衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法制造方法及图纸

衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间隙供应传导性液体，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过。衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。够被操纵。够被操纵。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年11月14日提交的EP申请19209256.7的优先权，该EP申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本专利技术涉及衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。
[0005]衬底位于衬底台上，该衬底台用于将所需图案施加到衬底上。衬底台会随时间退化，特别是在浸没光刻中。
[0006]希望减少衬底台的退化。

技术实现思路

[0007]根据本专利技术的一个方面，提供了一种衬底支撑装置，该衬底支撑装置被配置为支撑衬底，该衬底支撑装置包括：多个突节，该突节从衬底支撑装置的基表面突出，该突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙；以及液体供应通道，用于将传导性液体供应至间隙，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过；其中衬底支撑装置具有受控电势，使得衬底的下表面处的电荷分布能够被操控。
[0008]根据本专利技术的一个方面，提供了一种衬底支撑装置，该衬底支撑装置被配置为支撑衬底，该衬底支撑装置包括：多个突节，该突节从衬底支撑装置的基表面突出，该突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙；以及蒸气供应通道，该蒸气供应通道用于将传导性液体的蒸气供应至衬底的下表面的与突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在衬底的下表面的该区域与突节之间通过；其中远端部具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。
[0009]根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，该方法包括：在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间存在间隙的情况下，将衬底的下表面支撑在从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节上，该突节具有处于平面中的远端部；以及将传导性液体供应至间隙，以便将在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过；其中衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布被操纵。
[0010]根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，该方法包括：在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间存在间隙的情况下，将衬底的下表面支撑在从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节上，该突节具有处于平面中的远端部；以及将传导性液体的蒸汽供应至衬底的下表面的与突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在衬底的下表面的该区域与突节之间通过；其中远端部具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布被操纵。
[0011]根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于制备衬底的方法，该衬底通过图案化辐射束来曝光，该方法包括：使衬底进入光刻设备；将衬底支撑在衬底支撑装置上；干燥衬底的下表面；以及将经干燥的衬底移动到衬底台，在该衬底台处衬底的与下表面相对的上表面将经受图案化辐射束的曝光。
附图说明
[0012]现在将仅通过示例的方式，参考所附示意图来描述本专利技术的实施例，其中对应的附图标记指示对应的部分，并且其中：
[0013]图1描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备；
[0014]图2描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备的部分；
[0015]图3描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备的部分；
[0016]图4描绘了根据本专利技术的实施例的衬底支撑装置上的衬底。
[0017]图5和图6描绘了衬底在衬底支撑装置上的布置；
[0018]图7和图8描绘了衬底在衬底支撑装置上的另一布置；
[0019]图9和图10描绘了从图5和图6所示的布置中去除的传导性液体；
[0020]图11和图12描绘了从图7和图8所示的布置中去除的传导性液体；
[0021]图13描绘了根据本专利技术的实施例的衬底支撑装置上的衬底；
[0022]图14和图15描绘了根据本专利技术的实施例的对衬底支撑装置上的衬底的下表面的干燥；
[0023]图16描绘了根据本专利技术的实施例的衬底支撑装置上的衬底；
[0024]图17描绘了根据本专利技术的备选实施例的衬底支撑装置上的衬底；
[0025]图18描绘了根据本专利技术的备选实施例的衬底支撑装置上的衬底；
[0026]图19描绘了根据本专利技术的实施例的衬底支撑装置的备选视图；以及
[0027]图20描绘了根据本专利技术的实施例的衬底支撑装置的备选视图。
具体实施方式
[0028]图1示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备100。光刻设备100包括：照射系统(照射器)IL，被配置为调节辐射束B(例如UV辐射或任何其它合适的辐射)；掩模支撑结构(例如掩模台)MT，被构造为支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且被连接到第一定位装置PM，第一定位装置PM被配置为根据某些参数精确地定位图案形成装置MA。光刻设备100还包括衬底台(例如晶片台)WT，衬底台WT被构造为保持衬底(例如被涂覆有抗蚀剂的晶片)W并且被连接到第二定位装置PW，第二定位装置PW被配置为根据某些参数精确地定位衬底W。光刻设备100还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，该投影系统PS被配置为将由图
案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个管芯)上。
[0029]照射系统IL可以包括各种类型的光学组件，例如折射式、反射式、磁性、电磁式、静电式或其它类型的光学组件、或它们的任意组合，以用于引导、成形或控制辐射。
[0030]掩模支撑结构MT支撑图案形成装置MA，即承受图案形成装置MA的重量。掩模支撑结构MT以取决于图案形成装置MA的取向、光刻设备100的设计和其它条件(例如图案形成装置MA是否被保持在真空环境中)的方式保持图案形成装置MA。掩模支撑结构MT可以使用机械、真空、静电或其它夹持技术来保持图案形成装置。掩模支撑结构MT可以是例如框架或工作台，例如可以根据需要固定或可移动。掩模支撑结构MT可以确保图案形成装置MA处于期望的位置(例如相对于投影系统PS)。本文中的对术语“掩模板”或“掩模”的任何使用可以被认为与更通用的术语“图案形成装置”同义。
[0031]本文中所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地解释为指的是可以被用于在辐射束B的横截面中赋予图案以便在衬底W的目标部分C中创建图案的任何装置。应当注意，例如如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征，则赋予辐射束B的图案可能不精确地对应于衬底W的目标部分C中的期望图案。辅助特征可以被设置在图案形成装置MA上，以使隔离的和/或半隔离的设计特征能够被图案化，好像它们比实际更密本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.衬底支撑装置，被配置为支撑衬底，所述衬底支撑装置包括：多个突节，所述突节从所述衬底支撑装置的基表面突出，所述突节具有处于用于支撑所述衬底的下表面的平面中的远端部，所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间具有间隙；以及液体供应通道，用于将传导性液体供应至所述间隙，以便将所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间的所述间隙进行桥接，由此允许电荷在所述衬底支撑装置与所述衬底之间通过；其中所述衬底支撑装置具有受控电势，使得所述衬底的所述下表面处的电荷分布能够被操纵。2.一种衬底支撑装置，被配置为支撑衬底，所述衬底支撑装置包括：多个突节，所述突节从所述衬底支撑装置的基表面突出，所述突节具有处于用于支撑所述衬底的下表面的平面中的远端部，所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间具有间隙；以及蒸气供应通道，所述蒸气供应通道用于将传导性液体的蒸气供应至所述衬底的所述下表面的与所述突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在所述衬底的所述下表面的所述区域与所述突节之间通过；其中所述远端部具有受控电势，使得在所述衬底的所述下表面处的电荷分布能够被操纵。3.根据权利要求1或2所述的衬底支撑装置，还包括气体供应通道，所述气体供应通道用于将气体供应至所述间隙，以便从所述间隙中移走所述传导性液体，和/或其中所述传导性液体或所述传导性液体的蒸汽被供应，使得所述传导性液体的湿气层被形成在所述衬底的所述下表面处。4.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中所述衬底支撑装置的至少部分被电接地或电偏置。5.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，包括：一个或多个抽取通道，用于从所述间隙抽取气体和液体中的至少一者，可选地，其中所述基表面被成形为使得所述间隙朝向所述一个或多个抽取通道变窄。6.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中：所述传导性液体包括从由CO2饱和水和异丙醇组成的组中选择的至少一种；和/或所述衬底支撑装置被配置为：使用机械夹持技术来保持所述衬底。7.一种光刻设备，包括根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中所述衬底支撑装置是静止的。8.一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，所述方法包括：在衬底支撑装置的基表面与所述衬底的所述下表面之间存在间隙的情况下，将所述衬底的所述下表面支撑在从所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：K，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：