本发明提供了一种用于检查物体的检查设备，该设备包括：测量系统，被配置为测量：

公开了一种制造反射器的方法。该方法包括至少抛光多个基本平坦的衬底中的最上面的基本平坦的衬底的最上表面，将每个基本平坦的衬底变形为期望的形状，并且将变形的衬底接合在一起以形成所述反射器。在实施例中，使用模具来一起执行变形和接合。来一起执行...

一种用于极紫外(EUV)光源的目标装置(300)包括目标发生器、传感器模块(130)和目标发生器控制器(325)。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料(114)的容器(115)和与容器流体连通的喷嘴结构(11...

一种辐射测量系统(200)包括被配置为接收辐射束(210)并且改变辐射束的强度分布以输出经调节的辐射束(215)的光学设备(205)、以及可操作以接收经调节的辐射束并且确定经调节的辐射束的光谱含量的光谱仪(220)。辐射测量系统可以形成...

本发明提供一种平台系统，包括相对于基准结构可移动的平台(ST)。平台和基准结构中的一个包括反射表面(REFS)。光学位置传感器(IF1)被布置在平台和基准结构中的另一个处，并且被配置成确定反射表面相对于光学位置传感器的位置。光学形状传感...

一种检测器被提供有感测元件(711)和对应的增益元件(721)。增益元件包括部分：在该部分中，沿着与电子束的入射方向垂直的方向，第一传导性的区域(750)与第二传导性的区域(740)邻近地被提供，并且第三传导性的区域(760)与第二传导...

一种装置，所述装置包括隔室，所述隔室包括被配置成将半导体晶片保持在夹具上的晶片平台，其中所述晶片平台被配置成在操作使用中遵循所述隔室内的路线，所述装置包括：第一部件，具有面向所述路线的第一部分的第一表面；第二部件，具有面向所述路线的第二...

本文描述了一种用于确定衬底上的印刷图案的测量数据的方法。方法涉及：获得(i)衬底的原始图像(402)，包括与参考图案(401)相对应的印刷图案，(ii)原始图像的平均图像(403)，以及(iii)基于平均图像的复合轮廓(404)。进一步...

本发明描述多种训练方法和一种掩模校正方法。所述方法之一用于训练机器学习模型，该机器学习模型被配置成预测用于掩模的优化后邻近效应校正(OPC)图像。所述方法涉及：获得(i)与待印制于衬底上的设计布局相关联的优化前邻近效应校正图像、(ii)...

本发明提供了一种包括投射系统的设备，该投射系统具有光轴并且被配置为投射辐射束。该设备包括被布置为测量由投射系统投射的辐射束的测量单元，该测量单元包括开口、以及感测表面，在使用时辐射束穿过开口，感测表面横向于光轴延伸并且被布置为测量穿过开...

在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及...

公开了一种用于光刻制造工艺中的量测设备。该量测设备包括辐射源，该辐射源包括具有分裂成多个光学路径的输出的驱动激光器，所述多个光学路径中的每个都包括各自的宽带光产生器。该量测设备还包括：照射光学器件，所述照射光学器件用于照射结构；至少一个...

本发明涉及一种平台装置，包括载物台，该载物台被配置为保持衬底，该载物台包括被配置为由电源充电的电极以及被配置为将电极电连接到电源的电连接；以及电场屏蔽，该电场屏蔽被配置为屏蔽电连接的至少一部分。被配置为屏蔽电连接的至少一部分。被配置为屏...

公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据...

一种保护光刻装置的部件的方法，该方法包括以下步骤：提供保护盖，该保护盖被成形为保护所述部件的至少一部分，该保护盖具有接触表面，该接触表面被布置为粘附到所述光刻装置或所述部件的至少一部分的第一表面；以及使保护盖接近部件，以便使得接触表面粘...

用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控...

一种光刻设备，包括：投影系统，包括至少一个光学部件，并且被配置为将图案投影到衬底上。所述光刻设备还包括控制系统，所述控制系统被布置为减少光学部件在光刻过程中的加热和/或冷却的所述效应。所述控制系统至少被配置为：选择多个模式形态中的至少一...

辐射系统包括辐射源(SO)和等离子体产生器(16)。所述辐射源包括：壳体(9)，所述壳体设置有出口孔(8)；和辐射产生器，所述辐射产生器能够操作以在所述壳体中产生输出辐射并且引导所述输出辐射的至少一部分穿过所述出射孔。所述等离子体产生器...

一种衰减相移图案形成装置包括：第一部件，用于反射辐射；以及第二部件，用于以相对于从所述第一部件反射的辐射不同相位反射辐射，所述第二部件覆盖所述第一部件的所述表面的至少一部分，使得包括所述第一部件的至少一个未覆盖部分的图案被形成用于在使用...

一种用于确定参数的指纹的方法、系统和程序。所述方法包括确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献。所述方法包括：获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示出自所述多个装置中的...