粒子束装置包括导电物体(402)和载物台(404)，载物台被配置为支撑物体(414)。载物台包括台体和导电涂层(420)，导电涂层被提供在台体的表面的至少一部分上。导电物体被设置为与导电涂层邻近并且台体被提供有与导电涂层的边缘部分邻近的...

本公开涉及优化针对产品单元制造的工艺序列。一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的...

一种方法，包括以下步骤：接收包括掩模和由表膜框架保持的可去除的EUV透明表膜的掩模组件，将表膜框架和EUV透明表膜从掩模上去除，使用检查工具检查掩模上的掩模图案以及随后将由表膜框架保持的EUV透明表膜附接至掩模。方法还可以包括以下步骤：...

一种用以调节光刻装置中的束的交叉狭槽照射的照射调节装置包括多个指状物来调节交叉狭槽照射以符合选定的强度分布。每个指状物具有包括至少两个段的远端边缘。两个段形成远端边缘的凹痕。端边缘的凹痕。端边缘的凹痕。

本文描述了用于基于缺陷来优化图案化过程的方面的方法。例如，一种图案化过程的源和掩模优化的方法包括：在衬底上获得具有具备缺陷的阈值概率的部位；限定所述部位周围的缺陷范围以包括所述衬底上的图案的一部分以及与所述图案的所述部分相关联的一个或更...

一种用于浸没式光刻的图像传感器(17)，该图像传感器包括：光栅(310、320和330)；在光栅上的吸收层(350)，该吸收层被配置为吸收辐射；以及在图像传感器的上表面处的疏液涂层(400)，其中保护层(500)被设置在吸收层与疏液层之...

一种装置包括：诊断系统，被配置为在当前目标进入目标空间之前并且与沿着轨迹(TR)行进的当前目标(110c)诊断地交互；第一检测装置(120)，被配置为检测第一光；第二检测装置(130)，被配置为检测第二光；以及控制系统(150)，与第一...

一种减少准分子光源中的散斑的方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第...

披露了一种用于产生用于器件制造过程的采样方案的方法，所述方法包括：获得多个处理后的衬底的测量数据时间序列；转换所述测量数据时间序列以获得频域数据；使用所述频域数据来确定时间采样方案；基于根据所述时间采样方案在衬底上所执行的测量来确定由所...

在其他方面中公开了一种诸如可以用在带电粒子检查系统中的电源。该电源包括直流源，诸如连接到受控电压源的可编程线性电流源，其中用于受控电压源的控制信号从跨直流源测量的电压降被导出。的电压降被导出。的电压降被导出。

提供一种用于确定针对在对衬底进行图案化的过程中所使用的设备的校正的方法，所述方法包括：获得与待处理的衬底的特征标识的处理历史和/或相似性相关联的分组结构；获得与所述分组结构内的多个分组相关联的量测数据，其中所述量测数据在所述多个分组之间...

一种用于辐射源的碎片减少系统的污染物陷阱，污染物陷阱包括被配置为捕获从辐射源的等离子体形成区域发射的燃料碎片的多个叶片；其中多个叶片中的至少一个叶片或每个叶片包括材料，所述材料包括高于30Wm

一种光栅设置在反射镜上用于镜面反射和衍射掠入射辐射束，并且具有带有光栅周期的周期性结构，该光束周期包括在面向入射束800的侧壁806的任一侧处的第一子结构(脊)和第二子结构(沟槽)。脊被配置为沿零级方向β'＝β将来自脊的平坦顶部808的...

提供了一种设备，该设备包括第一储存器系统、第二储存器系统、注入系统和流体控制系统，第一储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间与喷嘴供应系统流动连通的第一储液器，第二储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间的时间中的至少部分...

公开了一种用于保持物体的载物台，该载物台包括：被布置为将物体夹持在载物台上的静电夹具；被布置为中和静电夹具的残余电荷的中和器；被布置为控制中和器的控制单元，其中残余电荷是在没有电压被施加到静电夹具时存在于静电夹具上的静电荷。静电夹具上的...

本文描述了一种用于配置半导体制造工艺的方法，该方法包括:向一个或多个远程位置提供包括多个模型参数的初始预测模型；在一个或多个远程位置用本地数据训练初始预测模型，使得至少一个模型参数被更新；从一个或多个远程位置接收至少一个更新模型参数；基...

公开了一种用于控制光刻设备的方法，该光刻设备被配置为在至少包括子场的衬底上图案化曝光场，该方法包括：获取初始空间分布，初始空间分布与性能参数的空间变化相关联，性能参数的空间变化在衬底上至少跨曝光场的子场的第一层相关联；以及将初始空间分布...

提供了一种光纤、用于接收输入辐射并且加宽频率范围的设备、辐射源、计量布置和光刻设备。所述光纤包括空芯、包层部分和支撑部分。所述包层部分包围所述空芯，并且包括用于引导辐射通过所述空芯的多个反谐振元件。所述支撑部分包围并支撑所述包层部分，并...

公开了在多射束装置中测量射束电流的系统和方法。该多射束装置可以包括带电粒子源，该带电粒子源被配置为生成初级带电粒子束，以及孔径阵列。孔径阵列可以包括多个孔径，该多个孔径被配置为由初级带电粒子束形成多个子束；以及检测器，该检测器包括用以检...

本文公开了一种确定衬底的套刻值的方法，该方法包括：获得温度数据，该温度数据包括在衬底已经装载到衬底台上之后在衬底台上的一个或多个位置处测量的温度的数据；并且根据所获得的温度数据确定衬底的套刻值。还公开了一种使用所述确定的套刻值确定衬底台...