用于可移动地支撑反射镜的组件包括：反射镜；以及一个或多个可变形构件。所述或每个可变形构件的第一端限定支撑部分，并且所述或每个可变形构件的第二端被直接或间接地附接到反射镜（例如在反射镜的后表面上）。所述或每个可变形构件包括第一致动器和第二...

本发明提供了一种带电粒子光学设备，用于向以网格布置的样品位置投射带电粒子束。该设备包括：限束孔径阵列和条带阵列。在限束孔径阵列中限定了多个孔径，以便产生射束网格。条带阵列沿射束路径定位。条带阵列跨多个射束的路径延伸，以对沿相应条带阵列的...

一种设备包括照射系统、投射系统和检查系统。照射系统照射图案化装置的图案。投射系统将图案的图像投射到衬底上。检查系统包括辐射源、光学元件和检测器。辐射源生成辐射。光学元件将辐射朝向衬底上的目标引导。检测器包括光敏装置和方芯光纤。光敏装置至...

本文描述了一种用于确定图案形成装置图案的方法。所述方法包括：获得具有至少一个特征的初始图案形成装置图案，对所述初始图案形成装置图案应用斑点检测；以及使用基于所述斑点检测的结果的成本函数，确定所述图案形成装置图案。还公开包括机器可读指令的...

公开了一种照射模式选择器以及相关联的光学量测工具，该照射模式选择器用于光学量测工具的照射分支中。该照射模式选择器包括多个照射孔；和至少一个偏振改变光学元件。照射孔中的每个和至少一个偏振改变光学元件中的每个都可单独地切换到光学量测工具的照...

披露了一种用于提供至少一个辐射束以用作量测装置中的照射束和/或参考束的照射装置。所述照射装置包括至少一个辐射束修改器模块，所述至少一个辐射束修改器模块能够操作以接收源照射且输出经修改的辐射束，所述经修改的辐射束包括第一束分量和第二束分量...

公开了一种改进系统，例如用于带电粒子束系统(诸如扫描电子显微镜(SEM))中的晶片外部检查。该系统使用晶片703周围的多个导电电极(例如，环710、711)来校正晶片外部发生的电场畸变。这些环上施加不同的互补电压VS1、VS2，以便实现...

本文中公开了涉及量测装置和相关联的方法的实施例，该量测装置和相关联的方法用于使用固定传感器(510，530，610)组件并行地对设置在基板(550，650)上的多个目标(例如，对准标记)进行成像，该固定传感器组件与可更换光学路由组件(5...

公开了一种从在执行所述处理步骤之前在图案化衬底上测量的第一量测数据来推断与已在其上曝光图案并已在其上执行处理步骤的图案化衬底有关的第二量测数据的方法。该方法包括获得包括第一模型组件的模型。第一模型组件包括机器学习模型组件，该模型组件已被...

一种目标材料生成器包括：储槽系统和喷嘴供应系统之间的流体流动路径，以及在流体流动路径中的耦合组件。目标材料生成器是极紫外光源的一部分。耦合组件包括第一装配件，该第一装配件耦合到第二装配件，从而沿着流体流动路径形成流动导管，其中密封部形成...

公开了用于确定由电子束用于套刻测量的一个或多个参数的系统、非暂态计算机可读介质和方法。在一些实施例中，该方法包括基于晶片叠层的多个特性和在晶片叠层上的多个特征处检测到的多个背散射电子(BSE)产率来确定晶片叠层的套刻测量的获取时间。该方...

披露了一种确定用于控制光刻设备或量测设备的至少一个第一部件的校正的方法和相关联的设备。所述方法包括：获得经训练的人工智能模型，所述经训练的人工智能模型已经被训练以将与所述光刻设备或量测设备的至少一个第二部件有关的输入数据映射到与所述至少...

一种用于对潜在元素进行排序和/或选择以在潜在空间表示中建模低维数据的方法，低维数据是模型的第一模型组件确定的输入数据的降维表示，该方法包括训练所述模型和基于所述训练来选择所述潜在元素选择之一的步骤，所述训练包括：降低输入数据的维度以在所...

一种衬底翘曲确定系统，包括：至少三个第一支撑装置和至少三个第二支撑装置，形成被配置为承载衬底的第一和第二衬底支撑区域；致动器，被配置为沿垂直方向移动至少三个第二支撑装置；以及控制器，用于驱动致动器。控制器被配置为确定由致动器施加的力，将...

公开了一种用于确定感兴趣参数在至少一个衬底或其部分之上的空间分布的方法，至少一个衬底已经经受半导体制造工艺，该方法包括：获得描述所述空间分布的预期指纹分量的统计描述以及描述与所述感兴趣参数相关联的预期测量噪声水平的噪声分量；获得与所述感...

一种从存储多个数据集的至少一个数据存储器检取数据的方法，其中每个数据集具有表格数据结构，该方法包括：接收查询，该查询包括语义信息并且从数据存储器请求与语义信息相关联的数据；根据语义信息确定是否可以使用从多个数据集中的一个或多个候选数据集...

公开了一种用于处理衬底的末端执行器，包括底座；夹持本体，包括致动器，该致动器被配置为在第一位置和第二位置之间切换，在该第一位置中，衬底相对于夹持本体固定就位，而在该第二位置中，衬底被释放；引导机构，将夹持本体连接到底座，同时允许夹持本体...

披露一种成像方法，包括：获得与用于捕获图像的光学系统相关的一组初级解卷积核或一组脉冲响应；获得所述图像信号，所述图像信号经受包括至少一个或更多个非等晕成像效应的一个或更多个成像效应；对所述一组初级解卷积核或所述一组脉冲响应执行低秩近似以...

本文描述了产生经修改的模拟轮廓和/或基于经修改的轮廓产生量测量规的方法。一种产生用于测量衬底上的结构的物理特性的量测量规的方法包括：获得(i)与印制于所述衬底上的所述结构的所述物理特性相关联的测量数据，和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少...

一种用于辐射系统的激光系统的电光装置，该装置包括：电光元件，该电光元件具有第一表面和第二表面，该电光元件由对激光系统产生的激光束光学透明的材料形成；和抗反射结构，该抗反射结构由电光元件的第一表面和第二表面中的至少一者上的材料形成，该抗反...