ASML荷兰有限公司专利技术

ASML荷兰有限公司共有1540项专利

  • 公开了一种缺陷检查系统。根据某些实施例,该系统包括存储器,该存储器存储被实现为多个模块的指令。多个模块中的每个模块被配置为检测具有不同属性的缺陷。该系统还包括控制器,该控制器被配置为使计算机系统:接收表示晶片的图像的检查数据;将检查数据...
  • 一种方法,其涉及:获得使用图案化工艺在衬底上待形成的图案的轮廓的模拟(710);确定评估点(740)在图案的所模拟的轮廓(710)上的位置,该位置与对应评估点(730)在图案的设计布局(700)上的位置在空间上相关联;以及产生与在评估点...
  • 公开了一种量测设备,其测量在衬底上形成的结构以确定感兴趣的参数。所述设备包括光学系统,所述光学系统配置成将辐射聚焦到所述结构上并将从所述结构反射之后的辐射引导到检测器上,其中:所述光学系统配置成使得所述检测器检测由来自光瞳平面场分布中的...
  • 一种用于从夹具(4)去除颗粒的设备(16),该设备可布置在夹具附近,并且包括:绝缘部分(18);支撑部分(20),绝缘部分的至少一部分或全部被布置在支撑部分上,其中支撑部分被配置使得当电压被施加到设备的支撑部分和/或夹具的电极(8)时,...
  • 一种辐射源,包括:燃料发射器,所述燃料发射器被配置成将燃料液滴提供给等离子体形成区域;和激光器系统,所述激光器系统被配置为提供激光束;其中所述激光器系统包括延迟线路,所述延迟线路被配置为相对于所述激光束的次要部分延迟所述激光束的主要部分...
  • 一种方法,包括:获得设计布局的一部分(505);基于所述部分或所述部分的特性(510)确定(520)辅助特征的特性(530);和使用包括样本的训练数据(540)来训练(550)机器学习模型,所述样本的特征向量包括所述部分的特性(510)...
  • 一种用于与光刻设备一起使用的图案化装置,该装置包括:被配置为吸收入射辐射并且反射部分入射辐射的吸收器部分,吸收器部分包括第一层和第二层,吸收器部分的第一层包括第一材料,该第一材料与吸收器部分的第二层的第二材料不同;被布置在吸收器部分下方...
  • 一种光刻设备,包括:第一腔室,所述第一腔室包括投影系统,所述投影系统被配置为将图案化辐射束投影到衬底上;第二腔室,所述第二腔室包括衬底台,所述衬底台被构造成保持衬底;在所述第一腔室和所述第二腔室之间延伸的通道,所述通道被配置为接收清洗流...
  • 本发明涉及一种设定点发生器,用于移动光刻设备的图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束,其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓,并且其中所述设定点发生器配置成基...
  • 公开了用于测量在衬底上形成的目标的方法和设备。所述目标包括对准结构和量测结构。在一种方法中,执行第一测量过程,所述第一测量过程包括利用第一辐射照射目标并检测由第一辐射从目标的散射引起的辐射。第二测量过程包括利用第二辐射照射所述目标并检测...
  • 一种致动器,包括线圈、第一冷却板和第二冷却板。所述冷却板被配置为冷却所述线圈。第一冷却板和第二冷却板被布置在线圈的相对侧以与线圈热接触。所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分,所述第一线圈部分面向所述第一冷却板,所述第二线圈部分面向所述...
  • 公开了一种量测传感器设备,其包括:照射系统,其能够操作以用照射辐射照射衬底上的量测标记;光学收集系统,其配置成在由所述量测标记散射所述照射辐射之后收集散射辐射;和依赖于波长的空间滤光器,其用于在空间上过滤所述散射辐射,所述依赖于波长的空...
  • 本发明涉及一种用于产生和发射诸如电子束之类的带电粒子束的带电粒子源模块,包括:框架,其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件;用于产生诸如电子束的带电粒子束的带电粒子源装置...
  • 公开了一种EUV系统,其中,建立了源控制回路以维持和优化碎片通量,同时不会过度影响最佳EUV生成条件。可以在容器中安装一个或多个温度传感器,例如热电偶,以测量相应局部气体温度。由所述一个或多个热电偶测量的相应局部温度可用作所述源控制回路...
  • 一种用于预测经受工艺的衬底的电特性的方法和相关联的计算机程序。该方法包括:基于电计量数据和包括至少一个参数的测量的工艺计量数据的分析,确定电特性对工艺特性的灵敏度,电计量数据包括从先前处理的衬底测量的电特性,至少一个参数与从先前处理的衬...
  • 公开了用于测量在衬底上形成的多个结构的方法和设备。在一种布置中,方法包括从第一测量过程获取数据。第一测量过程包括单独地测量多个结构中的每个结构以测量结构的第一特性。第二测量过程被用于测量多个结构中的每个结构的第二特性。第二测量过程包括利...
  • 一种方法,包括:获得用于抗蚀剂显影模型的条件集合,所述抗蚀剂显影模型用于模拟抗蚀剂层的抗蚀剂显影过程;和通过硬件计算机系统使用所述条件集合和所述抗蚀剂显影模型来执行所述抗蚀剂显影过程的计算机模拟以获得所述抗蚀剂层的所述显影的特性,其中所...
  • 一种用于激光产生的等离子体源的种子激光器模块,该种子激光器模块包括:脉冲激光源,被配置为以脉冲重复率发射源辐射脉冲;子系统,被配置为提供电信号;电光调制器,被耦合到子系统,并且被配置为接收源辐射脉冲并且在电信号的控制下发射整形后的辐射脉...
  • 重叠量测目标(600、900、1000)包含通过光刻术形成的多个重叠光栅(932‑935)。从目标获得第一衍射信号(740(1)),并导出目标结构的第一不对称性值(As)。从目标获得第二衍射信号(740(2)),并导出第二不对称性值(A...
  • 公开了一种量测传感器装置及其相关方法。量测传感器装置包括:照射系统,可操作用于利用具有第一偏振状态的照射辐射来照射衬底上的量测标记;以及光学收集系统,被配置为在照射辐射被量测标记散射之后收集散射辐射。量测标记包括主结构,并且相对于第一偏...
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