处理基底的方法和装置制造方法及图纸

为了达到在基底上有均匀的涂层，本发明专利技术涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的，其中基底固定在一个基底座（５）上，从而使得待涂基底表面（１５）裸露着，并使基底随基底座旋转，还有一个封盖（２０）可以固定在基底座上，该封盖与基底座共同形成一个封闭的用于基底的腔室。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于涂覆基底的方法和装置，此处基底这样固定在一个基底座上，从而使待涂层的基底表面裸露着并使基底随基底座旋转。这样一种装置例如由EP-A0711108就已知了。这种装置包括有一个预涂漆站，其中有一个指向下的待涂基底表面运动经过一个供漆的毛细间隙，以便给基底表面涂上漆。接着基底运动至一个离心机站并在一个保护环内旋转或者离心分离，该保护环用于从基底导出分离的余漆。DE-A-19545573表示了一种在一个基底上均匀涂覆漆层的装置，其中基底使待涂面指向上面放置在一个转盘上。在离心旋转过程中至少部分地盖住基底的一个帽盖就从上面以一个小的间距移动到基底上方或者直接定位在基底上。同样由DE-A-9218974已知有一种装置，它借助一种离心装置将薄的涂层，例如漆层涂覆在一个基底上。这种装置有一个转盘，待涂基底就放在这转盘上，待涂表面指向上面。帽盖可以从上面起定位在这转盘上，以便形成一个空腔来接纳基底。此时在帽盖和转盘之间所形成的空腔经过转盘里的透孔与环境相连接。此外在帽盖上设有弹性的封盖板条，这些板条与基底的指向上面的棱边接触，以便在封盖和基底之间形成一个空腔。US-A-5042421说明了一种旋转头装置，用于以对半导体进行涂层，它有一个转盘用于支承住圆片和一个围住这圆片的圆盘，这个圆盘可以固定在转盘上。DE-A-4024642还说明了一种用于接纳基底的转盘，借助于真空使这基底固定在转盘上。这些装置的问题在于，通过离心分离过程所达到的涂层厚度的均匀性并不总是足够的好。因此本专利技术的任务就是提出和创造一种上面所述种类的方法和装置，用于处理基底，可以使待处理的基底表面实现均匀的涂层。按照本专利技术解决所提出任务的方法是设有一个可固定在基底座上的封盖，它与基底座共同形成一个密封的接纳基底的空腔。通过这可以固定在基底座上的封盖就在基底座和封盖之间实现了对基底所规定的环境条件。尤其是在腔室内部形成了一个直立区域，从而使位于直立区域内的气体，例如空气，与基底座和固定在上面的封盖一起旋转。另外使旋转过程中指向基底的封盖面之间的距离保持在一个不变的规定的值。这样就使在基底和处在空腔内的气体之间的相对运动和涡流减至一个最小值，这就使基底的涂层很均匀。而是否这整个待涂的基底表面都要预涂或者只是局部范围，例如基底表面的中间部位预涂，并借助于旋转过程实现完全涂层，这些都并不重要。对基底所规定的环境条件还允许使涂层内所含的溶剂实现均匀的逐步的脱干，它是使待涂表面指向下保持着，此外还确保了由基底分离出的涂层介质不与基底的侧棱边或背面相接触。为了确保将基底固定住在基底座里，又不损坏待涂的基底表面，基底座具有一个夹持装置，用负压将基底夹持住。按照本专利技术的一种优选的实施形式，基底座还有一个夹持装置，用负压将封盖夹持住。比较有利的方式是使基底的夹持装置和封盖用一个共同的负压供给装置相连接，以便只需要设置一个真空源，例如一个真空泵。同时这基底和封盖用的夹持装置最好可以相互独立地控制，例如经由一个阀门单元，因为封盖只是为了旋转过程或者说离心分离过程而固定在基底座上，而基底则在较长时间内，尤其是也在预涂层时，就夹持在基底座上。为了在基底座和封盖之间实现一种良好的规定的负压区并因而实现良好的夹持固定，在基底座和封盖之间设有密封。在本专利技术的一种实施形式中，在基底座里有一个凹处，至少部分地用于接纳基底，由此可以实现基底相对于夹持座的对中。此外这凹处还可以用于旋转过程时或者说离心分离过程时对基底的侧向固定。该装置最好有一个用于使封盖和基底座相互对中的对中装置，以便确保封盖与基底座以及与基底的规定位置。为使对中简单而经济，对中装置最好至少有一个对中斜面在封盖上和/或在基底座上。为了阻止在基底座旋转时封盖相对于基底座的不平衡和侧向移动，封盖最好对于中心轴线是对称的。对于本专利技术的一种特别优选的实施形式来说，在封盖的限定空腔的零部件的外面部位里设计了一个空缺，以便形成一个足够的空间用于离心分离出的余漆。在外面部位里形成这空缺就确保了通过旋转时产生的离心力使余漆可靠地从基底部位以及也从基底座部位引导走开，以保护它免受污染。同时最好使这空缺向外逐渐缩小，从而使指向基底座的面形成倒角。这样可以使漆从基底和从盘座的导出进一步改善。在本专利技术的另一种特别优选的实施形式中，封盖对于其水平的中间平面是对称的，而且有一个装置用于使封盖翻转，从而使封盖可以用在第一个位置上和一个翻转180°的位置上。最好有一个高度可以调整的接纳件用于夹持封盖，以便使这封盖在这旋转过程之间夹持住，在旋转过程中它就固定在基底座上。为了能够在每次离心旋转过程期间或者之间清洗封盖，要为这封盖设置一个冲洗装置和/或干燥装置。这种冲洗和/或干燥就阻止了由于粘附在封盖上的污物而使随后要处理的基底弄脏。在本专利技术的一种特别优选的实施形式里冲洗装置和/干燥装置是接纳件的一部分，至少具有一个指向封盖和/或空缺处的喷嘴。喷嘴指向空缺处是特别有利的，因为如上所述，余漆优先聚集在这些空缺里，而且如果它们不清洗的话，那么时间久了就会装满的。最好至少有一个喷嘴可以用一种含有溶剂的冲洗液来进行冲洗，以便除去余漆。冲洗之后最好使干燥液经过同一个或者另外一个喷嘴指向封盖，使其变干。按本专利技术的任务也通过一种处理基底的方法来解决，此处这基底夹持在一个基底座上，从而使待处理的基底表面裸露着并指向下，而且这基底随基底座而旋转，解决的办法是使一个封盖固定在基底座上，封盖与基底座一起就形成了一个用于基底的密闭腔室。由于封盖固定在基底座上而且形成了封闭的腔室，因而就得出了上面所述的优点。在本专利技术的一种特别有利的实施形式里，封盖的背离基底的面在旋转过程中受到冲洗和/或干燥。由于冲洗和/或干燥与旋转过程同时进行就节省了时间，因为冲洗和/或干燥不一定要在一个中间步骤里进行。此外，由旋转过程而产生的离心力也推动了冲洗和/或干燥。最好使封盖在前后紧随的旋转过程之间翻转，从而使封盖总是有一个干净面指向待处理的基底，而由于以前的旋转过程而弄脏的面则背离基底，而且可以进行清洗。本专利技术尤其适合于薄涂层技术，尤其用于制造液晶显示屏、用于半导体制造的掩膜、半导体基底物或陶瓷基底物，以便使那里的矩形或圆形的板有一层均匀的漆涂层或者用其它的首先是流体介质制成的涂层，例如滤色片或者专门的保护涂层。以下根据优选的实施例参照附图对本专利技术进行说明，图中所示为附图说明图1按本专利技术的一种装置示意图，其中一个支承着基底的基底座和一个封盖是相互分离开的；图2按照图1所示的按本专利技术装置的另一示意图，其中封盖与基底座处于接触；图3按图1所示的本专利技术装置的另一示意图，其中封盖固定在基底座上，并随着盘座而旋转。图4按图1所示的本专利技术装置的另一示意图，其中封盖又与基底座分离开，而基底座从封盖处移动离开；图5按本专利技术的封盖和封盖的接纳件示意图，其中封盖表示在翻转过程中；图6按本专利技术的封盖和封盖接纳件示意图，此时封盖放下在接纳件上；图7用放大截面图表示了本专利技术的另一种实施例，草图表示了基底座和封盖；图8按图7所示按本专利技术的封盖的一个俯视图；图1至6表示了按本专利技术的涂层装置1的功能流程。装置1主要包括有一个基底接纳和运输单元2和一个封盖单元3。接纳和运输单元2具有一个未详细表示出的运输装本文档来自技高网...

【技术保护点】
对基底（１３）进行涂层的装置（１），它有一个基底座（５），基底就夹持在这盘座上，从而使待涂的基底表面（１５）裸露着并指向下；它还有一个使基底座（５）转动的装置，其特征是有一个可以固定在基底座（５）上的封盖（２０），它与基底座（５）一起形成一个密封的安放基底（１３）的腔室（３６）。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：P德雷斯，K阿皮希，P克劳斯，J塞克雷施，R韦兴，
申请(专利权)人：施蒂格哈马技术股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]