脉冲带电粒子束系统技术方案

用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】脉冲带电粒子束系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2018年12月28日提交的美国申请号62/786,268和于2019年12月2日提交的美国申请号62/942,671的优先权，其通过引用整体并入。


[0003]本文中所提供的实施例公开了一种多带电粒子束装置，更具体地公开了一种包括基于射频的带电粒子源的多带电粒子束装置。

技术介绍

[0004]在集成电路(IC)的制造过程中，对非成品电路部件或成品电路部件进行检查，以确保它们按照设计制造，而没有缺陷。可以采用利用光学显微镜或带电粒子(例如，电子)束显微镜(诸如扫描电子显微镜(SEM))的检查系统。随着IC部件的物理尺寸不断缩小，缺陷检测的准确性和良率变得越来越重要。可以使用多个带电粒子束来增加检测生产量；然而，射束电流使用的生产率和效率可能会被折中，从而导致检测工具不足以满足其期望目的。
[0005]因此，相关技术系统在例如射束电流的有效使用和维持多带电粒子束装置的单独射束质量方面面临限制。需要本领域的进一步改进。
专利
技术实现思路

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于观察样品的装置，包括：偏转器，被配置为将多个带电粒子脉冲偏转到样品上的多个探测点；检测器，被配置为检测来自所述样品的多个信号，所述多个信号由所述多个脉冲与所述样品相互作用而产生；以及控制器，被配置为基于以下来将特定检测信号与所述样品上的特定探测点相关：从所述特定探测点生成的所述特定信号被检测到的时间与形成所述特定探测点的特定带电粒子脉冲被偏转的时间相关联的时间之间的相关性。2.根据权利要求1所述的装置，还包括带电粒子源、加速腔和聚束腔。3.根据权利要求2所述的装置，其中所述带电粒子源包括脉冲射频源，所述脉冲射频源的源频率在100MHz至10GHz的范围内。4.根据权利要求1所述的装置，其中所述偏转器包括一个或多个带电粒子偏转器，所述一个或多个带电粒子偏转器中的每个带电粒子偏转器基于操作频率来偏转所述多个带电粒子脉冲。5.根据权利要求3所述的装置，其中所述偏转器与所述带电粒子源同步，使得所述操作频率和所述源频率通过以下等式相关：其中v1为所述操作频率，v2为所述源频率，并且n为正整数。6.根据权利要求1所述的装置，还包括：电子光学系统；以及带电粒子束扫描系统，被配置为扫描所述样品上的经偏转的所述多个带电粒子脉冲中的每个。7.根据权利要求6所述的装置，其中所述电子光学系统包括以下之一：单透镜系统或多透镜系统。8.根据权利要求6所述的装置，其中所述控制器还被配置为与以下至少一项通信：所述偏转器、所述带电粒子束扫描系统以及所述检测器。9.一种用于在多射束装置中观察样品的方法，所述方法包...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：