【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种机械手定位装置，主要应用于等离子体增强化学气象沉积设备中，用于完成真空机械手在反应腔和加热盘的定位，或在过渡腔和设备前端模块机械手的定位。属于半导体薄膜沉积应用及制备
技术介绍
在12寸转8寸的PECVD (等离子体增强化学气象沉积)设备中，EFEM机械手的手指是经处理的一头为圆角的平板，该平板在和真空机械手手指交接时，为了避免干涉，真空机械手手指需要做成叉形的。在进行定位时，传统方法是在EFEM的手指上放一片晶圆，伸入LoadLock真空机械手的上方，目视晶圆与下面手指四周的距离大致相等时，定位完成。真空机械手与加热盘定位时，在真空机械手上放一片晶圆，手指伸入加热盘上方，使晶圆与加热盘同心时，定位完成。由于晶圆尺寸较大，两种定位方法都需要反复观察晶圆四周的位置，由于观察角度不同等原因，而造成定位误差较大，其工作效率也不高。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的，主要解决现有等离子体增强化学气象沉积设备定位精度不高，效率低下的问题。为实现上述目的，本专利技术采用下述技术方案:机械手定位装置，该装置包括对中块主体(I),对中块主体(I)的四个边中有三条边制有挡边，上述对中块主体(I)上制有工艺孔(3)，在工艺孔(3)间制有观察孔(4)。上述工艺孔(3)为长方形；上述观察孔(4)为圆形。上述对中块主体(I)的四个边中的挡边，其相对的两个短边上制有长挡边(2)，在另外的一条长边上制有短挡边(11)。上述对中块主体(I)上的观察孔(4)设在两个工艺孔(3)中间的位置。上述对中块主体上的观察孔的位置是经过精心设计的，当对中块主体的三...
【技术保护点】
一种机械手定位装置，其特征在于：该装置包括对中块主体（1），对中块主体（1）的四个边中有三条边制有挡边，上述对中块主体（1）上制有工艺孔（3），在工艺孔（3）间制有观察孔（4）。
【技术特征摘要】
1.一种机械手定位装置，其特征在于:该装置包括对中块主体(1)，对中块主体(I)的四个边中有三条边制有挡边，上述对中块主体(I)上制有工艺孔(3)，在工艺孔(3)间制有观察孔(4)。2.如权利要求1所述的机械手定位装置，其特征在于:上述工艺孔(3)为长方形；上述观察孔(4)为圆形。...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜葳，廉杰，芦佳，
申请(专利权)人：沈阳拓荆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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