运送基片通过基片处理装置的装置制造方法及图纸

运送基片（７）通过基片处理装置（１１）用的装置，所配的一条底输送带（２）和两条侧输送带（４，６）各自都具有用于垂直容纳基片（７）的凹槽，因此该装置的构造特别简单而灵活。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种运送基片通过基片处理装置用的装置。这类用于运送基片特别是CD基片通过冷却和干燥装置的装置是大家所熟悉的。基片此时处于在圆形轨道上移动的篮子内或者处于圆形装置上相应设计的缝隙内。然而这种旋转输送装置尺寸很大并且需要大的驱动装置，因此这种已知的装置造价昂贵。此外，在这种旋转输送装置上基片的装卸都是很困难的，而且设计费用高。对于开头描述的那类装置，已知有使用一螺旋叶片轴的。它自身旋转，从而将放在螺旋叶片螺距内的基片同时向前带动。然而它有这样的缺点，即螺旋叶片轴和基片之间的相对运动和由此产生的摩擦会造成磨损，从而引起沾污。在本专利技术所依据的DE 43 41 634 A1中，公开了一种用来在一基片处理装置中输送盘状基片的装置，它配有三条齿带，借以将基片送过一个处理装置。这种装置总是专为用于一种基片形状和大小而设计的，所以不适用于改变的情况，例如不适用于不同的基片大小。US 4 947 784公开了一种装置，用于从第一基片存放器(基片盒)将基片转移到第二基片存放器(基片舟)。这一种所谓的基片运送装置既不能配置用来也不适合用来输送基片通过一个处理装置。DE 195 30 本文档来自技高网...

【技术保护点】
运送基片通过基片处理装置用的装置，配有一条底输送带（２）和两条侧输送带（４，６），它们各自具有用于垂直容纳基片（７）的凹槽，其特征在于：侧输送带（４，６）彼此之间的间距和／或与底输送带（２）的间距是可变的。

【技术特征摘要】
DE 1997-4-17 19716123.51.运送基片通过基片处理装置用的装置，配有一条底输送带(2)和两条侧输送带(4，6)，它们各自具有用于垂直容纳基片(7)的凹槽，其特征在于侧输送带(4，6)彼此之间的间距和/或与底输送带(2)的间距是可变的。2.如权利要求1中所述的装置，其特征在于至少一条侧输送带(4，6)的输送平面与底输送带(2)的输送平面之间所成的角是可改变的。3.如权利要求1或2中所述的装置，其特征在于凹槽是设计为齿带的输送带(2，4，6)的齿间间隙。4.如以上权利要求之一中所述的装置，其特征在于两条侧输送带(4，6)的输送平面与底输送带(2)的输送平面形成一个大于90°的角。5.如以上权利要求之一中所述装置，其特征在于各输送带分别经过转向轮和传动轮或传动辊带动。6.如以上权...

【专利技术属性】
技术研发人员：K维伯尔，B玛纳尔，
申请(专利权)人：施蒂格哈马技术股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]