The present invention relates to a method for plating a circuit board comprises the following steps: S10, DUT and TC provide a circuit board; S20: set hard gold thickness target K; S30: according to the target value of K hard gold thickness, the first plating on the circuit board; S40: measurement of DUT area and TC bit hard gold thickness, if the thickness of DUT hard gold area is greater than the target value K, TC hard gold thickness and the target value is less than K, then executing step S50; S50: anti plating protective layer is arranged in the DUT region; S60: according to the thickness of the target value of K hard gold, second electroplating on the circuit board; S70: measurements of TC hard gold thickness, if the thickness of hard gold TC position is greater than the target value K, execute the subsequent production steps. The electroplating method of the circuit board can not only avoid the appearance of the DUT zone, but also ensure that the hard gold thickness of the TC bit is sufficient and the electroplating effect is good.
【技术实现步骤摘要】
电路板电镀方法
本专利技术涉及电路板生产
,特别是涉及一种电路板电镀方法。
技术介绍
在生产电路板的过程中,客户对电镀硬金厚度有一定的要求。受电力线分布的影响,电路板上孤立的DUT(半导体器件)区电流集中,导致DUT区的硬金厚度过大,容易出现渗金的不良现象。而TC(晶体管单元)位的硬金厚度容易不足,无法满足生产要求。
技术实现思路
基于此,本专利技术在于克服现有技术的缺陷,提供一种电路板电镀方法,一方面避免DUT区出现渗金,另一方面保证TC位的硬金厚度足够。一种电路板电镀方法,包括以下步骤:S10:提供具有DUT区和TC位的电路板;S20:设定硬金厚度目标值K;S30:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第一次电镀;S40:测量DUT区和TC位的硬金厚度,若DUT区的硬金厚度大于目标值K,且TC位的硬金厚度小于目标值K,则执行步骤S50;S50:在DUT区上设置防电镀保护层;S60:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第二次电镀;S70:测量TC位的硬金厚度,若TC位的硬金厚度大于目标值K,则执行后续生产步骤。上述电路板电镀方法,首先对电路板进行第一次电镀使得DUT区的硬金厚度满足生产要求,接着在DUT区上设置防电镀保护层避免再次电镀,最后对电路板进行第二次电镀使得TC位的硬金厚度满足生产要求。如此,既能避免DUT区出现渗金,又能保证TC位的硬金厚度足够,电镀效果好。进一步地,在步骤S40中,若DUT区的硬金厚度小于目标值K,且TC位的硬金厚度小于目标值K,则重新执行步骤S30。第一次电镀可为多次,对电路板进行第一次电镀直至DUT区的硬金厚度满足生产要求,确 ...
【技术保护点】
一种电路板电镀方法,其特征在于,包括以下步骤:S10:提供具有DUT区和TC位的电路板;S20:设定硬金厚度目标值K;S30:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第一次电镀;S40:测量DUT区和TC位的硬金厚度,若DUT区的硬金厚度大于目标值K,且TC位的硬金厚度小于目标值K,则执行步骤S50;S50:在DUT区上设置防电镀保护层;S60:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第二次电镀;S70:测量TC位的硬金厚度,若TC位的硬金厚度大于目标值K,则执行后续生产步骤。
【技术特征摘要】
1.一种电路板电镀方法,其特征在于,包括以下步骤:S10:提供具有DUT区和TC位的电路板;S20:设定硬金厚度目标值K;S30:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第一次电镀;S40:测量DUT区和TC位的硬金厚度,若DUT区的硬金厚度大于目标值K,且TC位的硬金厚度小于目标值K,则执行步骤S50;S50:在DUT区上设置防电镀保护层;S60:根据硬金厚度目标值K,对电路板进行第二次电镀;S70:测量TC位的硬金厚度,若TC位的硬金厚度大于目标值K,则执行后续生产步骤。2.根据权利要求1所述的电路板电镀方法,其特征在于,在步骤S40中,若DUT区的硬金厚度小于目标值K,且TC位的硬金厚度小于目标值K,则重新执行步骤S30。3.根据权利要求1所述的电路板电镀方法,其特征在于,在步骤S40中,若DUT区的硬金厚度大于目标值K,TC位的硬金厚度大于目标值K,则执行后续生产步骤。4.根据权利要求1所述的电路板电镀方法,其特征在于,在步骤S...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱勇萍,宫立军,
申请(专利权)人:广州兴森快捷电路科技有限公司,深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司,宜兴硅谷电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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