【技术实现步骤摘要】
一种用于带电粒子束成像的装载锁定系统
[0001]本申请是国际申请日为2018年2月20日、于2019年8月22日进入中国国家阶段、中国国家申请号为201880013522.1、专利技术名称为“一种用于带电粒子束成像的装载锁定系统”的专利技术专利申请的分案申请。
[0002]本专利技术涉及一种图案形成器件保持装置。更特别地,本专利技术涉及一种带电粒子束系统的图案形成器件保持装置。
技术介绍
[0003]以下描述和示例不因为在此
技术介绍
章节中提及而被承认为现有技术。
[0004]为了增强半导体器件(诸如集成电路(IC)和存储器器件)的产量以及可靠度,检查经图案化晶片上的缺陷以避免这些缺陷已经是有意义的。物理缺陷(诸如外来粒子、刮痕缺陷、残差缺陷、桥接缺陷等)引起器件发生电气故障,例如短路或者断路。此外,由于开发深亚微米节点器件,新的并且更复杂的制造结构(诸如双镶嵌(dual damascene)结构和鳍式场效应晶体管(FinFET)结构)被用于半导体器件中。因此,在制造阶段期间出现包括潜在缺陷的新类型的缺陷(例 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于支撑器件的底部密封装载锁定装置,包括:粒子屏蔽板,位于所述器件上方,用于屏蔽来自与所述装置耦合的至少一个部件的至少一个非期望粒子,其中所述板具有最多达三个螺钉以进行固定;底部密封板,被设置在所述器件下方以支撑所述器件,其中所述板具有最多达三个螺钉以进行固定;以及多个位置检测单元,与所述底部密封板分离,用于通过将光束投射在所述器件上来检测所述器件的几何位置。2.根据权利要求1所述的装置,其中所述位置检测单元还包括接收器,所述接收器用于接收来自所述器件的反射信号。3.根据权利要求1所述的装置,其中所述位置检测单元能够是激光传感器。4.根据权利要求1所述的装置,还包括观察端口,所述观察端口位于所述位置检测单元与所述器件之间,以传递所述光束以及来自所述器件的反射信号。5.根据权利要求1所述的装置,其中所述几何位置至少包括所述器件的垂直位置。6.根据权利要求1所述的装置,还包括顶部密封板,所述顶部密封板被设置在所述器件上方以形成密封所述器件的空间。7.根据权利要求1所述的装置,还包括:顶部密封板,所述顶部密封板被设置在所述器件上方以形成密封所述器件的空间;以及观察端口,所述观察端口位于所述位置检测单元与所述器件之间,以传递所述光束以及来自所述器件的反射信号。8.根据权利要求1所述的装置,其中所述装置能够被耦合至装载锁定系统,所述装载锁定系统用于在所述底部密封装载锁定装置与低真空环境之间转移所述器件,其中所述装载锁定系统用于在检查工具中使用。9.根据权利要求1所述的装置,其中所述装置能够被安装在SORIL SEM中。10.一种检查系统,包括:带电粒子束发射器,用于发射初级带电粒子束;聚束器透镜,用于使所述初级带电粒子束聚束;物镜,用于聚焦所述初级带电粒子束以探测样本;多个偏转电极,用于跨所述样本的表面扫描所述带电粒子束探针;检测器,用于检测从所述样本表面产生的二次带电粒子;以及底部密封装载锁定装置,所述底部密封装载锁定装置被耦合至用于在真空腔室与大气环境之间转移器件的装载锁定系统,用于支撑器件,所述底部密封装载锁定装置包括:粒子屏蔽板,位于所述器件上方,用于屏蔽来自与所述装置耦合的至少一个部件的至少一个非期望粒子,其中所述板具有最多达三个螺钉以进行固定;底部密封板,所述底部密封板被设置在所述器件下方以支撑所述器件,其中所述板具有最多达三个螺钉以进行固定;以及多个位置检测单元,与所述底部密封板分离,用于通过将光束投射在所述器件上来检测所述器件的几何位置。11.根据权利要求10所述的系统,还包括顶部密封板,所述顶部密封板被设置在所述器件上方以形成密封所述器件的空间。12.根据权利要求10所述的系统,其中所述位置检测单元还包括接收器,所述接收器用
于接收来自所述器件的反射信号。13.根据权利要求10所述的系统,其中所述位置检测单元能够是激光传感器。14.根据权利要求10所述的系统,还包括观察端口,所述观察端口位于所述位置检测单元与所述器件之间,以传递所述光束以及来自所述器件的反射信号。15.根据权利要求10所述的系统,其中所述几何位置至少包括所述器件的垂直位置。16.根据权利要求10所述的系统,还包括:顶部密封板,所述顶部密封板被设置在所述器件上方以形成密封所述器件的空间;以及观察端口,所述观察端口位于所述位置检测单元与所述器件之间,以传递所述光束以及来自所述器件的反射信号。17.根据权利要求10所述的系统,其中所述装置能够被耦合至装载锁定系统,所述装载锁定系统用于在所述底部密封装载锁定装置与低真空环境之间转移所述器件,其中所述装载锁定系统用于在检查工具中使用。18.根据权利要求10所述的系统,其中所述装置能够被安装在SORIL SEM中。19.一种用于改善来...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄璿彬,吕俊良,凃进发,林文生,王友金,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:
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