基底处理装置制造方法及图纸

技术编号:3237890 阅读:176 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种在用于有机发光二极管的基底上形成薄层的基底处理装置,该装置包括掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室。所述掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室的内部安装有传送导轨,而且,用于支撑基底的基底支架沿着传送导轨在这些室内或这些室之间移动。因此,缩短了用于处理基底的时间,并减小了上述装置所占的面积。另外,将上述这些室分成一个或多个组,并在分组的室之间安装闸门阀,以用于打开和关闭分组的室之间的通道。因此,在维修任意室时,其它室可以继续维持为真空状态。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基底处理装置。具体地说,本专利技术涉及这样一种实施工艺处理的装置,其在应用于有机发光二极管的基底上形成薄膜。
技术介绍
最近,信息处理设备正在迅速发展,它们具有各种形状和快速处理数据的功能。这类信息处理设备具有用于显示被处理信息的显示装置。这样的显示装置主要是采用阴极射线管型显示装置,但是,与阴极射线管型显示装置相比,平板显示装置具有重量轻、尺寸紧凑等各种特性,最近也被用作信息处理设备的显示装置。尤其引人注意的是,与液晶显示相比,有机发光二极管(OLED)具有各种优点,例如,厚度薄、能耗低、图象质量清晰、响应速度快,等等。这是因为,OLED不需要单独的逆光元件(backlight unit)。为了制造上述OLED,需要很多工艺处理,且主要采用集群型(cluster type)装置来完成这些工艺处理。在集群型装置中,将处理室布置成圆形,用于在处理室之间传送基底的机械手位于该圆形的中央。但是,由于基底是由机械手传送的,所述工艺处理需要多次将基底从处理室卸载以及将基底载入处理室。另外,当处理室的数量增多、基底尺寸变大时,所述集群型装置所占的面积也要增大
技术实现思路
本专利本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种基底处理装置,包括:多个处理室,该处理室包含多个沉积室,每个沉积室具有穿透侧壁的开口;传送导轨,其安装在所述沉积室内的上部;至少一个基底支架,当基底在所述沉积室之间移动以及对基底进行处理时,该基底支架支撑着基底, 该基底支架连接于所述传送导轨,且沿着所述传送导轨移动;以及沉积材料供给部件,用于向基底支架所支撑的基底提供沉积材料,该沉积材料供给部件设置在沉积室内的传送导轨的下方,其中,所述基底支架经由所述开口、沿着所述传送导轨在处理室之 间移动,在连接于传送导轨的基底支架支撑着基底的时候,对该基底进行处理。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:安基喆郑领哲河泰荣张祯元卢一镐李承培
申请(专利权)人:细美事有限公司
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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