目标递送系统技术方案

公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为：确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。而且，公开了操作供应系统的技术。例如，确定供应系统的一个或多个特性，并且基于一个或多个确定的特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】目标递送系统相关申请的交叉引用本申请要求于2019年1月17日提交的题为“目标递送系统”的美国申请号62/793,813和于2019年10月10日提交的题为“目标递送系统”的美国申请号62/913,552的优先权，两者均通过引用而整体并入本文。
本公开涉及一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。
技术介绍
极紫外线(“EUV”)光——例如，波长为100纳米(nm)或更小(有时也称为软X射线)并且包括波长为例如20nm或更小、介于5nm至20nm之间或介于13nm与14nm之间的光的电磁辐射——可以用于光刻工艺以通过在抗蚀剂层中引发聚合而在例如硅晶片的衬底中产生极小特征。产生EUV光的方法包括但不限于对包括例如氙、锂或锡等元素的材料进行转换，所述材料在等离子体态下具有EUV范围内的发射线。在一个这种方法中，通常称为激光产生等离子体(“LPP”)，所需等离子体可以通过使用可以被称为驱动激光的经放大光束，对形式为微滴、板、带、流或材料簇的目标材料进行照射来产生。对于该过程，通常在密封容器(例如，真空腔室)中产生等离子体，并且使用各种类型的计量设备对该等离子体进行监测。
技术实现思路
在一个方面中，一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。控制系统还可以被配置为比较所确定的所施加的压力的指示与阈值，并且控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动可以包括：控制系统被配置为基于比较来控制致动器的运动。致动器的运动可能产生导管壁中的位移和导管内部的声波，阈值可能与声波的幅度有关。控制系统被配置为基于比较来控制致动器可以包括：控制系统被配置为如果所确定的所施加的压力的指示大于阈值，则仅使得致动器产生导管壁中的位移。阈值可以是零与工作压力之间的阈值压力，并且工作压力可以是在EUV光源操作期间施加到贮存器中的目标材料的压力量。声波可以包括最大幅度，并且阈值可以由最大幅度限定。阈值可以是每平方英寸(PSI)200磅至1000磅范围内的阈值压力。控制系统还可以包括一个或多个电子处理器、以及耦合到该一个或多个电子处理器的非暂态计算机可读存储介质。在一些实现方式中，控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动包括：控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力的指示向致动器提供调制信号，调制信号足以使得致动器在导管壁中产生位移。致动器可以包括压电调制器，并且调制信号可以包括电信号，该电信号足以使得压电调制器的形状发生改变。控制系统还可以包括电开关，该电开关被配置为耦合到致动器，并且其中电开关被配置为接收所施加的压力的指示，该电开关被配置为在特定时间具有多个可能状态中的一个特定可能状态，电开关在少于所有多个状态中的状态中允许调制信号到达致动器，电开关在特定时间的特定状态通过所接收的所施加的压力的指示确定，并且控制系统被配置为确定所施加的压力的指示包括确定电开关处于特定状态。所施加的压力的指示可以从耦合到贮存器的单独压力开关接收。所接收的所施加的压力的指示可以包括直接从压力传感器接收的模拟信号。所接收的所施加的压力的指示可以包括由通过电子处理器执行的指令生成的电子信号。在一些实现方式中，导管的内部表面被配置为暴露于目标材料，并且内部表面基本没有缺陷，从而减少目标材料中的空化。内部表面的至少一部分可以经过火焰抛光。控制系统被配置为确定施加到目标材料的压力的指示可以包括：控制系统被配置成分析来自压力传感器的指示，该压力传感器被配置为测量所施加的压力。在另一方面中，一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统包括：导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动传递到导管；信号生成器，该信号生成器被配置为向致动器提供调制信号，该调制信号足以使得致动器移动；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器和信号生成器，该控制系统被配置为：控制调制信号的一个或多个特性，从而控制致动器的运动的一个或多个特性，使得使用时，孔基本没有材料损坏。实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。一个或多个特性可以包括调制信号的频率内容，并且控制系统可以被配置为控制调制信号的频率内容。控制系统可以被配置为减小调制信号中的频率低于频率阈值的分量的幅度。机械耦合的致动器和导管可以形成致动器-导管组件，并且控制系统可以被配置为减小调制信号中的处于与以下各项相关联的频率的分量的幅度：致动器-导管组件的本征模式或其谐波和次谐波。一个或多个特性可以包括调制信号的幅度，并且控制系统被配置为控制调制信号的幅度。控制系统可以被配置为维持调制信号的幅度低于幅度限制。幅度限制可以是峰到峰幅度限制。孔可以保持基本无裂纹。孔可以由导管的端部限定。导管可以耦合到限定孔的结构。在另一方面中，一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统包括贮存器，该贮存器被配置为容纳混合物，该混合物包括目标材料和内含物颗粒；导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到贮存器，使得致动器的运动被传递到贮存器；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为控制致动器的运动，从而使得混合物中的内含物颗粒朝向混合物的表面移动。实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。致动器可以是超声波致动器。目标输送系统还可以包括气体递送系统，该气体递送系统被配置为跨混合物表面递送流动气体。流动气体可以包括至少一种组分，该至少一种组分被配置为与内含物颗粒反应，从而从表面去除内含物颗粒中的至少一些内含物颗粒。目标材料可以包括熔融锡，内含物颗粒可以包括氧化锡颗粒，并且流动气体可以包括氢气。可以控制致动器的运动，使得在混合物中引起空化，并且内含物颗粒通过空化在颗粒周围形成的气泡而被移向表面。目标递送系统还可以包括一个或多个过滤器，该一个或多个过滤器位于贮存器与孔之间，过滤器被配置为基本防止内含物颗粒到达孔。内含物颗粒的直径可以为1微米(μm)或更小。内含物颗粒可以包括氧化锡颗粒。在另一方面中，一种操作EUV光源的目标供应系统的方法包括：确定供应系统的一个或多个特性；并且基于所确定的一个或多个特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。上文所描述的技术中的任一技术的实现方式可以包括EUV光源、目标供应系统、方法、过程、设备或装置。在附图和下文的描述中对一个或多个实现方式的细节进行阐述。根据描述和附图以及权利要求，其他特征将是显而易见的。附图说明图1是包括供应系统的EUV光源的示例的框图。...

【技术保护点】
1.一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统，所述系统包括：/n导管，包括孔，所述孔被配置为流体耦合到贮存器；/n致动器，被配置为机械耦合到所述导管，使得所述致动器的运动被传递到所述导管；以及/n控制系统，耦合到所述致动器，所述控制系统被配置为：/n确定施加到所述贮存器中的目标材料的压力的指示，以及/n基于所确定的所施加的压力的指示来控制所述致动器的所述运动。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190117 US 62/793,813;20191010 US 62/913,5521.一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统，所述系统包括：
导管，包括孔，所述孔被配置为流体耦合到贮存器；
致动器，被配置为机械耦合到所述导管，使得所述致动器的运动被传递到所述导管；以及
控制系统，耦合到所述致动器，所述控制系统被配置为：
确定施加到所述贮存器中的目标材料的压力的指示，以及
基于所确定的所施加的压力的指示来控制所述致动器的所述运动。


2.根据权利要求1所述的目标递送系统，其中所述控制系统还被配置为比较所确定的所施加的压力的指示与阈值，并且所述控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力的指示来控制所述致动器的所述运动包括：所述控制系统被配置为基于所述比较来控制所述致动器的所述运动。


3.根据权利要求2所述的目标递送系统，其中所述致动器的所述运动产生所述导管的壁中的位移和所述导管内部的声波，并且所述阈值与所述声波的幅度有关。


4.根据权利要求3所述的目标递送系统，其中所述控制系统被配置为基于所述比较来控制所述致动器包括：所述控制系统被配置为如果所确定的所施加的压力的指示大于所述阈值，则仅使得所述致动器在所述导管壁中产生位移。


5.根据权利要求4所述的目标递送系统，其中所述阈值包括介于零与工作压力之间的阈值压力，所述工作压力是在所述EUV光源的操作期间施加到所述贮存器中的所述目标材料的压力量。


6.根据权利要求5所述的目标递送系统，其中所述声波包括最大幅度，并且所述阈值压力由所述最大幅度限定。


7.根据权利要求5所述的目标递送系统，其中所述阈值压力选自每平方英寸(PSI)200磅至1000磅的范围。


8.根据权利要求5所述的目标递送系统，其中所述控制系统还包括：
一个或多个电子处理器；以及
非暂态计算机可读存储介质，耦合到所述一个或多个电子处理器。


9.根据权利要求1所述的目标递送系统，其中所述控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力的指示来控制所述致动器的所述运动包括：所述控制系统被配置为基于所确定的所施加的压力向所述致动器提供调制信号，所述调制信号足以使得所述致动器在所述导管的壁中产生位移。


10.根据权利要求9所述的目标递送系统，其中所述致动器包括压电调制器，并且所述调制信号包括电信号，所述电信号足以使得所述压电调制器的形状发生改变。


11.根据权利要求1所述的目标递送系统，其中所述控制系统还包括电开关，所述电开关被配置为耦合到所述致动器，并且其中
所述电开关被配置为接收所施加的压力的所述指示，
所述电开关被配置为在特定时间具有多个可能状态中的一个特定可能状态，
所述电开关在少于所有所述多个状态的状态中允许调制信号到达所述致动器，
所述电开关在所述特定时间的所述特定状态通过所接收的所施加的压力的指示确定，以及
所述控制系统被配置为确定施加到所述贮存器中的所述目标材料的压力的指示包括：所述控制系统被配置为确定所述电开关处于所述特定状态。


12.根据权利要求11所述的目标递送系统，其中所施加的压力的所述指示从耦合到所述贮存器的单独压力开关接收。


13.根据权利要求11所述的目标递送系统，其中所接收的所施加的压力的指示包括直接从压力传感器接收的模拟信号。


14.根据权利要求11所述的目标递送系统，其中所接收的所施加的压力的指示包括由通过电子处理器执行的指令生成的电子信号。


15.根据权利要求1所述的目标递送系统，其中所述导管的内部表面被配置为暴露于所述目标材料，并且所述内部表面基本没有缺陷，从而减少所述目标材料中的空化。


16.根据权利要求15所述的目标递送系统，其中所述内部表面的至少一部分经过火焰抛光。


17.根据权利要求1所述的目标递送系统，其中所述控制系统被配置为确定施加到所述目标材料的压力的指示包括：所述控制系统被配置为分析来自压力传感器的指示，所述压力传感器被配置为测量...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·O·瓦申科，B·罗林格，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL