用于确定复值场的量测方法和装置制造方法及图纸

公开了一种确定与使用成像系统测量的样品相关的复值场的方法。该方法包括获得与在该成像系统的图像平面处成像的该样品的一系列图像相关的图像数据，并且针对该图像数据，在该成像系统的傅立叶平面中施加至少两个不同的调制函数；以及基于所施加的调制函数从成像数据确定复值场。数据确定复值场。数据确定复值场。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于确定复值场的量测方法和装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年6月17日提交的EP申请19180565.4和于2019年9月05日提交的EP申请19195599.6和于2019年10月08日提交的EP申请19202049.3的优先权，其全部内容通过引用并入本文。


[0003]本专利技术涉及用于确定衬底上的结构的特性的量测装置或检查装置。本专利技术还涉及一种用于确定衬底上的结构的特性的方法。

技术介绍

[0004]光刻装置是被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻装置可用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻装置可以在图案形成器件(例如，掩模)处将图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投射到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了在衬底上投射图案，光刻装置可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。目前使用的典型波长是365nm(i线)，248nm，193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻装置相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种确定与使用成像系统测量的样品相关的复值场的方法，包括：获得与在所述成像系统的图像平面处成像的所述样品的一系列图像相关的图像数据，并且针对所述图像数据在所述成像系统的傅立叶平面中施加至少两个不同的调制函数；以及基于所施加的调制函数从所述成像数据确定所述复值场。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少两个不同的调制函数包括多个调制函数对，每一调制函数对包括仅在扰动区域中不同的调制函数。3.根据权利要求2所述的方法，其中每个调制函数包括对应的重构区域和阻挡区域，对于每一不同的调制函数对，所述重构区域覆盖所述傅立叶平面的不同部分。4.根据权利要求2或3所述的方法，其中有以下各项中的至少一项：－所述调制函数对由二元幅度调制器实现，以及－所述调制函数对由具有选择性闭合孔径的移动掩模实现，所述选择性闭合孔径用于在所述扰动区域处提供所述调制函数的差异，其中可选地，所述移动掩模是旋转掩模，并且所述选择性闭合孔径位于旋转轴处。5.根据权利要求2所述的方法，其中所述调制函数对由相位调制器实现，其中可选地，所述扰动区域位于所述重构区域内。6.根据权利要求2至5中任一项所述的方法，其中所述扰动区域位于所述傅立叶平面中的高强度区域处。7.根据权利要求2至6中任一项所述的方法，包括以下步骤：通过对所述一系列图像进行逆傅立叶变换、并且确定与所述多个调制函数对中的每一调制函数对对应的图像对的结果之间的差，来确定多个部分重构的傅立叶变换；组合所述部分重构的傅立叶变换以获得重构的傅立叶变换；以及从所述重构的傅立叶变换确定所述复值场。8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法，包括通过执行以下各项中的一项或多项来重构所述扰动区域处的场的步骤：从所述傅立叶平面的对应图像推断所述扰动区域处的幅度；执行所述方法以针对两个或更多个扰动区域进行重构并且使用所述重构中的一者以重构另一者的所述扰动区域；使用傅立叶层叠成像迭代地重构所述扰动区域处的所述场。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述调制函数包括幅度光栅和参考针孔；并且所述方法包括：在单个图像中捕获由所述光栅衍射的多个衍射阶；以及从经成像的所述多个衍射阶确定所述复值场，其中可选地，使用傅立叶变换全息术或平行相移全息术之一从所述成像数据确定所述复值场，以及其中可选地，所述参考针孔位...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：