提供了一种用于光刻系统的量测设备，该量测设备包括：多个可独立移动的指状件，其被配置为控制图案形成装置的被照射区域的形状，其中可独立移动的指状件中的一个或多个包括一个或多个反射表面；和一个或多个辐射传感器；其中一个或多个可独立移动的指状件...

一种用于生成极紫外（EUV）辐射的系统包括源容器、源激光器和加热气体传递装置（336），源容器具有内部容积，源激光器被配置为生成光，光沿着光轴在入射光方向上进入内部容积，以向目标提供能量，从而引起内部容积内EUV的生成，加热气体传递装置...

用于检查样品的系统和方法。系统和方法可以包括确定样品上的多个位置，每个位置对应于视场（FOV）中样品上的检查特征；将一个或多个带电粒子束提供给样品，每个带电粒子束被提供给多个位置中的对应位置；针对每个位置，检测由对应位置的充电引起的一个...

本发明提供了一种将样品装载到样品位置的方法。该方法包括将具有初始电压的样品装载到样品处置器上；当样品在样品处置器上时，使样品的电压从初始电压斜升到预定电压；当样品处于预定电压时，将样品从样品处置器转移到样品保持器的样品位置，其中样品保持...

公开了一种改进的粒子束检查装置，并且更特别地公开了一种包括非接触式温度传感器的粒子束检查装置，该非接触式温度传感器用于准确地测量晶圆温度而没有污染风险。带电粒子束装置可以使用温度可调整校准垫来校准非接触式温度传感器，然后使用经校准的非接...

提供了激光产生等离子体源的源容器，该容器包括收集器区域和中间焦点（IF）区域，其中该容器被配置为提供至少两个不同温度区，其中包括IF区域的温度区比包括收集器区域的温度区更热。还提供了包括这样的源容器的光源和EUV利用系统。还描述了用于控...

公开了确定代表性照射轮廓以用于执行对曝光设备的合格评定动作的、计算机实现的方法。方法包括：获得针对多个照射轮廓的像差灵敏度数据，所述像差灵敏度数据利用与所述多个照射轮廓中的每个相应不同的照射轮廓相关联的像差来描述曝光误差指标的灵敏度；根...

一种系统和方法用于诸如扫描电子显微镜等带电粒子束系统中的像差检测。所述方法使用检测器表面上的带电粒子到达事件的所述入射位置的空间信息来确定样品上的所述入射束的特性。通过辐照样品上平坦、开放的表面区，诸如束倾斜、散焦、球面像差、色差、慧差...

一种用于原位清洁光刻设备的夹具的系统，该系统包括：主体，该主体被配置为插入光刻设备中并与夹具接合，其中清洁特征布置在主体的面向夹具的表面上；夹具的移动系统；以及控制系统；其中控制系统被配置为：控制夹具以使用第一夹持力来使主体与夹具接合；...

披露了一种量测方法，包括：获得与对在衬底上的一个或更多个结构的测量相关的量测数据，所述量测数据包括多个数据元素，并且其中，至少一些所述数据元素包括复数值；为所述多个数据元素的每个相应数据元素或其子集选择相应的信号类型，以获得经处理的量测...

公开了用于缺陷检查的系统和方法，缺陷检查包括与样品相关联的缺陷检测和缺陷分类。用于缺陷检查的方法包括使用带电粒子束系统获取晶片的区域的扫描检查图像，并且基于晶片的区域的扫描参考图像来训练深度学习模型。经训练的深度学习模型被配置为检测获取...

公开了辐射调制设备，辐射调制设备可操作为接收经光谱色散的宽带输入辐射，并且将经光谱色散的宽带输入辐射的至少部分选择性地透射、衍射或者反射以获得经光谱配置的辐射，其中辐射调制设备包括多个个体可配置元件，多个个体可配置元件各自包括至少一个可...

一种用于在轨道与衬底处理设备的处理单元之间交换衬底的轨道接口，包括：第一传送单元和第二传送单元，其被配置成将衬底沿对应的第一装载传送路径和第二装载传送路径从轨道经由一个或更多个衬底轨道接收站传送至处理单元和将衬底沿对应的第一卸载传送路径...

一种光刻装置包括投射系统和检查系统，检查系统包括辐射系统、光子集成电路系统和检测器系统。投射系统将图案形成设备的图像投射到衬底上。辐射系统朝向衬底上的目标引导辐射，以从目标生成散射辐射。辐射系统包括用于生成辐射的辐射源和用于将辐射聚焦到...

一种用于提高SXR量测的准确度的方法，包括：获得第一衍射光谱，所述第一衍射光谱包括多个周期性离散峰并且与已经利用第一源光谱照射的目标结构相关；获得第二衍射光谱，所述第二衍射光谱与已经利用第二源光谱照射的目标结构相关，所述第二源光谱与所述...

一种用于管芯的支撑结构，包括：附接连接件阵列，被配置为保持管芯致动器，该管芯致动器中的每个管芯致动器由至少一个附接连接件保持；以及控制器连接阵列，被配置为与管芯致动器进行接口连接以控制管芯致动器的移动，其中控制器连接阵列被散布在附接连接...

公开了一种量测方法，包括：获得与靶的测量相关的量测数据，该靶包括至少第一层中的第一光栅和第二层中的第二光栅，其中第一光栅具有以第一起始节距开始的第一啁啾节距，并且第二光栅具有以第二起始节距开始的第二啁啾节距，第一光栅与第二光栅基本上重叠...

公开了一种改进的带电粒子束检查装置，更具体公开了一种用于检测薄型器件结构的缺陷的粒子束检查装置。束检查装置包括：带电粒子束源，其用于在时间序列上将带电粒子引导到晶片的受检查的位置处；以及控制器，该控制器被配置为在时间序列上的不同时间对晶...

一种衬底高度测量设备，包括：悬臂，该悬臂从主体延伸并具有设置在远端的大致球形的尖部，其中大致球形的尖部和悬臂具有导电涂层；调制系统，被配置为对衬底台应用周期性位置调制；电压源，被配置为向悬臂和大致球形的尖部施加DC电压和周期性电压调制；...

本公开涉及静电夹具装置，静电夹具装置包括：夹具构件，夹具构件包括至少一个电极和第一导电层；安装构件，安装构件包括第二导电层，夹具构件被安装在第二导电层上；以及介电层，介电层被夹在第一导电层与第二导电层之间。