一种深紫外光学薄膜基底的处理方法技术

本发明专利技术涉及一种深紫外光学薄膜基底的处理方法，包括以下步骤：在第一超声波水槽中加入洗涤剂，将基底在该第一超声波水槽中进行清洗；将基底按照频率由低到高，依次放入频率不同的多个超声波水槽内进行清洗；在慢拉脱水水槽中对基底进行慢拉脱水；对基底进行高纯氮气吹干；对基底进行紫外灯辐照处理。本发明专利技术的深紫外光学薄膜基底的处理方法，能够实现亚微米级以上的污染物粒子清洗及表面碳氢化合物的有效去除；由于优化选择了超声波的清洗频率，使清洗后的软性基底表面粗糙度和光学性能不受影响；在清洗过程中，不使用易燃易爆的有机溶剂清洗，避免了传统手工擦拭对实验员的人体毒害。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及准分子级光学薄膜基底表面处理
，具体涉及。
技术介绍
随着ArF准分子激光在材料精细加工、深紫外光刻、材料处理和准分子医疗等诸多领域越来越广泛的应用，迫切需要研制出在深紫外波段范围内低损耗、高聚集密度及长寿命的光学薄膜。为了制备出满足上述性能要求的薄膜光学元件，基底表面不能有污染，否则膜与基底表面不能很好的粘附，降低薄膜的附着力。并且在超光滑基底表面上有微米级粒子时，将导致膜层质量下降，进而产生严重的损耗，可能会降低薄膜激光损伤阈值；此外当污染物微粒的尺寸与光波波长相当或更小时，由于其小尺寸效应及表面效应，将导致吸收显著增加，并产生吸收峰的等离子共频移。这些情况都可能使基底性能不稳定，导致在使用此基底镀膜时产生的有害影响，所以准分子级光学薄膜基底需要更细致清洗处理。基底表面的清洗可以用各种方法完成，如溶剂清洗、紫外灯清洗、等离子体清洗、和超声波清洗等。但是每一种方法都有其适用范围，溶剂清洗有最大的实用范围，但在许多情况下，特别当溶剂本身就是污染物时，它就不适用了。紫外灯清洗是利用紫外灯的照射波长183. 9nm和253.1xm的光照射基底，基底表面的氧分子被分解本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种深紫外光学薄膜基底的处理方法，该方法适用的处理装置包括频率不同的多个超声波水槽和慢拉脱水水槽，其特征在于，包括以下步骤：步骤i：在第一超声波水槽中加入洗涤剂，将基底在该第一超声波水槽中进行清洗；步骤ii：将基底按照频率由低到高，依次放入频率不同的多个超声波水槽内进行清洗；步骤iii：在慢拉脱水水槽中对基底进行慢拉脱水；步骤iv：对基底进行高纯氮气吹干；步骤v：对基底进行紫外灯辐照处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金春水，常艳贺，李春，邓文渊，靳京城，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：