本申请提供了一种用于测量通过光刻过程在衬底上制造的多个结构的属性的混合量测设备、测量通过光刻过程制造的多个结构的属性的方法、器件制造方法和计算机程序产品。该混合量测设备包括：第一照射系统，用于利用第一辐射照射第一结构；第一检测系统，用于...

公开了光刻设备、用于卸载衬底的方法和用于装载衬底的方法。一种支撑台，被配置为支撑衬底，支撑台具有半径r0并且包括：基面；第一密封，围绕支撑台的边缘；第二密封，位于第一密封的径向向内，以形成双密封；多个孔，位于第二密封的径向向内，并且多个...

本文披露了一种调节量测设备的方法，所述方法包括：将量测设备的光瞳平面中的强度分布在空间上划分成多个像素；通过使用计算机调节所述多个像素的强度，减少目标中的结构不对称性对由所述量测设备对所述目标进行的测量的影响。影响。影响。

本发明涉及一种电子系统，所述电子系统用于具有压电元件和第一机械共振频率的加速度计，所述电子系统包括：a)阻尼电路，所述阻尼电路被配置成：

本文中描述一种用于在布局图案化过程中确定训练图案的方法。所述方法包括：从图案集合中的图案产生多个特征；基于多个所产生的特征的相似性，将所述图案集合中的所述图案分组成单独的组；以及从所述单独的组选择代表性图案以确定所述训练图案。在一些实施...

描述了一种用于对经历包括多个操作的半导体制造过程的衬底进行分类的方法，该方法包括：获得从在对衬底的多个操作中的一个或多个操作期间生成的数据中得出的功能指示器的值，功能指示器表征至少一个操作；将包括一个或多个阈值的决定模型应用于功能指示器...

根据本公开的一个方面，提供了一种用于预测与产品单元相关联的性质的方法。所述方法可以包括：获得多个数据集，其中所述多个数据集中的每一个数据集包括与参数的跨越所述产品单元的空间分布相关联的数据；将所述多个数据集中的每一个数据集表示为多维对象...

披露了一种确定用于光刻工艺的控制参数的方法，该方法包括：限定用于表示在衬底上各处的工艺参数特征标识的衬底模型，该衬底模型被限定为基函数的组合，该基函数包括适合于表示多个衬底之间和/或多批衬底之间的工艺参数特征标识变化的至少一个基函数；接...

本发明提供一种选择衬底上用于测量或特征的部位的最优集合的方法，该方法包括：(302)：限定约束条件，并且可选地限定成本函数。(306)：限定部位的第一候选方案。(308)：基于对所述第一候选方案的方案域中的坐标的修改，限定具有部位的第二...

公开了一种波前传感器，其用于测量波前在跨辐射束的位置阵列处的倾斜，其中所述波前传感器包括例如由锆制成的膜，该膜具有凹痕阵列，该凹痕阵列包括在所述位置阵列中的每个位置处的凹痕，使得凹痕阵列的每个凹痕可操作用于执行所述辐射的聚焦。还公开了一...

一种衬底保持器，包括：主体，所述主体具有主体表面；多个突节，所述多个突节从所述主体表面突出且被配置用于支撑所述衬底；以及边缘密封件，所述边缘密封件从所述主体表面突出；其中：所述边缘密封件与所述多个突节间隔开，以便限定介于它们之间的间隙，...

光刻设备接收辐射以经由投影光学器件将图案成像到衬底上的多个目标区域上。每个目标区域在成像期间通过辐射的吸收来接收热负载。该设备具有用于在成像期间将衬底保持在空间均匀的恒定的第一温度的热调节系统。热调节系统具有操作以从衬底提取热的散热器；...

公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为...

本发明涉及用于沿支撑方向相对于基部支撑质量体的弹性引导装置，其中沿支撑方向的刚度相比于沿其它方向的刚度明显增加，例如沿竖直方向的刚度相比于沿水平方向的刚度明显增加。本发明还涉及包括至少一个弹性引导装置的定位装置，和包括这样的定位装置的光...

一种用于确定抗蚀剂在图案化过程中的变形的方法。所述方法涉及：获得具有图案的抗蚀剂的抗蚀剂变形模型，所述抗蚀剂变形模型被配置成模拟由于作用于所述图案的至少一个特征的轮廓上的毛细力引起的所述抗蚀剂的流体流；以及经由所述抗蚀剂变形模型，基于对...

一种生产用于光刻设备的衬底保持器的方法，该衬底保持器包括具有主体表面的主体，其中该方法包括以下步骤：使主题的至少一部分涂覆第一涂覆材料的层；以及用激光照射处理第一涂覆材料的多个离散区域，以选择性地将上述区域中的上述第一涂覆材料转换为具有...

本发明提供了一种用于估计生产衬底中由于衬底支撑件引起的应力的测试衬底(W)，所述测试衬底具有被分为预定义部分的支撑表面(SS)，其中所述预定义部分包括：至少一个第一部分(1)，具有在所述至少一个第一部分上基本均匀的第一摩擦系数；以及至少...

一种用于控制将EUV目标材料引入EUV腔室的装置，其中流限制器的孔口被放置在目标材料通过微滴生成器的流动路径中，例如，在微滴生成器内过滤器的上游位置处。此外，液态锡传感器(例如，传导探针或电负载检测器)可以位于微滴生成器的加热器块的体积...

公开了在多束装置中观察样本的系统和方法。多束装置可以包括：电子源，被配置为生成初级电子束；预限流孔阵列，包括多个孔并且被配置为从初级电子束形成多个束波，多个束波中的每个小束具有相关联的束电流；聚束器透镜，被配置为准直多个束波中的每个束波...

公开了台架设备，包括：物体支撑件，被配置为支撑物体；定位装置，被配置为定位物体支撑件；第一连接布置，被配置为将物体支撑件连接到定位装置，第一连接布置包括至少一个阻尼连接件；以及第二连接布置，被配置为将物体支撑件连接到定位装置，第二连接布...