光刻设备和静电夹具设计制造技术

技术编号:33702417 阅读:45 留言:0更新日期:2022-06-06 08:16
本文的实施例描述了用于使用增强式静电夹具减小夹具

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备和静电夹具设计
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年10月29日提交的美国临时专利申请号62/927,214的优先权,其通过引用全部并入本文。


[0003]本公开涉及用于光刻设备中的静电夹具设计和电场减小的系统和方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是将期望图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(IC)的制造中。在该实例中,图案形成装置(备选地被称为掩模或掩模版)可以被用于生成要被形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转印通常经由成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常,单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器(其中每个目标部分通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射)以及所谓的扫描仪(其中每个目标部分通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来照射,同时同步扫描平行或反平行于该扫描方向的目标部分。也可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种静电夹具,包括:夹具本体;电极层,被设置在所述夹具本体的顶表面上;以及多个突节,从所述夹具本体的底表面突出,其中所述电极层包括预定位置处的多个切口,所述预定位置竖直地对应于所述夹具本体的所述底表面处的所述多个突节的位置。2.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述多个突节包括所述静电夹具与掩模版之间的接触点。3.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述多个切口包括所述电极层中的间隙,所述间隙减小在所述多个突节周围生成的电场。4.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述多个突节被配置为接触掩模版的背面。5.根据权利要求4所述的静电夹具,其中所述掩模版包括导电涂层。6.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述多个突节中的每个突节包括导电涂层。7.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述多个切口中的每个切口具有大约300至1400微米的直径。8.一种增强静电夹具的方法,所述方法包括:制造所述静电夹具,所述静电夹具包括夹具本体、设置在所述夹具本体的顶表面上的电极层以及从所述夹具本体的底表面突出的多个突节,所述多个突节被配置为接触掩模版的背面;以及向所述静电夹具施加修改,以减小所述多个突节与所述掩模版之间的电场。9.根据权利要求8所述的方法,其中所述施加包括:减小所述多个突节的掩模版接触表面上的导电涂层的厚度,从而允许所述多个突节与所述掩模版之间的电压差减小。10.根据权利要求8所述的方法,其中所述施加包括:在与每个突节的位置相对应的位置处移除所述电极层的预定部分,从而允许在所述电极层中具有多个切口。11.根据权利要求8所述的方法,其中所述施加包括:将所述多个突节中的每个突节连接在一起,以在所...

【专利技术属性】
技术研发人员:V
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1