一种用于在光刻设备中使用的掩蔽模块，包括可移动掩蔽叶片，可移动掩蔽叶片被配置成在光刻设备的操作期间防止图案形成装置的部分被照射。掩蔽模块被配置成使可移动掩蔽叶片绕基本上平行于图案形成装置在光刻设备中被保持在其中的平面的轴线旋转。掩蔽模块...

公开了一种用于将熔融金属从贮存器输送到喷嘴的输送管线。该输送管线包括彼此热接触的多个加热器区域构件。加热器区域构件被布置成跨输送管线上维持金属的温度，使得金属维持在熔融状态。输送管线包括布置在加热器区域构件中的相邻的加热器区域构件之间的...

用于图案化过程的源或掩模优化的系统和方法。方法可以包括：执行光刻模拟以预测图案化结果；从所预测的图案化结果识别随机缺陷；定义成本函数和伪梯度；确定与评估位置处的图案化过程的性能度量相关联的成本函数的随机缺陷和伪梯度的度量；以及基于所述度...

本公开提供了一种用于并行处理两个衬底的光刻工艺，该工艺包括以下步骤：在第一衬底工作台上曝光第一衬底；确定用于执行测量第二衬底的第二衬底序列的可用延迟时间，以及通过将第二衬底序列的至少一部分延迟，考虑可用延迟时间来优化第二衬底序列。第二衬...

当前的衬底（例如，半导体晶片）耦合（例如，键合）工艺控制方法使用经测量的衬底平整度和形状来控制耦合工艺。由于当前的耦合工艺高度依赖于衬底材料性质，因此当前的设备配置和耦合工艺引入了高度的衬底（例如，半导体晶片边缘）形变和显著的衬底至衬底...

一种掩模版调节喷嘴，被配置为向掩模版处理模块的子容积供应调节流体，包括：入口端，被配置为从调节流体源接收调节流体；出口端，被配置为将调节流体分配到掩模版处理模块的子容积中，其中出口端被配置为递送两个分离的流体流，即跨掩模版处理模块中的掩...

一种方法涉及通过从衬底的特性的值中去除光刻设备对所述特性的贡献以及一个或多个光刻前工艺设备对所述特性的贡献，来确定在已经由一个或多个工艺设备根据图案化工艺处理所述衬底之后的所述一个或多个工艺设备对所述衬底的所述特性做出的贡献。

将束与孔径阵列对准以用于样品的多束检查的系统和方法被公开。该方法包括以下步骤：从带电粒子束中形成多个初级带电粒子子束；将位于第一孔径阵列上游的可移动的孔径板定位在第一位置中，其中在该第一位置中，可移动的孔径板的孔径与该第一孔径阵列的对应...

一种输送系统，包括载物台、两个相对的线性马达对、和控制器。所述两个相对的线性马达对沿纵轴加速所述载物台且沿竖轴维持所述载物台与所述两个相对的线性马达对之间的竖直间隙。所述控制器联接至所述两个相对的线性马达对且控制所述载物台的移动和所述竖...

一种光刻设备，包括：支撑结构，其被配置为支撑图案形成装置，使得图案形成装置可定位在照射区域中；照射系统，其能够操作用于接收辐射，并将所接收的辐射的至少一部分引导到照射区域；衬底台，其被配置为支撑衬底；投影系统，其能够操作用于在由衬底台支...

一种致动器系统包括线性马达，所述线性马达具有：第一部件，所述第一部件能够与多相电源电连通并且包括成阵列的线圈，所述线圈各自具有相应的铁磁芯；第二部件，所述第二部件包括成阵列的磁体，所述第一部件和所述第二部件响应于来自所述多相电源的电信号...

提供了一种使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括获取在被施加到晶片的光致抗蚀剂已被显影之后的晶片；对经显影的晶片的片段进行成像；获取在晶片已被蚀刻之后的晶片；对经蚀刻的晶片的片段进行成像；使用...

在光刻设备的真空内掩模版库区域内设置有多个盖存储位置。一种用于处理掩模版的系统，该系统包括：真空室；库，该库被配置为将掩模版盒在真空中保持在掩模版盒位置处，并设置在真空室内，每个掩模版盒包括相应的基板、掩模版和盖。该系统包括真空内机器人...

一种测量衬底的结构的参数的方法，包括：将发射辐射的束引导至所述结构上且由此归因于由所述结构进行的衍射而产生衍射辐射。所述发射辐射具有包括多个峰的光谱。所述方法还包括：使用成像传感器来检测所述衍射辐射；使用关于所述光谱的知识和衍射效率的先...

公开了一种在光刻工艺中确定衬底的定位校正的方法。该方法包括针对各种训练数据集获得训练后的第一模型，该训练后的第一模型已被训练为在执行导致衬底的物理变形的至少一个动作之后使该衬底上的力的力平衡残差最小化，该物理变形受到该衬底与支撑该衬底的...

一种确定曝光策略的方法，所述曝光策略用于衬底的第一层中的具有第一校正能力的至少第一曝光和所述衬底的第二层中的具有第二校正能力的至少第二曝光，所述第二校正能力不同于所述第一校正能力，所述方法包括：确定所述第一层感兴趣参数数据的能够根据所述...

一种制动系统可以包括移动框架、一个或多个平衡质量块、一个或多个致动器以及一个或多个机械缓冲器。移动框架可以按预定的动能移动。一个或多个平衡质量块可吸收由移动框架施加的反作用力。一个或多个致动器可以移动移动框架，并且通过制动来停止移动框架...

提供了用于光刻设备的碳纳米管式表膜隔膜，该表膜隔膜包括牺牲涂层。还提供了用于光刻设备的表膜，该表膜包括这种表膜隔膜和用于支撑该表膜隔膜的支撑框架，以及提供了包括这种表膜隔膜或表膜的光刻设备。还描述了用于制造表膜隔膜的方法和设备，以及这种...

一种光学系统，包括：光学部件，所述光学部件被配置成修改电磁辐射；和电动机，所述电动机被配置成致动所述光学部件。所述电动机包括动子，所述动子包括连接至所述光学部件的多个磁性部件。所述电动机包括未连接至所述动子的定子，所述定子包括多个电部件...

公开了用于确定半导体制造中的缝合套刻和其他量测参数的改进系统和方法。所述系统和方法可以包括获取检查系统的单个视场内的多个套刻标记的测量图像；单独调谐针对每个套刻标记的所述测量图像的所述图像处理算法参数，以确定每个套刻标记的测量值；以及比...