基板保持器的磨损或磨蚀的方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是构造成将期望的图案施加至基板上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模)处的图案投影至被设置在基板上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了将图案投影于基板上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在基板上的特征的最小尺寸。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm的范围内的波长(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用来在基板上形成较小特征。
[0006]在光刻设备中，通常使用具有用来支撑基板的多个突节的基板保持器。基板在曝光期间通常被夹持本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板搬运系统，包括：基板保持器，所述基板保持器包括主体和多个突节，所述主体具有主体表面，所述多个突节从所述主体表面突出以支撑与所述主体表面间隔开的基板，夹持装置，所述夹持装置被配置成将所述基板夹持至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器松开所述基板，和传送装置，所述传送装置被配置成将所述基板装载至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器卸载所述基板，其中，所述传送装置被进一步配置成在所述基板被夹持至所述基板保持器期间和/或所述基板从所述基板保持器松开期间物理接触所述基板。2.根据权利要求1所述的基板搬运系统，其中，所述传送装置被进一步配置成在所述松开期间将所述基板定位在振动位置中，其中在所述振动位置中所述基板与所述多个突节分离地定位，或/和其中，所述传送装置包括力反馈传感器装置。3.根据权利要求2所述的基板搬运系统，其中，所述传送装置被配置成在所述力反馈传感器装置检测到由所述松开所引起的力时将所述基板定位在所述振动位置中。4.根据前述权利要求中任一项所述的基板搬运系统，其中，所述传送装置包括传送装置控制器，并且其中，所述传送装置被配置成在所述传送装置控制器检测到由所述松开所引起的力时将所述基板定位在所述振动位置中，或/和其中，所述传送装置包括多个销和马达装置。5.根据权利要求4所述的基板搬运系统，其中，所述马达装置包括被配置成提供至少100Hz的力反馈控制的伺服致动器。6.根据权利要求4或5所述的基板搬运系统，其中，所述多个销涂覆有阻尼材料，优选地，所述阻尼材料是聚醚醚酮。7.根据前述权利要求中任一项所述的基板搬运系统，还包括气体分配器装置，该气体分配器装置被配置成将至少一种气体至少分配至所述主体表面，优选地，所述气体是氢气或氮气。8.根据前述权利要求中任一项所述的基板搬运系统，还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：