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ASML荷兰有限公司专利技术
ASML荷兰有限公司共有2671项专利
训练用于确定突节问题的机器学习模型制造技术
描述了用于预测光刻设备的物体保持器的突节的物理状况的实施例。提供突节的图像作为机器学习(ML)模型的输入以产生对突节的物理状况的预测。可以使用各种ML模型来产生预测。第一ML模型使用第一类型的突节数据(例如,突节的高分辨率图像)来产生预...
量测方法和装置制造方法及图纸
披露了一种暗场干涉测量显微镜和相关联的显微镜检查方法。所述显微镜包括目标分支和参考分支,所述目标分支能够操作以将目标辐射传播到样品上并收集从所述样品所产生的散射辐射,所述参考分支能够操作以传播参考辐射。所述目标辐射和所述参考是相互逐点空...
照射源和相关联的方法设备技术
一种用于接收泵浦辐射以在相互作用空间处与气体介质相互作用以产生发射辐射的组件。所述组件包括:物件,所述物件具有中空芯部,其中,所述中空芯部具有穿过所述物件的细长体积,其中,所述相互作用空间位于所述中空芯部内部;和导热结构,所述导热结构连...
衬底保持器及方法技术
一种用于保持衬底的衬底保持器,包括框架和表面夹持装置,所述表面夹持装置被布置于所述框架的底侧,所述表面夹持装置被配置为从所述衬底上方以静电方式吸引所述衬底的上表面。所述衬底保持器可以用于非接触地保持所述衬底并且使所述衬底变形,并且由此控...
用于在带电粒子系统中使用反馈回路调整束电流的系统和方法技术方案
提供了用于使用反馈回路来调整束电流的装置、系统和方法。在一些实施例中,系统104可以包括:第一阳极孔120b,被配置为在样品170的检查期间测量发射束161的电流,其中该第一阳极孔被定位在被配置为支持小于3×10<supgt;‑1...
检查数据滤除系统和方法技术方案
为了监测半导体制造工艺的变化,基于SEM图像确定相同图案特征的轮廓,并且对轮廓进行聚集和统计分析以确定特征的变化。一些轮廓是异常值,并且轮廓的聚集和平均“隐藏”这些异常值。本公开描述了在对某些异常值轮廓进行聚集和统计分析之前对它们进行滤...
使用机器学习模型产生辅助特征的计算机可读介质制造技术
本文中描述一种确定用于掩模图案的辅助特征的方法。所述方法包括:获得(i)包括多个目标特征的目标图案,其中,所述多个目标特征中的每个目标特征包括多个目标边缘;和(ii)经训练的序列至序列机器学习(ML)模型(例如,长短期存储器、门控递归单...
靶供应装置制造方法及图纸
一种系统包括:包括孔口的导管,该孔口被配置为流体地联接到贮存器并且发射熔融的靶材料;致动器,其至少包括第一区和在第一区与孔口之间的第二区,其中第一区和第二区的运动被传递到该导管的内部;以及控制器,其被配置为将第一致动信号施加到第一区并且...
检查设备的照射源、检查设备和检查方法技术
一种照射源设备(500),所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构,所述照射源设备包括:高次谐波产生HHG介质(502);泵浦辐射源(506),能够操作为发射泵浦辐射束(508);和可调整的变换光学器件(510),所述可调整的...
过填充双向标记的强度不平衡校准制造技术
提供了用于校正被设置在衬底上的对准标记的检测位置并且使用经校正的数据对准所述衬底以准确地曝光所述衬底上的图案的系统、设备和方法。示例方法可以包括接收测量信号,所述测量信号包括与从具有不同定向的第一对准目标和第二对准目标衍射的第一衍射光束...
掩模版冷却罩制造技术
提供了用于从掩模版去除热量的系统、设备以及方法。示例性方法可以包括由冷却控制器基于通过照射由掩模版台支撑的掩模版上的曝光区域而形成的经图案化的辐射束的投影的定时数据、曝光区域的吸收数据以及目标传热率生成冷却控制信号。冷却控制信号可以指示...
集成光学对准传感器制造技术
一种芯片上对准传感器包括照射系统,所述照射系统被配置成发射辐射束以照射衬底上的目标。所述芯片上对准传感器还包括第一捕获光栅,所述第一捕获光栅被配置成接收由所述目标衍射的第一衍射阶辐射束并且产生第一引导模态的辐射。所述芯片上对准传感器还包...
检测设备和检测方法技术
公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测,第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法,该方...
用于在EUV源中产生目标材料微滴的装置和方法制造方法及图纸
本发明提供一种对被用来生成EUV辐射的微滴进行加速的装置和方法,该装置包括布置和微滴源,该布置产生被引导到辐照区域的激光射束。该微滴源包括以流形式离开喷嘴的流体,该流分解成随后经历聚结的微滴。使出于对微滴进行加速的目的而提供的气体在流向...
用于优化图案化装置图案的方法制造方法及图纸
一种用于优化图案化装置图案的方法,该方法包括:获得具有多个多边形的初始设计图案;使多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接;将评估特征放置在多边形的边界之外;以及基于评估特征来创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。
电子光学设备制造技术
本文中公开了一种带电粒子装置,被配置为使用带电粒子射束检查样品。带电粒子装置包括检测器组件或多极元件阵列。带电粒子装置包括电子设备、功率源和功率转换器;该功率源被配置为输出辐射;该功率转换器被配置为从功率源接收辐射、将所接收到的辐射转换...
级联缺陷检查制造技术
公开了一种缺陷检查系统。根据某些实施例,该系统包括存储器,该存储器存储被实现为多个模块的指令。多个模块中的每个模块被配置为检测具有不同属性的缺陷。该系统还包括控制器,该控制器被配置为使计算机系统:接收表示晶片的图像的检查数据;将检查数据...
用于使用具有孔径变迹的结构照射进行掩模版粒子检测的检查系统技术方案
一种检查系统,包括投影系统,所述投影系统包括:辐射源,所述辐射源被配置成沿照射路径传输照射束;和孔径光阑,所述孔径光阑被配置成选择所述照射束的一部分。所述检查系统还包括:孔径光阑,所述孔径光阑选择所述照射束的一部分;和光学系统,所述光学...
用于确定热致变形的方法和装置制造方法及图纸
本文披露了一种用于确定光刻设备中的结构的热致变形的方法,所述方法包括:获得光刻设备中的结构的定时数据,其中所述定时数据包括所述结构的当前状态的定时数据、和包括所述结构的至少一个先前状态的定时数据的定时历史数据;和使用一个或更多个模型,以...
带电粒子设备和方法技术
本发明提供了一种用于带电粒子系统的带电粒子光学设备。该设备朝向样品投射带电粒子束阵列。该设备包括用以控制束阵列的参数的控制透镜阵列;以及用以将束阵列投射到样品上的物镜阵列,物镜阵列在控制透镜的束下游。物镜阵列包括:上部电极;以及包括束上...
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