一种曝光设备包括：在第二方向上延伸的第一结构和用于在第一方向上移动第一结构的第一致动器，以及在第一方向上延伸的第二结构和被配置为在第二方向上移动第二结构的第二致动器，第二方向基本垂直于第一方向。第一衬底台和第二衬底台连接到第一结构和第二...

用于优化样品扫描的系统和方法。系统和方法可以包括提供用于扫描第一样品的多个带电粒子束；标识所述多个带电粒子束中的一个或多个失效带电粒子束；标识所述多个带电粒子束中的扫描所述第一样品的一个或多个有效带电粒子束；基于所述标识的一个或多个失效...

一种用于表征和预测晶片临界尺寸测量中的局部充电效应的系统和方法。所述系统和方法可以包括临界尺寸模型，所述临界尺寸模型包括被检查晶片上的每一类特征的充电系数。充电系数可以基于维度建模。所述模型还可以包括初始充电状态和描述作为时间或给定区域...

图案化装置（例如，掩模版）通常通过真空夹具夹持到光刻设备中的卡盘，以在扫描方向上驱动图案化装置。用于扫描的图案化装置的加速通常会导致图案化装置以螺旋形和/或扭曲形状变形。描述了一种新的夹持系统，该夹持系统包括被配置为向图案化装置施加夹持...

一种设备，包括：对环境中的靶材料具有化学反应性的真空密封装置，该真空密封装置固定在第一配件与第二配件之间；以及对靶材料无化学反应性的保护装置，该保护装置被定位在环境与真空密封装置之间。当设备处于第一操作模式时，保护装置限定在环境与真空密...

本文描述了一种用于获得与光刻设备在光刻过程期间执行的规定重叠校正相关的衰减数据的方法和系统。可以基于该衰减数据模拟光刻过程，以预测通过光刻过程的图案的成像。该模拟预测指示归因于重叠校正的成像影响的图案化参数集合。基于所预测的影响，可以在...

描述了一种控制光学系统中的图像定位误差的方法。该光学系统包括布置在光学系统的光学路径中的第一部件、第二部件和第三部件。该方法包括：‑确定第一部件的图像定位误差，并且将第一部件的图像定位误差馈通至第二部件的控制回路，以至少部分地补偿第一部...

本公开提供了一种控制光学元件的位置用于投影图像的方法，该方法包括以下步骤：‑提供光学元件，光学元件具有至少一个致动器，以允许光学元件在至少第一自由度和至少第二自由度中的移动；‑确定光学元件在至少第二自由度中的移动误差；‑使用光学元件在第...

本文中公开了一种光刻装置，该光刻装置包括与衬底和/或衬底支撑件间隔开间隔距离的流体处理结构；被配置为移动衬底支撑件并且由此移动衬底的定位设备；以及控制系统，该控制系统被配置为控制定位设备，使得衬底支撑件沿着包括一个或多个准备运动和一个或...

一种用于确定在EUV光刻设备中使用的物体的一个或多个特性的设备包括：支撑件；辐射系统；检测器系统；以及辐射调整模块。支撑件用于支撑物体（例如表膜、掩模版、或掩模版和表膜组件）。辐射系统可操作为产生和传递辐射束，以便入射到由支撑件支撑时的...

一种被配置为支撑衬底的衬底支撑件，包括上部组件、芯组件和下部组件；其中：第一开口被形成在上部组件的上表面中；与第一开口连通的第一通路被限定在上部组件和芯组件中；与第一通路连通的第一提取通道由芯组件和下部组件限定；并且第一调节通道由芯组件...

一种用于针对极紫外（EUV）光产生的源容器的内衬包括壁，该壁具有内表面，该内表面朝向内表面的中间焦点端远离内表面的收集器端延伸。内表面具有排气开口，该排气开口在从收集器端朝向中间焦点端沿内表面的距离D处开始延伸穿过内表面，并且相应的气流...

本文公开了一种用于衬底支撑件的盖环，所述盖环包括：柔性结构，具有用于容置衬底的开口；所述盖环内的封闭区域；以及流体导管，被配置为向所述封闭区域提供流体和/或从所述封闭区域接收流体；其中所述柔性结构被配置为响应于流入所述封闭区域的流体流或...

本发明提供了一种流体输送系统，该流体输送系统包括：‑第一气体消声器、第二气体消声器，以及‑包括由粘弹性材料制成的导管的管状声阻尼装置，其中第一气体消声器和第二气体消声器通过流体管线被彼此流体连接，其中管状声阻尼装置在流体管线中被设置在第...

一种用于光刻系统的流体处理系统，包括：液体供应件，所述液体供应件被配置成供应浸没液体以填充介于衬底与所述光刻系统的投影系统之间的浸没空间的至少一部分，其中所述投影系统被配置成将经图案化的辐射束投影到所述衬底上；气体供应件，所述气体供应件...

一种衬底存储模块，衬底存储模块用作光刻设备的组成部分，衬底存储模块包括：用于保护多个衬底免受环境空气的影响的可控环境。该衬底存储模块包括多个衬底支撑件，用于接收衬底；以及真空系统，真空系统流体联接到多个衬底支撑件。真空系统被配置为独立地...

一种光子晶体光纤（10），包括芯部区和环绕所述芯部区的包覆区。所述芯部区和所述包覆区包括具有第一折射率的材料（12），所述包覆区另外包括从所述光纤的输入端沿所述光纤的纵向轴线延伸至所述光纤的输出端的多个微结构（14），所述多个微结构（1...

公开了一种用于从晶片台的表面去除材料的工具和一种形成用于从晶片台的表面去除材料的工具的方法。该工具包括卡盘和被设置在卡盘的至少一个表面上的研磨层。研磨层的表面包括共价键合到研磨层表面的原子，使得研磨层抵抗由被去除的材料引起的堵塞。该方法...

公开了一种确定基板上应力源的存在的方法。该方法包括：获取描述基板上的结构在基板平面中的位置信息的基板位置数据；获取描述基板的形状的基板形状数据；根据基板位置数据确定第一翘曲值，第一翘曲值描述基板的翘曲；根据基板形状数据确定第二翘曲值，第...

一种具有静电夹具系统的光刻设备，包括：多个电极，所述多个电极被配置成对部件施加静电夹持力；电源，所述电源连接至所述多个电极；以及控制器，所述控制器被配置成控制被施加至所述多个电极的电位以与所述光刻设备中的辐射脉冲的生成同步地在第一模式与...