运送基片通过基片处理装置的装置制造方法及图纸

运送基片（７）通过基片处理装置（１１）用的装置，所配的一条底输送带（２）和两条侧输送带（４，６）各自都具有用于垂直容纳基片（７）的凹槽，因此该装置的构造特别简单而灵活。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种运送基片通过基片处理装置用的装置。这类用于运送基片特别是CD基片通过冷却和干燥装置的装置是大家所熟悉的。基片此时处于在圆形轨道上移动的篮子内或者处于圆形装置上相应设计的缝隙内。然而这种旋转输送装置尺寸很大并且需要大的驱动装置，因此这种已知的装置造价昂贵。此外，在这种旋转输送装置上基片的装卸都是很困难的，而且设计费用高。对于开头描述的那类装置，已知有使用一螺旋叶片轴的。它自身旋转，从而将放在螺旋叶片螺距内的基片同时向前带动。然而它有这样的缺点，即螺旋叶片轴和基片之间的相对运动和由此产生的摩擦会造成磨损，从而引起沾污。在本专利技术所依据的DE 43 41 634 A1中，公开了一种用来在一基片处理装置中输送盘状基片的装置，它配有三条齿带，借以将基片送过一个处理装置。这种装置总是专为用于一种基片形状和大小而设计的，所以不适用于改变的情况，例如不适用于不同的基片大小。US 4 947 784公开了一种装置，用于从第一基片存放器(基片盒)将基片转移到第二基片存放器(基片舟)。这一种所谓的基片运送装置既不能配置用来也不适合用来输送基片通过一个处理装置。DE 195 30 858 c1也公开了一个运送装置，在其上基片借助于一个吸盘而被输送。在DE 195 29 945 A1所公开的运送装置上，借助一个内卡爪对扁平的基片实现夹持，其上的卡爪卡入一个设计在基片内区的孔中并且支撑在内区孔的边缘上。本专利技术的任务在于如此改进发展由DE 43 41 634 A1所公开的一种装置，即使得该装置能适合不同的情况，例如能简单地适合不同大小的基片。上述任务根据本专利技术是通过权利要求1中所述特征加以解决的。通过两条侧输送带彼此之间的和/或相对于基本输送带的可变间距，该装置不仅适合于各种情况特别是不同的基片大小，而且对基片的可靠夹持和输送至关重要的间距能以简单的方式实现校准。本专利技术的另一个优选的实施形式是两条侧输送带的输送平面和底输送带的输送平面之间的角度是可变的。这样，在输送带内被输送的基片的支点可实现最佳调节。此外，该装置可利用简单的机构来适应不同的基片形状和大小，不论基片是圆形的还是六角形的。对于六角形基片，两条侧输送带的输送平面和底输送带的输送平面之间的角度最好是90°。因此本专利技术的任务在于提供一种装置，用来运送基片通过一个基片处理装置，以之可避免一种旋转形式的、在一个圆形轨道上实现的基片移动或基片磨损，且其结构简单、节省场地、操作容易。上述任务根据本专利技术是通过一条底输送带和两条侧输送带加以实现的，它们各自都有用于垂直容纳基片的凹槽。根据符合本专利技术的特征，应用三条输送带造成基片直线移动，其优点是装置简单，节省场地，且没有磨损，此外还易于适应任一情况，例如适应任一基片的尺寸。根据本专利技术的一个特别有利的实施例，用于垂直容纳基片的凹槽，是设计为齿带的输送带的齿间间隙。这种齿带的生产成本是很合算的。为了适配本专利技术提出的输送装置，侧输送带相对于底输送带的间距是可以改变的。通过调整侧输送带相对于底输送带的间距，即可简单地使本装置适应不同的基片大小。在圆形基片例如CD或DVD的情况下，若两条侧输送带的输送平面与主输送带的输送平面所成的角大于90°则尤其有利。这样，基片可以简单放入本专利技术的输送装置，又可简单从其中取出，而且在输送装置中基片的保持是安全可靠的。各输送带最好分别经过导向和传动轮来引导，如果各输送带或者至少其中一条输送带在背向输送平的一侧也就是传动侧，也是设计为齿带的话，则导向和传动轮尤其可以是齿轮。输送带的双面齿带结构因此是很有利的。本专利技术的一个有利的结构形式是三条输送带中的每一条都在自己的输送带装置中运行并且利用自己的驱动装置来驱动。这样，各个输送带装置都是独立的单元，因此输送带可针对不同的基片进行布置、配合和对准。很利的一种结构形式是三条输送带的驱动互相同步地加以控制。由此不仅使所有三条输送带获得相同的传动速度，而且使得用于容纳基片的凹槽同步对准。代替同步控制，三个输送装置或者说三条输送带的传动，也可以通过一个共同的传动齿轮箱最好是无间隙的传动齿轮箱来执行，以便亦能确保三条传动带及其用于容纳基片的凹槽的同步运动。该传动齿轮箱此时可由所有三条输送带共用的驱动装置来驱动。与基片相接触的输送带或者至少输送带的某些部分，最好用一种可避免沾染的特殊材料特别是聚四氟乙烯做成，或者用一种对受沾染不敏感及容易清理的材料做成。为了在本专利技术提出的输送装置即三条输送带上装卸基片，最好采用吸盘夹紧器和/或内卡紧器，内卡紧器例如卡紧在CD的内孔边缘上。此种卡紧器构造简单并能防止处理过程后基片再受沾染。本专利技术提出的输送装置尤其与基片干燥器或冷却器相结合时具有特殊的优点，这种干燥器和冷却器主要用在CD生产中。关于基片应可理解为一切圆片状的被处理物，即不仅指的是各类CD包括音响-CD，只读存储器-CD，所谓的可录CD(CDR)，数字式影碟(DVD)等，而且指的是生产半导体元器件、显示装置等用的掩模。下面将参照附图并就一个实施例对本专利技术做更详细的说明。附图表示附图说明图1本专利技术提出的与用于干燥CD的干燥装置相配套的输送装置侧视图，图2图1所示装置的俯视图，图3沿着图1中所示的切线III-III的放大断面图，图4沿着图1中所示切线IV-IV的放大断面图。如各图所示，本专利技术提出的装置具有一个带有一条底输送带2的第一输送带装置1，一个带有一条侧输送带4的第二输送带装置3，和一个带有另一条侧输送带6的第三输送带装置5。输送带2，4，6都具有用于容纳基片7的凹槽或者说齿带的齿隙，在所有三条输送带上都设有齿带。特别如图1和图4所示，输送带2，4，6的驱动是借助一个共同的驱动装置8来实现的，该驱动装置经过一传动带9来驱动传动齿轮箱10，后者本身同步带动三条输送带2，4，6。根据所示本专利技术提出的用于干燥基片的运送装置结构形式，配置了一个覆盖着运送装置长度大部分的通风机11，借此既可将由通风机11加热的空气也可将由外部导入的已加热的空气吹向连续地或间歇地送到输送带2，4，6上的基片7上以用于干燥。使用过的干燥空气从出口11，12处的干燥箱中排出。本专利技术已根据一个优选的实施例加以说明了。然而对专家来说还可有许多变体和发展，但不因此脱离本专利技术的构思。例如输送带单元1，3，5可设计成彼此独立的，因此它们在位置上可互相改变，以便能将同一输送装置用于不同基片7。从所述的实施例来说，基片7是圆形的，并且侧输送带4，6与底输送带2的输送平面形成一个大于90°的角，因此基片7以基片圆盘下半部的三个点被稳妥地支持着。对于较大的圆形基片7，侧输送带单元3，5仅进一步向外错移，并且也可改变侧输送带单元与底输送带2所成的角，以便仍可确保基片获得一个尽可能的最佳支撑。在基片是正方形或矩形的情况下，侧输送带单元是如此布置或回转的，使得侧输送带4，6垂直于底输送带2的输送带平面定位。本文档来自技高网...

【技术保护点】
运送基片通过基片处理装置用的装置，配有一条底输送带（２）和两条侧输送带（４，６），它们各自具有用于垂直容纳基片（７）的凹槽，其特征在于：侧输送带（４，６）彼此之间的间距和／或与底输送带（２）的间距是可变的。

【技术特征摘要】
DE 1997-4-17 19716123.51.运送基片通过基片处理装置用的装置，配有一条底输送带(2)和两条侧输送带(4，6)，它们各自具有用于垂直容纳基片(7)的凹槽，其特征在于侧输送带(4，6)彼此之间的间距和/或与底输送带(2)的间距是可变的。2.如权利要求1中所述的装置，其特征在于至少一条侧输送带(4，6)的输送平面与底输送带(2)的输送平面之间所成的角是可改变的。3.如权利要求1或2中所述的装置，其特征在于凹槽是设计为齿带的输送带(2，4，6)的齿间间隙。4.如以上权利要求之一中所述的装置，其特征在于两条侧输送带(4，6)的输送平面与底输送带(2)的输送平面形成一个大于90°的角。5.如以上权利要求之一中所述装置，其特征在于各输送带分别经过转向轮和传动轮或传动辊带动。6.如以上权...

【专利技术属性】
技术研发人员：K维伯尔，B玛纳尔，
申请(专利权)人：施蒂格哈马技术股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]