将测量数据拟合至模型和对性能参数分布建模的方法以及相关联的设备技术

披露了一种将测量数据拟合至模型的方法。该方法包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将测量数据拟合至模型。以将测量数据拟合至模型。以将测量数据拟合至模型。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】将测量数据拟合至模型和对性能参数分布建模的方法以及相关联的设备
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2019年10月17日递交的欧洲申请19203752.1和2020年8月31日递交的欧洲申请20193618.4的优先权，上述欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。


[0003]本专利技术涉及用于在光刻过程中将图案应用至衬底的方法和设备。

技术介绍

[0004]光刻设备是将期望的图案应用至衬底上(通常应用至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。在这种情况下，可替代地被称为掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生待形成于IC的单独的层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常通过成像至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转移。一般而言，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻的目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，在所谓的步进器中，通过将整个图案一次曝光至目标部分上来照射每个目标部分；以及所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种将测量数据拟合至模型的方法，包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许所述测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于所述模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将所述测量数据拟合至所述模型。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述复杂性指标是所述模型参数的1
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范数或2
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范数，或者是加权的模型参数的1
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范数或2
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范数。3.如权利要求1所述的方法，其中，所述复杂性指标还包括：用于调节被包括于所述测量数据内的任何异常值的一个或更多个松弛变量以及用于对所述一个或更多个松弛变量加权的一个或更多个系数，所述测量数据与所述被拟合的模型之间的所述偏差被允许超过所述异常值的阈值。4.如权利要求3所述的方法，其中，所述一个或更多个系数是复杂性系数，所述复杂性系数能够被选择和/或优化以确定针对所述拟合的复杂性对所述异常值进行惩罚的程度。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据至少包括二维测量数据。6.如权利要求5所述的方法，其中，所述拟合的步骤包括：确定描述所述性能参数的空间分布的二维区别标识。7.如权利要求1所述的方法，还包括：限定用于所述复杂性指标的拉格朗日乘数，使用所述拉格朗日乘数将所述复杂性指标转换为拉格朗日函数，以及将所述拉格朗日函数转换为二次规划优化。8.如权利要求7所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿利亚斯加尔，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：