公开了微结构偏转器阵列(622)，微结构偏转器阵列(622)包括多个多极结构(622

公开了一种带电粒子束系统(300)。带电粒子束系统包括平台(201)，该平台被配置为保持样本(203)并且能够在X

公开了一种用于计量的方法、计算机程序和相关设备。该方法包括确定重构方案，重构方案至少描述用于在描述目标的参数化的重构中使用的标称值。该方法包括获取与至少一个衬底上的多个目标的测量相关的第一测量数据，上述测量数据与一个或多个获取设置相关，...

公开了一种装置和方法，其中在施加主电离脉冲之前将来自单个激光源的多个(例如，两个或更多个)脉冲施加到源材料，其中多个脉冲由公共激光源生成。当源材料处于第一位置时，第一脉冲被引导朝向源材料，而当源材料处于第二位置时，第二脉冲被引导朝向源材...

描述了一种用于提供准确的且鲁棒性的测量光刻特征或量测参数的方法和设备。所述方法包括为量测目标的多个量测参数中的每一个量测参数提供一个范围的值或多个值，为多个量测参数中的每一个量测参数提供约束，并且通过处理器计算以在所述一个范围的值或多个...

披露了在器件制造过程的步骤之后测量一图案在一个或多个衬底上的多个实例之间的变化的方法。在一种配置中，接收表示一组图像的数据。每个图像表示该图案的不同实例。该组图像相对于彼此被配准以叠加所述图案的实例。使用配准的该组图像来测量所述图案的变...

一种对用于投影辐射束的投影系统的热引发式像差进行预测的方法，所述方法包括：使用动态线性函数，根据从所述投影系统输出的辐射束的功率来计算所述投影系统的温度的改变；以及使用静态非线性函数，根据所计算的温度的改变来计算所述热引发式像差。变来计...

公开了一种光学部件，所述光学部件被配置为在宽带辐射源装置中用作光学频率转换器。所述光学部件包括气室以及被至少部分地封闭在所述气室内的空芯光子晶体光纤。所述气室的局部腔室容积包括36cm3/所述空芯光子晶体光纤的长度cm的最大值，在局部腔...

用于估计能够用于制造半导体器件的衬底的表面的形状的至少一部分的方法和设备。所述方法包括：获得由检查设备所测量的所述衬底的所述表面的至少一个聚焦位置，所述至少一个聚焦位置用于在所述检查设备的光学器件的聚焦范围内将目标置于所述衬底上或所述衬...

描述了一种衍射图案引导的源掩模优化(SMO)方法。所述方法包括配置光刻设备。所述方法包括根据衍射图案来确定源变量。所述源变量区对应于光瞳的衍射图案的其中光瞳变量待被调整的一个或更多个区域。所述衍射图案中的所述源变量区包括在所述衍射图案中...

一种从数据集提取特征的方法包括：基于数据集内所包括的残差图案的可视化(238)从数据集提取特征(244)，其中特征不同于在先前迭代中提取的特征，并且残差图案的可视化使用在先前迭代中提取的特征。使用在先前迭代中提取的特征可视化(234)数...

披露了一种在设备内对准衬底的方法。所述方法包括基于多个目标的测量来确定衬底栅格，每个目标位于衬底上的不同部位处。所述确定步骤包括重复以下：在对目标的每次测量之后更新所述衬底栅格，以及使用经更新的栅格来对准后续目标的测量。续目标的测量。续...

本发明提供了一种物体定位器装置(1)，包括被配置为将物体定位在定位平面中的平台(10)、底架(BF)、被配置为将底架支撑在支撑表面(RED)上的框架支脚(BFF)，以及平台支撑件(20)。平台支撑件包括平台支撑件主体(22)、在垂直于定...

本文披露了一种被布置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器至少包括芯层和电极层；其中，所述物体保持器具有被布置成由静电夹具夹持至用于所述物体保持器的台上的表面；其中，所述物体保持器包括多个突节布置，每个突节布置包括突节主体、沟槽、突节电...

本文中描述了用于量规选择的方法(900)。可以在校准与图案化过程相关联的过程模型时使用进行量规选择的方法。所述方法(900)涉及，在(P902)处，获得输入量规(902)的集合，所述输入量规的集合具有与所述图案化过程相关联的一个或更多个...

一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的设备和方法。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有在流体中产生扰动的可电致动元件的子系统。液滴源产生流，该流分裂成液滴，当液滴朝向辐照区域前进时，液滴转而聚结成更大的液滴。可电致动元件由具有正弦波分量和方...

该文档中提供了一种确定用于在衬底上制造特征的一个或多个工艺的特性的方法，该方法包括：获取衬底上的至少一个区域的至少部分上的多个特征的图像数据；使用图像数据以获取多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据；确定取决于多...

本发明涉及一种具有长度、宽度和厚度的压电换能器，其中所述压电换能器包括沿长度和宽度方向延伸的多个层的叠层，其中所述多个层的叠层包括多个第一层和多个第二层的多个层的叠层，在沿厚度方向观察时第一层被布置成紧挨着第二层，其中每个第一层包括压电...

在执行光刻过程步骤之前或之后，从衬底(W')上的位置获得测量。这种测量的示例包括在将图案应用到衬底之前进行的对准测量，以及在已经应用图案之后诸如套刻之类的性能参数的测量。从所有可能的测量位置(302)之中选择测量位置集合(606、606...

本发明涉及一种用于工作台系统的载物台。根据本发明，提供了多个空气轴承装置。每个空气轴承装置包括：空气轴承本体，所述空气轴承本体具有自由表面；主通道，所述主通道延伸穿过所述空气轴承本体并且具有在所述自由表面中的入口开口；辅通道系统，所述辅...